EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術和工藝以應對zui復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們今 天與AR領域的領 先者WaveOptics合作所要做的，以為zui終客戶提供真正可擴展的解決方案?！?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。聯(lián)電納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術生產(chǎn)應用

EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng)，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個平臺上，用于直徑最 大為300 mm的晶圓。它是第 一個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供最 大的自由度來配置他們的系統(tǒng)，以最 好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。

聯(lián)電納米壓印國內(nèi)用戶EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備支持晶圓級光學（WLO）的制造。

NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的最 具成本效益的方法，因為它不受光學光刻所需的復雜光學器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供最 佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。

EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術，可提供功能強大的下一代光刻技術，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當?shù)臅r間。

新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用

自動化壓花工藝

EVG專有的獨立對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應選項

外部浮雕和冷卻站

EVG ® 510 HE技術數(shù)據(jù)：

加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米

最 大基板尺寸：150毫米，200毫米

最小基板尺寸：單芯片，100毫米

最 大接觸力：10、20、60 kN

最 高溫度：標準：350°C；可選：550°C

夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)

150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

標準：0.1毫巴

可選：0.00001 mbar

EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。

    EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓印（NIL）技術創(chuàng)新孵化器，同時也是全球唯 一可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領先供應商EV集團（EVG）今 日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的世界領 先技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量。掩模對準納米壓印技術服務

EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作。聯(lián)電納米壓印國內(nèi)用戶

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

聯(lián)電納米壓印國內(nèi)用戶