微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器，可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關閉，以調節(jié)壓力。微泰半導體多定位閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁Ｎ⑻┛刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用。超高壓閘閥英菲尼亞半導體

半導體主加工設備腔內精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰。控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調節(jié)腔內壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動調節(jié)閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。多定位閘閥閘板閥閘閥的結構比較簡單，一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。

微泰半導體閘閥具有諸多特點：其閥門驅動部分的所有滾子和軸承都經(jīng)過精心防護處理，形成屏蔽和保護環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring），通過三重預防方式有效切斷粉末（Powder），從而延長閥門驅動及使用壽命。該閘閥采用的三重預防驅動方式中的 Shield 功能，能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內部，同時具備三重保護驅動保護環(huán)，可延長 GV 壽命的 Shield 方法，并已供應給海外半導體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設備。此外，擋板與閥體之間的距離小于 1mm，能夠強力阻擋內部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成，充分考慮了其復原力，并通過 Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護保護環(huán)的主要功能則包括：AL 材料的重量減輕和保護環(huán)內部照明的改善、保護環(huán)內部流速的增加以及三元環(huán)的應用確保了驅動性能的提升。

微泰轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外，它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的轉移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉移閥。I型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動，確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統(tǒng)和單連桿的內部機構，保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。L型轉移閥的特點是閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，確保完美的腔室壓力維護。它的內部機構，包括一個LM導向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營地結構，保證了高耐用性和長壽命，同時提供穩(wěn)定和精確的運動。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，并且對溫度變化非常穩(wěn)定，確保了較長的使用壽命。此外，即使長時間使用柵極，它們產生的顆粒也很少，從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新，在開發(fā)先進的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，三重防護閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）等設備。

微泰，多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥其特點是?操作模式：本地和遠程?緊急情況：自動關閉?慢速泵送功能。多位閘閥，多位置閘閥，多定位閘閥規(guī)格如下：材料：閥體 STS304， 機制 STS304、法蘭尺寸(內徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關振動 無振動、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動電導（ISO100）1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置：任意。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。 閘閥流動阻力小。閥體內部介質通道是直通的，介質成直線流動，流動阻力小?；瘜W氣相沉積閘閥I型轉移閥

控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。超高壓閘閥英菲尼亞半導體

微泰高壓閘閥可以應用于多種設備，如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長、PECV、PVD集群、卷對卷、涂層、蝕刻、擴散和CVD等。它具有陶瓷球機構產生的低顆粒和易于維護等特點，可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動或氣動驅動方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應時間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar，8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開始時壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機構溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅動器鋁6061陽極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外，微泰高壓閘閥已在中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其他設備上得到應用。如果您需要了解更多關于微泰高壓閘閥的信息，請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。超高壓閘閥英菲尼亞半導體