輪廓儀的性能
測量模式
移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
樣 品 臺(tái)
150mm/200mm/300mm 樣品臺(tái)（可選配）
XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°
可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)
CCD 相機(jī)像素
標(biāo)配：1280×960
視場范圍
560×750um（10×物鏡）
具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機(jī)
光學(xué)系統(tǒng)
同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)
光 源
高 效 LED
Z 方向聚焦 80mm 手動(dòng)聚焦（可選電動(dòng)聚焦）
Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá) 10mm )
縱向分辨率 ＜0.1nm
RMS 重復(fù)性* 0.005nm，1σ
臺(tái)階測量** 準(zhǔn)確度 ≤0.75％；重復(fù)性 ≤0.1%，1σ
橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）
檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD 產(chǎn)能 : 45s/點(diǎn) （移動(dòng) + 聚焦 + 測量）（掃描范圍 50um）。實(shí)驗(yàn)室輪廓儀
1.3. 培訓(xùn)計(jì)劃
在完成系統(tǒng)布線并開始設(shè)備安裝后，即向甲方和業(yè)主介紹整個(gè)系統(tǒng)的概況及性能、特點(diǎn)、設(shè)備布置情況和相互之間的關(guān)系等，讓甲方和業(yè)主對(duì)整個(gè)系統(tǒng)有一個(gè)***的認(rèn)識(shí)。
在整個(gè)系統(tǒng)驗(yàn)收前后，安排有關(guān)人員在進(jìn)行培訓(xùn)。
1.4. 培訓(xùn)形式
公司指派技術(shù)人員向相關(guān)人員講解系統(tǒng)的原理、功能、操作及維修保養(yǎng)要點(diǎn)；
向受訓(xùn)學(xué)員提供和解釋有關(guān)設(shè)計(jì)文件及圖紙等資料，使學(xué)員對(duì)系統(tǒng)的各個(gè)方面都能熟練掌握；
針對(duì)系統(tǒng)的具體操作一一指導(dǎo)，使相關(guān)人員掌握技術(shù)要領(lǐng)；
對(duì)學(xué)員提出的問題進(jìn)行詳細(xì)解答；
晶圓片輪廓儀特點(diǎn)反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。
強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件
美國硅谷研發(fā)、中英文自由切換
光機(jī)電一體化軟硬件集成
三維分析處理迅速，結(jié)果實(shí)時(shí)更新
縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理
自主設(shè)定測量閾值，三維處理自動(dòng)標(biāo)注
測量模式可根據(jù)需求自由切換
三維圖像支持高清打印
菜單式參數(shù)設(shè)置，一鍵式操作，人機(jī)界面?zhèn)€性直觀
個(gè)性化軟件應(yīng)用支持
可進(jìn)行軟件在線升級(jí)和遠(yuǎn)程支持服務(wù)
10 年硅谷世界500強(qiáng)研發(fā)經(jīng)驗(yàn)（BD Medical
Instrument）
光學(xué)測量、軟件系統(tǒng)
岱美儀器將為您提供全程的服務(wù)。
輪廓儀的性能
測量模式 ：
移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
樣 品 臺(tái) ：
150mm/200mm/300mm 樣品臺(tái)（可選配）
XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°
可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)
CCD 相機(jī)像素：
標(biāo)配：1280×960
視場范圍：
560×750um（10×物鏡）
具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機(jī)
光學(xué)系統(tǒng)：
同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)
光 源：
高 效 LED
Z 方向聚焦 80mm 手動(dòng)聚焦（可選電動(dòng)聚焦）
Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá) 10mm )
縱向分辨率 ＜0.1nm
RMS 重復(fù)性* 0.005nm，1σ
臺(tái)階測量** 準(zhǔn)確度 ≤0.75％；重復(fù)性 ≤0.1%，1σ
橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）
檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD 幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）。
比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對(duì)超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動(dòng)光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。NanoX-8000主設(shè)備尺寸：1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。集成電路輪廓儀輪廓測量應(yīng)用
NanoX-8000 的XY 平臺(tái)比較大移動(dòng)速度：200mm/s 。實(shí)驗(yàn)室輪廓儀
一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性：
通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測，得出物件的誤差和超差參數(shù)，**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”，造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離，**終導(dǎo)致整個(gè)生產(chǎn)鏈更大的損失。
二、提高效率：
智能化檢測，全自動(dòng)測量，檢測時(shí)只需將物件放置在載物臺(tái)，然后在檢定軟件上選擇相關(guān)參數(shù)，即可一鍵分析批量測量。擯棄傳統(tǒng)檢測方法耗時(shí)耗力，精確度低的缺點(diǎn)，**提高加工效率。 實(shí)驗(yàn)室輪廓儀
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號(hào)第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。公司是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，以誠信務(wù)實(shí)的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團(tuán)隊(duì)、踏實(shí)的職工隊(duì)伍，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn)；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo)，提供***的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來，一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會(huì)各界的普遍認(rèn)可與大力支持。