世界領 先的衍射波導設計商和制造商WaveOptics今 天宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的領 先供應商，以帶來高性能增強現實（ AR）波導以當今業(yè)界zui低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。
WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現實行業(yè)的轉折點，是大規(guī)模生產高質量增強現實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現的能力?！?EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產品的市場價格將低于600美元?！斑@項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑?！?EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NIL，EVG?770，IQAligner?等。EVG納米壓印現場服務
EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從最
大50 mm x 50 mm的小模具到最 大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。 遼寧納米壓印可以試用嗎高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和最少殘留層，易于擴展的晶圓尺寸和產量。
EVG ® 620 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持最 新的UV-LED技術
最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術支持
多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 620 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
SmartNIL
μ接觸印刷技術數據
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：最 大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：最 大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范圍
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：
軟NIL：≤±0.5 μm
SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
用于大面積無與倫比的共形納米壓印光刻。
EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的最經濟有效的方法，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為最小的結構提供最 佳的圖案保真度。
SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借獨特且經過驗證的設備功能（包括無與倫比的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。
*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的獨立對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應選項
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術數據：
加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米
最 大基板尺寸：150毫米，200毫米
最小基板尺寸：單芯片，100毫米
最 大接觸力：10、20、60 kN
最 高溫度：標準：350°C；可選：550°C
夾盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標準：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。納米壓印輪廓測量應用
SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。EVG納米壓印現場服務
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以最小的占地面積提供了最
新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
EVG納米壓印現場服務
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