-
壓電陶瓷技術(shù)隔振臺國內(nèi)代理將手輕輕放在桌面上。上方區(qū)塊中的一個或多個LED可能會亮起，指示過載。了解在不造成過載的情況下可以施加多少力。如果你現(xiàn)在在桌面上施加很大的力，所有過載燈都會亮起，并且隔離指示燈將閃爍幾秒鐘，表明系統(tǒng)暫時不再隔離，直到過載消除（待機(jī)模式）。 消除過載后...
2020-10-03 -
盒厚測量膜厚儀推薦廠家
電介質(zhì)成千上萬的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué)，半導(dǎo)體，以及其它數(shù)十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。 測量范例氮化硅薄膜作為電介質(zhì)，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮...
2020-10-02 -
半導(dǎo)體隔振臺廠家
TS-300 TS系列產(chǎn)品中最 大的系列，比TS-140 / TS-150更大。 在公制（M6 x 25mm）或非公制網(wǎng)格上鉆孔的頂板可將各種設(shè)備安裝在隔離的桌面上。 頻率 負(fù)載范圍TS-300 負(fù)載范圍TS-3...
2020-10-02 -
晶圓光刻機(jī)美元報價
EVG620 NT技術(shù)數(shù)據(jù)： 曝光源： 汞光源/紫外線LED光源 先進(jìn)的對準(zhǔn)功能： 手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗證 自動對準(zhǔn) 動態(tài)對準(zhǔn)/自動邊緣對準(zhǔn) 對準(zhǔn)偏移校正算法 EVG620 NT產(chǎn)量: 全自動：...
2020-10-01 -
超納輪廓儀一級代理
最 大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野，其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時切換多個物鏡的需要，更進(jìn)一步減少總體成本。手動式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡，能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報價性能規(guī)格厚...
2020-10-01 -
研究所鍵合機(jī)美元報價
EVG?301技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸）：200和100-300毫米 清潔系統(tǒng) 開室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂 腔室：由PP或PFA制成（可選） 清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)），其他清潔介質(zhì)（可選） 旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標(biāo)準(zhǔn)）和邊...
2020-09-30 -
EVG鍵合機(jī)聯(lián)系電話
Abouie M 等人［4］針對金—硅共晶鍵合過程中凹坑對鍵合質(zhì)量的影響展開研究，提出一種以非晶硅為基材的金—硅共晶鍵合工藝以減少凹坑的形成，但非晶硅的實際應(yīng)用限制較大。康興華等人［5］加工了簡單的多層硅—硅結(jié)構(gòu)，但不涉及對準(zhǔn)問題，實際應(yīng)用的價值較小。陳穎慧等...
2020-09-30 -
廣西光刻機(jī)LED應(yīng)用
HERCULES? ■ 全自動光刻跟/蹤系統(tǒng)，模塊化設(shè)計，用于掩模和曝光，集成了預(yù)處理和后處理能力 ■ 高產(chǎn)量的晶圓加工 ■ 最多8個濕法處理模塊以及多達(dá)24個額外烘烤，冷卻和蒸汽填料板 ■ 基于EVG的IQ Ali...
2020-09-29 -
HERCULES光刻機(jī)推薦廠家
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng)附加模塊選項 預(yù)對準(zhǔn)：光學(xué)/機(jī)械 ID讀取器：條形碼，字母數(shù)字，數(shù)據(jù)矩陣 系統(tǒng)控制： 操作系統(tǒng)：Windows 文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)/離線程序編輯器 靈活的流程定義/易...
2020-09-28 -
貴州EVG850 LT鍵合機(jī)
引線鍵合主要用于幾乎所有類型的半導(dǎo)體中，這是因為其成本效率高且易于應(yīng)用。在蕞佳環(huán)境中，每秒蕞多可以創(chuàng)建10個鍵。該方法因所用每種金屬的元素性質(zhì)不同而略有不同。通常使用的兩種引線鍵合是球形鍵合和楔形鍵合。 盡管球形鍵合的蕞佳選擇是純金，但由...
2020-09-28 -
四川光刻機(jī)有哪些品牌
EVG6200 NT附加功能： 鍵對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn) 納米壓印光刻（NIL） EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù)： 曝光源 汞光源/紫外線LED光源 先進(jìn)的對準(zhǔn)功能 手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗證 自動對準(zhǔn) ...
2020-09-27 -
奧地利鍵合機(jī)高性價比選擇
EVG?6200BA自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng) 用于晶圓間對準(zhǔn)的自動化鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)，用于中等和批量生產(chǎn) 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)提供了蕞/高的精度，靈活性和易用性，模塊化升級功能，并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證。EVG鍵對準(zhǔn)器的精度可滿足MEMS生產(chǎn)...
2020-09-27 -
上海鍵合機(jī)出廠價
Ziptronix Inc. 與 EV Group（簡稱“EVG ”）今 日宣布已成功地在客戶提供的300毫米DRAM晶圓實現(xiàn)亞微米鍵合后對準(zhǔn)精度。方法是在 EVG Gemini FB 產(chǎn)品融合鍵合機(jī)和 SmartView NT 鍵合對準(zhǔn)機(jī)上采用 Zipt...
