世界領(lǐng) 先的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics今 天宣布與EV Group（EVG）進(jìn)行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的領(lǐng) 先供應(yīng)商，以帶來(lái)高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（ AR）波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界zui低的成本進(jìn)入大眾市場(chǎng)。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光學(xué)組件。
WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評(píng)論：“這一合作伙伴關(guān)系標(biāo)志著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)行業(yè)的轉(zhuǎn)折點(diǎn)，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)解決方案的關(guān)鍵步驟，這是迄今為止尚無(wú)法實(shí)現(xiàn)的能力。” EVG的專業(yè)知識(shí)與我們可擴(kuò)展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場(chǎng)價(jià)格將低于600美元?！斑@項(xiàng)合作是釋放AR可穿戴設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場(chǎng)創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴(kuò)展性的新途徑?！?最小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件（DOE）至關(guān)重要。內(nèi)蒙古納米壓印美元價(jià)格
EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)
特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足最 高要求
EVG520 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑最 大為200 mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EV Group納米壓印三維芯片應(yīng)用EVG系統(tǒng)是客戶進(jìn)行大批量晶圓級(jí)鏡頭復(fù)制（制造）的第 一選擇。
納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：
新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像
資料來(lái)源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項(xiàng)目SNM）
2.通過(guò)熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片
資料來(lái)源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國(guó)家研究委 員會(huì)提供
4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來(lái)源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來(lái)源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm
資料來(lái)源：EVG
8.最小尺寸的光模塊晶圓級(jí)封裝
資料來(lái)源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來(lái)源：EVG（歐盟Saphely項(xiàng)目）
10.在強(qiáng)光照射下對(duì)HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相
資料來(lái)源：EVG
為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項(xiàng)特殊功能，該工具可以升級(jí)為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保最 低的缺 陷率和最 高質(zhì)量的原版復(fù)制。
通過(guò)為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強(qiáng)了EVG在全 面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導(dǎo)地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)最小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預(yù)處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可最 大程度地重復(fù)使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時(shí)間最快
優(yōu)化的模塊化平臺(tái)可實(shí)現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過(guò)程和模板 EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級(jí)別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過(guò)程和模板）
■結(jié)合了預(yù)處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離，可最 大程 度地重復(fù)使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作
■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
納米壓印設(shè)備可用來(lái)進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。光刻納米壓印售后服務(wù)
EVG?770可用于連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作。內(nèi)蒙古納米壓印美元價(jià)格
對(duì)于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最 大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持最 新的UV-LED技術(shù)
最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻
μ接觸印刷
內(nèi)蒙古納米壓印美元價(jià)格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司自成立以來(lái)，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批獨(dú)立的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國(guó)市場(chǎng)，依托強(qiáng)大的研發(fā)實(shí)力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。