微泰，控制系統(tǒng)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材質(zhì)：不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 帶步進(jìn)電機(jī)的集成壓力控制器? 應(yīng)用：需要壓力控制和隔離的地方?？刂葡到y(tǒng)閘閥規(guī)格如下：法蘭尺寸（ID）：1.5英寸~ 10英寸、材料：閥體(STS304)/機(jī)構(gòu)STS304、STS420、饋通：旋轉(zhuǎn)饋通、執(zhí)行器：步進(jìn)電機(jī)、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍：1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護(hù)前可用次數(shù)：100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置：任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。閘閥流動(dòng)阻力小。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的，介質(zhì)成直線流動(dòng)，流動(dòng)阻力小。小型閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護(hù)閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥：防止氣體和粉末進(jìn)入閥內(nèi)的隔離閥，-三重防護(hù)閘閥：屏蔽1和2+保護(hù)環(huán)的3重隔離系統(tǒng)，還有步進(jìn)電機(jī)閘閥和鋁閘閥，屏蔽門閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；三級預(yù)防閘閥，三重防護(hù)閘閥：產(chǎn)品范圍：4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù)：25萬次?包括屏蔽功能；步進(jìn)電機(jī)閘閥；鋁閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓氣動(dòng)?維護(hù)前可用次數(shù)：10萬次?響應(yīng)時(shí)間：0.2秒~3秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。濺射閘閥SHIELD GATE VALVE閘閥的結(jié)構(gòu)比較簡單，一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，鋁閘閥（AL Gate Valve）-產(chǎn)品范圍：1.5英寸~10英寸-12英寸可生產(chǎn)的產(chǎn)品尺寸，閥體材料：鋁、氣動(dòng)、緊湊設(shè)計(jì)、重量輕。閘門，閥蓋密封：Viton O-Ring使用次數(shù)：100000次，易于維護(hù)，低顆粒（陶瓷球機(jī)構(gòu)）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時(shí)，斷電后溫度下降后重新啟動(dòng)），應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有氣動(dòng)多位置閘閥（氣動(dòng)多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position）、氣動(dòng)（鎖定）閘閥和手動(dòng)（鎖定）閘閥，蝶閥，Butterfly Valve，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve），鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護(hù)閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。高壓閘閥結(jié)構(gòu)簡單，制造和維修比較方便。工作行程小，啟閉時(shí)間短。密封性好，密封面間磨擦力小，壽命較長。超大型真空閘閥插板閥

高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動(dòng)，安裝時(shí)有方向性。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥，同時(shí)流體阻力大。小型閘閥TRANSFER VALVE

半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的解決方案，真空插板閥品牌—微泰?？刂葡到y(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用，通過控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類：控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥?？刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作，而多定位閘閥、多位置閘閥使用氣動(dòng)控制操作。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。小型閘閥TRANSFER VALVE