HERCULES NIL 300 mm提供了市場上最 先 進的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設備和應用程序的生產(chǎn)，包括用于增強/虛擬現(xiàn)實（AR / VR）頭戴式耳機的光學設備，3D傳感器，生物醫(yī)學設備，納米光子學和等離激元學。
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
最多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。三維芯片納米壓印有哪些應用
EV集團和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術在大體積增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術創(chuàng)新孵化器，同時也是全球唯 一可及的300-mm光刻/納米壓印技術線2019年8月28日，奧地利，圣弗洛里安――微機電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術和半導體市場晶圓鍵合與光刻設備領先供應商EV集團（EVG）今 日宣布，與特種玻璃和微晶玻璃領域的世界領 先技術集團肖特攜手合作，證明300-mm（12英寸）光刻/納米壓?。∟IL）技術在下一代增強現(xiàn)實/混合現(xiàn)實（AR/MR）頭戴顯示設備的波導/光導制造中使用的高折射率（HRI）玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓，將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術進行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板，裝配在應用SmartNIL?UV-NIL技術的EVG?HERCULES?。納米壓印國內用戶EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺，可用于進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。
在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球領先的為微機電系統(tǒng)、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，今 天宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于領先地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費類電子產(chǎn)品市場開發(fā)與應用新型光學設備，例如生物特征身份認證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設備與應用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎設施包括領先技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術，晶圓鍵合與必要的測量設備。
世界領 先的衍射波導設計商和制造商WaveOptics今 天宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的領 先供應商，以帶來高性能增強現(xiàn)實（ AR）波導以當今業(yè)界zui低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關鍵光學組件。
WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉折點，是大規(guī)模生產(chǎn)高質量增強現(xiàn)實解決方案的關鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力?！?EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術的結合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價格將低于600美元?！斑@項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。” SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現(xiàn)無與倫比的吞吐量。
SmartNIL是行業(yè)領先的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)無與倫比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。
注：*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 SmartNIL的主要技術是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。納米壓印芯片堆疊應用
SmartNIL集成多次使用的軟標記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留可擴展性和易于維護的特點。三維芯片納米壓印有哪些應用
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以最小的占地面積提供了最
新的掩模對準技術。操作員友好型軟件，最短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。
三維芯片納米壓印有哪些應用
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