電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備:原理:利用電子束直接加熱靶材,使其蒸發(fā)并沉積在基片上。應(yīng)用:主要用于鍍制多層精密光學(xué)膜,如AR膜、長(zhǎng)波通、短波通等,廣泛應(yīng)用于玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學(xué)鏡頭等產(chǎn)品。離子鍍真空鍍膜設(shè)備:原理:通過(guò)離子轟擊靶材或基片,促進(jìn)靶材物質(zhì)的濺射和基片表面的反應(yīng),形成薄膜。應(yīng)用:可用于制備高硬度的涂層,提高材料的耐磨性和耐腐蝕性。多弧離子鍍膜設(shè)備:原理:利用弧光放電產(chǎn)生的高溫使靶材蒸發(fā)并離子化,然后通過(guò)電場(chǎng)加速沉積在基片上。應(yīng)用:適用于制備硬質(zhì)涂層,如切削工具、模具等。寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,工藝品質(zhì)好,有需要可以咨詢!上海護(hù)目鏡真空鍍膜設(shè)備參考價(jià)
真空鍍膜機(jī)的操作與維護(hù)真空鍍膜機(jī)的操作需要嚴(yán)格按照設(shè)備說(shuō)明書(shū)進(jìn)行,以確保鍍膜質(zhì)量和設(shè)備安全。一般來(lái)說(shuō),操作過(guò)程包括設(shè)備檢查、送電、抽真空、鍍膜及冷卻等步驟。同時(shí),設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)也至關(guān)重要,這不僅可以延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命,還可以確保鍍膜質(zhì)量的穩(wěn)定性。
定期清洗:包括清洗真空室內(nèi)的襯板、鋁絲、鎢絲等部件,以及清理干凈工件架和蒸發(fā)銅棒上的鍍層。這些操作可以確保設(shè)備的清潔度,提高鍍膜質(zhì)量。
更換擴(kuò)散泵油:擴(kuò)散泵油在高溫下可能產(chǎn)生裂解,品質(zhì)下降,導(dǎo)致抽氣時(shí)間變長(zhǎng)。因此,需要定期更換擴(kuò)散泵油,以確保設(shè)備的抽氣性能。
檢查與更換部件:定期檢查氣缸軸密封處骨架油封是否損壞或漏氣,如有損壞需及時(shí)更換。同時(shí),還需要定期清理銅棒上的鍍層,避免造成電極之間連通導(dǎo)致短路。 車載面板真空鍍膜設(shè)備品牌寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,效果佳,有需要可以咨詢!
鍍膜材料的汽化或離化:
根據(jù)鍍膜工藝的不同,主要有以下兩種方式使鍍膜材料轉(zhuǎn)化為可沉積的粒子:
蒸發(fā)鍍膜(物理的氣相沉積 PVD 的一種)原理:通過(guò)加熱鍍膜材料(如金屬、合金、氧化物等),使其從固態(tài)直接汽化或升華為氣態(tài)原子 / 分子。
加熱方式:
電阻加熱:利用電阻絲或石墨舟等發(fā)熱體直接加熱鍍膜材料。
電子束加熱:通過(guò)電子槍發(fā)射高能電子束轟擊鍍膜材料,使其快速汽化(常用于高熔點(diǎn)材料,如鎢、鉬等)。
感應(yīng)加熱:利用電磁感應(yīng)原理使鍍膜材料內(nèi)部產(chǎn)生渦流而發(fā)熱汽化。
濺射鍍膜(另一種常見(jiàn)的 PVD 工藝)原理:在真空腔室中通入惰性氣體(如氬氣),并在靶材(鍍膜材料制成的靶)和工件之間施加高壓電場(chǎng),使氬氣電離產(chǎn)生氬離子(Ar?)。
關(guān)鍵過(guò)程:氬離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊靶材表面,通過(guò)動(dòng)量傳遞將靶材原子 / 分子濺射出(稱為 “濺射”)。濺射出的靶材粒子(原子、分子或離子)帶有一定能量,向工件表面遷移。
膜層性能優(yōu)異光學(xué)性能好:通過(guò)真空鍍膜技術(shù)可以精確控制膜層的厚度和折射率,從而獲得具有特定光學(xué)性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些薄膜在光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。例如,在相機(jī)鏡頭上鍍上多層增透膜,可以提高鏡頭的透光率,減少光線反射,從而提高成像質(zhì)量。力學(xué)性能好:真空鍍膜可以在物體表面形成硬度高、耐磨性好的薄膜,提高物體的表面硬度和耐磨性,延長(zhǎng)物體的使用壽命。例如,在機(jī)械零件表面鍍上一層硬質(zhì)合金薄膜,可以提高零件的耐磨性和抗腐蝕性,減少磨損和腐蝕對(duì)零件的破壞?;瘜W(xué)穩(wěn)定性好:一些通過(guò)真空鍍膜制備的薄膜具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,能夠抵抗酸、堿、鹽等化學(xué)物質(zhì)的侵蝕。例如,在金屬制品表面鍍上一層陶瓷薄膜,可以提高金屬制品的耐腐蝕性,使其在惡劣的化學(xué)環(huán)境中仍能保持良好的性能。寶來(lái)利刀具真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來(lái)咨詢!
物理上的氣相沉積(PVD)蒸發(fā)鍍膜原理:將待鍍材料(如金屬、合金或化合物)加熱到高溫使其蒸發(fā),蒸發(fā)后的原子或分子在真空中以氣態(tài)形式運(yùn)動(dòng),然后沉積在溫度較低的基底表面,形成薄膜。加熱方式:常用電阻加熱、電子束加熱等。電阻加熱是通過(guò)電流通過(guò)加熱元件產(chǎn)生熱量,使鍍膜材料升溫蒸發(fā);電子束加熱則是利用高能電子束轟擊鍍膜材料,將電子的動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱能,實(shí)現(xiàn)材料的快速加熱蒸發(fā)。
濺射鍍膜原理:在真空室中充入少量惰性氣體(如氬氣),然后在陰極(靶材)和陽(yáng)極(基底)之間施加高電壓,形成輝光放電。惰性氣體原子在電場(chǎng)作用下被電離,產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)加速下轟擊陰極靶材,使靶材表面的原子獲得足夠能量而被濺射出來(lái),這些濺射出來(lái)的原子沉積在基底表面形成薄膜。優(yōu)點(diǎn):與蒸發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜可以鍍制各種材料,包括高熔點(diǎn)材料,且膜層與基底的結(jié)合力較強(qiáng)。 寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,金色氮化鈦,有需要可以咨詢!上海護(hù)目鏡真空鍍膜設(shè)備參考價(jià)
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磁控濺射,即受磁場(chǎng)控制的濺射,是一種高速低溫的濺射技術(shù)。它利用磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑,改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。在高真空的條件下充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽(yáng)極(鍍膜室壁)之間施加直流電壓,在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電。電子在電場(chǎng)的作用下,飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使氬氣發(fā)生電離,產(chǎn)生氬離子和電子。氬離子在電場(chǎng)的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。上海護(hù)目鏡真空鍍膜設(shè)備參考價(jià)