HERCULES ® NIL特征：

全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過(guò)程和模板

HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：提供所有預(yù)處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應(yīng)各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。晶片納米壓印三維芯片應(yīng)用

EVG ® 770特征：

微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償

可選的自動(dòng)盒帶間處理

EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2

對(duì)準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm

首 個(gè)印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

有效印記區(qū)域：長(zhǎng)達(dá)50 x 50毫米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：涂層：液滴分配（可選）

青海納米壓印服務(wù)為先HERCULES NIL 300 mm提供市場(chǎng)上最 先 進(jìn)納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。

EVG ® 7200 LA特征：

專有SmartNIL ®技術(shù)，提供了無(wú)與倫比的印跡形大面積

經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強(qiáng)大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容

EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（最 大Gen3）（550 x 650毫米）

解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）

對(duì)準(zhǔn)：可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：≤±15 μm

自動(dòng)分離：支持的

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從最 大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫(xiě)入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)與倫比的吞吐量。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)先的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于最小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開(kāi)發(fā)

NILPhotonics能力中心是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。

歡迎各位客戶來(lái)樣制作，驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。

岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。光刻納米壓印值得買

EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造。晶片納米壓印三維芯片應(yīng)用

    ”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說(shuō)，“通過(guò)與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備專家們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?！薄癊VG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)領(lǐng)先企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說(shuō)道。“通過(guò)合作，我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù)，將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們最 新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用專家和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級(jí)光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級(jí)光學(xué)器件解決方案為移動(dòng)式消費(fèi)電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時(shí)間，結(jié)構(gòu)光，生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別,虹膜掃描，光學(xué)指紋，頻譜檢測(cè)，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內(nèi)感應(yīng)，激光雷達(dá)，內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像，眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人。EVG的晶圓級(jí)光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到。晶片納米壓印三維芯片應(yīng)用