SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。

*分辨率取決于過(guò)程和模板

如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 納米壓印設(shè)備哪個(gè)好？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。本地納米壓印推薦型號(hào)

EVG610特征：

頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力

高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)

自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制

電動(dòng)和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導(dǎo)

遠(yuǎn)程技術(shù)支持

多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版

EVG610附加功能：

鍵對(duì)準(zhǔn)

紅外對(duì)準(zhǔn)

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）

標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動(dòng)分離：不支持

工作印章制作：外部

EVG720納米壓印技術(shù)支持EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。

    ”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說(shuō)，“通過(guò)與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心。”“EVG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)**企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說(shuō)道?！巴ㄟ^(guò)合作，我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù)，將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們***產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級(jí)光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級(jí)光學(xué)器件解決方案為移動(dòng)式消費(fèi)電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是：3D感應(yīng)，飛行時(shí)間，結(jié)構(gòu)光，生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別,虹膜掃描，光學(xué)指紋，頻譜檢測(cè)，環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明，光地毯，平視顯示器，車內(nèi)感應(yīng)，激光雷達(dá)，內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像，眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人。EVG的晶圓級(jí)光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸，實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制?；谀壳凹{米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù)，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)，侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行刪除，謝謝?。?EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過(guò)量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識(shí)，EVG通過(guò)將納米壓印提升到一個(gè)新的水平來(lái)滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過(guò)程和模板 高 效，強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG720納米壓印技術(shù)支持

EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。本地納米壓印推薦型號(hào)

    在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場(chǎng)的晶圓級(jí)光學(xué)元件。（奧地利）與WINDACH（德國(guó)），2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球**的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場(chǎng)提供晶圓鍵合與光刻設(shè)備的供應(yīng)商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級(jí)光學(xué)元件(WLO)領(lǐng)域開(kāi)展合作。這兩家公司均在光學(xué)傳感器制造領(lǐng)域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設(shè)備與DELO先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費(fèi)類電子產(chǎn)品市場(chǎng)開(kāi)發(fā)與應(yīng)用新型光學(xué)設(shè)備，例如生物特征身份認(rèn)證，面部識(shí)別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國(guó)Windach的總部展開(kāi)合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應(yīng)鏈的客戶與合作伙伴提供了開(kāi)放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過(guò)合作來(lái)縮短創(chuàng)新設(shè)備與應(yīng)用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎(chǔ)設(shè)施包括**技術(shù)的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設(shè)備，例如分步重復(fù)母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術(shù)，晶圓鍵合與必要的測(cè)量設(shè)備。本地納米壓印推薦型號(hào)