微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：其閥門驅(qū)動(dòng)部分的所有滾子和軸承都經(jīng)過(guò)精心防護(hù)處理，形成屏蔽和保護(hù)環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring），通過(guò)三重預(yù)防方式有效切斷粉末（Powder），從而延長(zhǎng)閥門驅(qū)動(dòng)及使用壽命。該閘閥采用的三重預(yù)防驅(qū)動(dòng)方式中的 Shield 功能，能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部，同時(shí)具備三重保護(hù)驅(qū)動(dòng)保護(hù)環(huán)，可延長(zhǎng) GV 壽命的 Shield 方法，并已供應(yīng)給海外半導(dǎo)體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設(shè)備。此外，擋板與閥體之間的距離小于 1mm，能夠強(qiáng)力阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成，充分考慮了其復(fù)原力，并通過(guò) Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護(hù)保護(hù)環(huán)的主要功能則包括：AL 材料的重量減輕和保護(hù)環(huán)內(nèi)部照明的改善、保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速的增加以及三元環(huán)的應(yīng)用確保了驅(qū)動(dòng)性能的提升。真空閘閥的密封裝置確保關(guān)閉時(shí)的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內(nèi)的真空壓力。韓國(guó)技術(shù)閘閥TRANSFER VALVE

微泰，三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應(yīng)用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴(kuò)散?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點(diǎn)是*3個(gè)位置功能-閥門打開,閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過(guò)連接到閥門的9 Pin D-Sub來(lái)讀取閥門狀態(tài)*手動(dòng)和氣動(dòng)閥門組合*應(yīng)用:需要壓力控制的任何其他過(guò)程*應(yīng)用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動(dòng)方式：氣動(dòng)、法蘭尺寸：2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時(shí)的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)高壓閘閥I型轉(zhuǎn)移閥微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，控制系統(tǒng)閘閥，控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動(dòng)方式操作，可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用?？刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值，通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的三重保護(hù)保護(hù)環(huán)機(jī)能：采用鋁質(zhì)材料，減輕重量的同時(shí)提高保護(hù)環(huán)內(nèi)部粗糙度，有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附；通過(guò)提升保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計(jì)，且保護(hù)環(huán)逐步收窄，進(jìn)一步提升流速，防止粉塵黏附；采用三元系 O 型圈，確保保護(hù)環(huán)驅(qū)動(dòng)穩(wěn)定，可保證 30 萬(wàn)次驅(qū)動(dòng)。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各個(gè)行業(yè)，包括半導(dǎo)體制造、研發(fā)、分析類儀器和真空鍍膜。

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn)：已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備，設(shè)備廠批量供貨，已得到品質(zhì)認(rèn)可，已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1，采用陶瓷球機(jī)構(gòu)，抗沖擊和震動(dòng)，保證使用25萬(wàn)次，檢修方便，較低維護(hù)成本。2，無(wú)Particle（顆粒）產(chǎn)生，采用陶瓷球無(wú)腐蝕和顆粒產(chǎn)。3，屏蔽保護(hù)：屏蔽式保護(hù)功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm，可防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。4，保護(hù)環(huán)：Protecrion Ring通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固，并通過(guò)打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對(duì)卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。閘閥體內(nèi)設(shè)一個(gè)與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板，靠這一閘板的升降來(lái)開啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。HVA閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動(dòng)，易于安裝。閘閥通道兩側(cè)是對(duì)稱的。韓國(guó)技術(shù)閘閥TRANSFER VALVE

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，氣動(dòng)多位置閘閥，氣動(dòng)多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position 其特點(diǎn)是1，全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動(dòng)電磁閥進(jìn)行控制；2，所有位置控制都由控制器進(jìn)行操作。1)控制類型-全開：高速閘門全開操作-全閉：高速閘門全閉操作-位置（POS.）控制：將閘門移動(dòng)到設(shè)定的位置值；2)操作時(shí)間-完全打開?完全關(guān)閉：<2秒（取決于速度控制器設(shè)置)-位置（POS。）控制： 0%?100%工作，<MAX18秒（偏差： < ±0.5%）。微泰氣動(dòng)多位置閘閥，氣動(dòng)多定位閘閥，多定位插板閥，Pneumatic Multi Position，有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。韓國(guó)技術(shù)閘閥TRANSFER VALVE