EVG曝光光學：專門開發(fā)的分辨率增強型光學元件（REO）可提供高出50％的強度，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達到小于3μm的分辨率。REO的特殊設計有助于控制干涉效應以獲得分辨率。EVG最/新的曝光光學增強功能是LED燈設置。低能耗和長壽命是UV-LED光源的最/大優(yōu)勢，因為不需要預熱或冷卻。在用戶軟件界面中可以輕松、實際地完成曝光光譜設置。此外，LED需要僅在曝光期間供電，并且該技術消除了對汞燈經常需要的額外設施（廢氣，冷卻氣體）和更換燈的需要。這種理想的組合不僅可以最/大限度地降低運行和維護成本，還可以增加操作員的安全性和環(huán)境友好性。EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度，尺寸，形狀的晶圓和基片。LED光刻機原理

EVG ® 120--光刻膠自動化處理系統(tǒng)

EVG ® 120是用于當潔凈室空間有限，需要生產一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。

新型EVG120通用和全自動光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達200 mm / 8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設計，并帶有新開發(fā)的化學柜，可用于外部存儲化學品，同時提供更高的通量能力，針對大批量客戶需求進行了優(yōu)化，并準備在大批量生產（HVM）中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處，這是其他任何工具所無法比擬的，并保證了最/高的質量各個應用領域的標準，擁有成本卻非常低。

廣東光刻機可以用于研發(fā)嗎HERCULES對準精度：上側對準：≤±0.5 μm；底側對準：≤±1,0 μm；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材。

EVG ® 150特征：晶圓尺寸可達300毫米

多達6個過程模塊

可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆

多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載

可用的模塊包括旋轉涂層，噴涂，NanoCoat?，顯影，烘烤/冷卻/蒸氣/上等

EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了無與倫比的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層

可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層，長寬比最/高為1:10，垂直側壁

廣/泛的支持材料

烘烤模塊溫度高達250°C

Megasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘

光刻機軟件支持

基于Windows的圖形用戶界面的設計，注重用戶友好性，并可輕松引導操作員完成每個流程步驟。多語言支持，單個用戶帳戶設置和集成錯誤記錄/報告和恢復，可以簡化用戶的日常操作。所有EVG系統(tǒng)都可以遠程通信。因此，我們的服務包括通過安全連接，電話或電子郵件，對包括經過現(xiàn)場驗證的，實時遠程診斷和排除故障。EVG經驗豐富的工藝工程師隨時準備為您提供支持，這得益于我們分散的全球支持機構，包括三大洲的潔凈室空間：歐洲 (HQ), 亞洲 (日本) 和

北美 (美國). EVG通過不斷開發(fā)掩模對準器來為這些領域做出巨大的貢獻，以提高最重要的光刻技術的水平。

EVG®610 掩模對準系統(tǒng)

■   晶圓規(guī)格

：100 mm / 150 mm / 200 mm

■   頂/底部對準精度達到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm

■   用于雙面對準高/分辨率頂部和底部分裂場顯微鏡

■   軟件，硬件，真空和接近式曝光

■   自動楔形補償

■   鍵合對準和NIL可選

■   支持最/新的UV-LED技術

EVG®620 NT / EVG®6200 NT

掩模對準系統(tǒng)（自動化和半自動化）

■   晶圓產品規(guī)格

：150 mm / 200 mm

■   接近式楔形錯誤補償

■   多種規(guī)格晶圓轉換時間少于5分鐘

■   初次印刷高達180 wph / 自動對準模式為140 wph

■   可選獨立的抗震型花崗巖平臺

■   動態(tài)對準實時補償偏移

■   支持最/新的UV-LED技術 可以使用用于壓印光刻的工具，例如紫外光納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。中國香港光刻機學校會用嗎

EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經驗。LED光刻機原理

EVG也提供量產型掩模對準系統(tǒng)。對于在微米范圍內的光刻圖形，掩模對準器是最/具成本效益的技術，與其他解決方案相比，每層可節(jié)省30％以上的成本，這對用戶來說是至關重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以最/佳的成本效率與最/高的技術標準相結合，并由卓/越的全球服務基礎設施提供支持。最重要的是，大焦深曝光光學系統(tǒng)完美匹配大批量生產中的厚抗蝕劑，表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內，我們?yōu)樵S多客戶提供了量產型的光刻機系統(tǒng)，得到了他們的無數(shù)好評。LED光刻機原理

岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)等，價格合理，品質有保證。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力，努力學習行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。在社會各界的鼎力支持下，持續(xù)創(chuàng)新，不斷鑄造高品質服務體驗，為客戶成功提供堅實有力的支持。