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湖南武清區(qū)真空鍍膜機

來源: 發(fā)布時間:2021-10-22

【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料: 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本:生產(chǎn)過程中,水、電的消耗是相當da的,特別是在氧化工序。機器本身的熱耗,需要不停地用循環(huán)水進行降溫,噸電耗往往在1000度左右。 環(huán)境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時在鋁電解生產(chǎn)中,陽極效應還會產(chǎn)生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)?湖南武清區(qū)真空鍍膜機

【真空鍍膜之金屬拉絲】金屬拉絲:是指通過研磨產(chǎn)品在工件表面形成線紋,并且起到裝飾效果的一種表面處理手段。根據(jù)拉絲后紋路的不同可分為:直紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋 適用材料:幾乎所有的金屬材料都可以使用金屬拉絲工藝 工藝成本:工藝方法簡單,設(shè)備需求簡單,材料消耗比較少,成本比較低廉,經(jīng)濟效益尤其高 環(huán)境影響:純金屬制品,表面無油漆等任何化學化工物質(zhì),600度高溫不燃燒,不會產(chǎn)生有毒氣體,符合消防標準的環(huán)保要求 河南二手臥式真空鍍膜機磁控濺射真空鍍膜機是什么?

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級),濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前zui實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機設(shè)備與工藝濺鍍機由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputter gun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30- 40%,圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse), 直流:800-1000V(Max)導體用,須可災弧。 射頻:13.56MHZ,非導體用。 脈沖:泛用,zui新發(fā)展出

【真空鍍膜機概述】: 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構(gòu)造的五da系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設(shè)定目標值;因此,只有當三個條件同時滿足時,自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn);降低故障時間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機器利用率等。真空鍍膜機的主要用途?

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應速率的da小通過調(diào)整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機的應用領(lǐng)域。河南真空鍍膜機品牌

真空鍍膜機是什么樣的?湖南武清區(qū)真空鍍膜機

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度:10~30℃ 2、相對濕度:不da于70% 3、冷卻水進水溫度:不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì):城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?5、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動范圍342~399V或198V~231V,頻率波動范圍49~51Hz; 6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。 此外,真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。 湖南武清區(qū)真空鍍膜機

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