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臺積電納米壓印摩擦學應用

來源: 發(fā)布時間:2021-07-19

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持最 新的UV-LED技術(shù)

■最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)。臺積電納米壓印摩擦學應用

臺積電納米壓印摩擦學應用,納米壓印

HERCULES ® NIL特征:

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

最多300毫米的基材

完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)

支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D

適用于高地形(粗糙)表面

*分辨率取決于過程和模板


HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/ 200和300毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準:≤±3微米

自動分離:支持的

前處理:提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


臺積電納米壓印摩擦學應用EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。

臺積電納米壓印摩擦學應用,納米壓印

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商,總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年,公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應用于汽車、消費類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產(chǎn)半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設備與工藝解決方案的領先供應商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)(NIL)與計量設備,,以及涂膠機、清洗機與檢測系統(tǒng)。EV集團創(chuàng)辦于1980年,可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。

EVG ® 770特征:

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理


EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

對準:頂側(cè)顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

首 個印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印記區(qū)域:長達50 x 50毫米

自動分離:支持的


前處理:涂層:液滴分配(可選)


EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制(制造)的第 一選擇。

臺積電納米壓印摩擦學應用,納米壓印

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個平臺上,用于直徑最 大為300 mm的晶圓。它是第 一個基于EVG的全模塊化設備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供最 大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以最 好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


岱美儀器代理的SmartNIL是一項關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應用中的許多新創(chuàng)新。臺積電納米壓印摩擦學應用

EVG提供不同的全 面積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。臺積電納米壓印摩擦學應用

UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)

EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產(chǎn)品線,包括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效,強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和最少的殘留層,并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。


這個系列的型號包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。 臺積電納米壓印摩擦學應用

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