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蒸發(fā)閘閥蝶閥

來源: 發(fā)布時間:2024-05-29

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn):其閥門驅(qū)動部分的所有滾子和軸承都經(jīng)過精心防護(hù)處理,形成屏蔽和保護(hù)環(huán)(Shield Blocker 和 Protection Ring),通過三重預(yù)防方式有效切斷粉末(Powder),從而延長閥門驅(qū)動及使用壽命。該閘閥采用的三重預(yù)防驅(qū)動方式中的 Shield 功能,能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部,同時具備三重保護(hù)驅(qū)動保護(hù)環(huán),可延長 GV 壽命的 Shield 方法,并已供應(yīng)給海外半導(dǎo)體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設(shè)備。此外,擋板與閥體之間的距離小于 1mm,能夠強(qiáng)力阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入,屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成,充分考慮了其復(fù)原力,并通過 Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護(hù)保護(hù)環(huán)的主要功能則包括:AL 材料的重量減輕和保護(hù)環(huán)內(nèi)部照明的改善、保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速的增加以及三元環(huán)的應(yīng)用確保了驅(qū)動性能的提升。真空閘閥對于隔離不同的真空室、控制工藝過程中的氣流以及在不影響真空環(huán)境的情況下促進(jìn)維護(hù)或維修很重要。蒸發(fā)閘閥蝶閥

閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護(hù)閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。HV閘閥氣動閥控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。

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微泰,專門用閘閥應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。期特點(diǎn)是*使用維修配件工具包易于維護(hù)*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關(guān)*?速度控制器&電磁閥(2Port+N2Port)用不銹鋼管連接(φ6)*應(yīng)用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動方式:氣動、法蘭尺寸:4英寸~ 8英寸、法蘭類型:ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時間:≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體業(yè)績。


半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動,以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點(diǎn)包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結(jié)構(gòu),能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導(dǎo)體制造過程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導(dǎo)體制造工藝對精度的要求。4. 快速響應(yīng):可以快速地開啟和關(guān)閉,以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設(shè)計和制造過程嚴(yán)格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。真空閘閥由一個滑動門或板組成,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環(huán)境隔離。

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微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥,-三重防護(hù)閘閥:屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng),還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥,屏蔽門閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;三級預(yù)防閘閥,三重防護(hù)閘閥:產(chǎn)品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進(jìn)電機(jī)閘閥;鋁閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動?維護(hù)前可用次數(shù):10萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。定制閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

在機(jī)組的給水、主汽、凝結(jié)水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中,均安裝有許多閘閥。蒸發(fā)閘閥蝶閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護(hù)套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥,加熱器插入閘閥:產(chǎn)品范圍:2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):20萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;客戶指定法蘭,加熱溫度:450℃;蝶形閥;蝶閥:產(chǎn)品范圍:DN40、DN50隔離?泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司蒸發(fā)閘閥蝶閥

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