微泰半導(dǎo)體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當(dāng)閘板升起時，閘閥打開，允許流體通過；當(dāng)閘板降下時，閘閥關(guān)閉，阻止流體通過。在具體工作中，它利用各種機構(gòu)和設(shè)計來實現(xiàn)精確的控制和可靠的密封，以滿足半導(dǎo)體設(shè)備中對工藝控制的要求。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，三重防護閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）等設(shè)備。Etch閘閥氣動閥

微泰，高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*陶瓷球機構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應(yīng)用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司?？刂崎l閥氣動閥真空閘閥的設(shè)計具有獨特的特征。它們具有堅固的結(jié)構(gòu)，通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內(nèi)部加熱器加熱*加熱控制器*應(yīng)用:去除粉末/氣體設(shè)備。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥，-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導(dǎo)軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動方式，使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。為特定的真空系統(tǒng)和工藝選擇適當(dāng)尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關(guān)重要。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點：閥門驅(qū)動部分的所有滾子和軸承都進(jìn)行了防護處理，形成屏蔽和保護環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring）用三重預(yù)防方式切斷粉末（Powder），延長閥門驅(qū)動和使用壽命。三重預(yù)防驅(qū)動方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部，有三重保護驅(qū)動保護環(huán)，長久延長GV壽命的Shield方法-供應(yīng)給海外半導(dǎo)體T公司、M公司和I公司Utility設(shè)備。擋板與閥體的距離小于1mm，阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料，考慮了復(fù)原力，并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護保護環(huán)的主要功能說明-AL材料的重量減輕和保護環(huán)內(nèi)部照明的改善-保護環(huán)內(nèi)部流速的增加-三元環(huán)應(yīng)用確保驅(qū)動性能。微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門?？刂葡到y(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用。HV閘閥法蘭閘閥

真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機械裝置。Etch閘閥氣動閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，一、控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進(jìn)電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計和堅固的不銹鋼結(jié)構(gòu)，通過閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過程。蝶閥通過控制器和步進(jìn)電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器，可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能，以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài)，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉，以調(diào)節(jié)壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。Etch閘閥氣動閥