2020-09-26 -
貴州納米壓印服務(wù)為先
NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的最 具成本效益的方法，因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供最 佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。 EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的...
2020-09-26 -
EVG805鍵合機(jī)學(xué)校會用嗎
EVG?301單晶圓清洗系統(tǒng)，屬于研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)。 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG301半自動化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個清洗站，該清洗站使用標(biāo)準(zhǔn)的去離子水沖洗以及超音速，毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項來清洗晶片。EVG301具有手動加載和預(yù)對準(zhǔn)功能，是一種多功能的研...
2020-09-26 -
圖像傳感器鍵合機(jī)有誰在用
EVG?810LT技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 50-200、100-300毫米 LowTemp?等離子活化室 工藝氣體：2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體（N2和O2） 通用質(zhì)量流量控制器：自校準(zhǔn)（高達(dá)20.000sccm） 真空系統(tǒng)...
2020-09-26 -
研究所納米壓印自動化測量
EV集團(tuán)和肖特攜手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實/混合現(xiàn)實玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展，這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時也是全球唯 一可及的300-mm...
2020-09-26 -
主動防振系統(tǒng)隔振臺美元報價
AVI主動隔震臺 AVI應(yīng)用于掃描電鏡 1、如有可能，拆下掃描電鏡柱的側(cè)板。 2、使用掃描電鏡找平腳將立柱抬離地面至少6“。如有必要，在水平尺下放置木塊以增加高度。 3、拆下主銷后傾角和主銷后傾角螺栓（如有必要）。 4、將第 ...
2020-09-25 -
河南光刻機(jī)質(zhì)量怎么樣
EVG6200 NT特征： 晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8'' 系統(tǒng)設(shè)計支持光刻工藝的多功能性 在第/一次光刻模式下的吞吐量高達(dá)180 WPH，在自動對準(zhǔn)模式下的吞吐量高達(dá)140 WPH 易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，...
2020-09-25 -
寧夏鍵合機(jī)用于生物芯片
EVG?850TB臨時鍵合機(jī)特征： 開放式膠粘劑平臺； 各種載體（硅，玻璃，藍(lán)寶石等）； 適用于不同基板尺寸的橋接工具功能； 提供多種裝載端口選項和組合； 程序控制系統(tǒng)； 實時監(jiān)控和記錄所有相關(guān)過程參數(shù)； 完全集成...
2020-09-25 -
光學(xué)鍍膜膜厚儀液晶顯示行業(yè)
厚度標(biāo)準(zhǔn)： 所有 Filmetrics 厚度標(biāo)準(zhǔn)都是得到驗證可追溯的 NIST 標(biāo)準(zhǔn)。 S-Custom-NIST：在客戶提供的樣品上定制可追溯的 NIST 厚度校準(zhǔn)。 TS-Focus-SiO2-4-3100SiO2-on-Si ：厚...
2020-09-25 -
半導(dǎo)體設(shè)備隔振臺推薦廠家
傳感器位置 傳感器可以移動到任何期望的位置。 它可能位于負(fù)載下方或外部，但必須位于支持AVI元素的同一表面上。 制作后連接時，傳感器與AVI單元的方向必須保持不變。 支撐面的剛性 支撐表面的剛性很重要。 水平傳感器無法區(qū)分在水平加...
2020-09-25 -
AVI-400MLP隔振臺電子顯微鏡AEM
TS-140 TS-140結(jié)合了久經(jīng)考驗的技術(shù)特點與優(yōu)雅且對用戶友好的設(shè)計 這種中型動態(tài)隔振系統(tǒng)非常適合所有需要頂板上空間比TS-150更大的應(yīng)用。 在公制（M6 x 25mm）或非公制網(wǎng)格上鉆孔的頂板可將各種設(shè)備安裝在隔離的桌面上。 ...
2020-09-25 -
Filmetrics F40膜厚儀競爭力怎么樣
顯微鏡轉(zhuǎn)接器F40 系列轉(zhuǎn)接器。 Adapter-BX-Cmount該轉(zhuǎn)接器將 F40 接到 OlympusBX 或 MX 上而不必使用 Olympus 價格較貴的 c-mount 轉(zhuǎn)接器。MA-Cmount-F20KIT該轉(zhuǎn)接器將F20連接到顯微鏡...
2020-09-24 -
-
獨(dú)立隔振裝置隔振臺研發(fā)生產(chǎn)
LFS-3傳感器在三個軸上測量水平和垂直加速度，頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上，與標(biāo)準(zhǔn)AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用在前饋回路中，以提高極低頻時的隔振性能。LFS-3可以被復(fù)裝到現(xiàn)有的AVI/LP系統(tǒng)中。下面的圖顯示了在AVI/LP系統(tǒng)上測量的垂直...
2020-09-24 -
EVG320鍵合機(jī)可以試用嗎
EVG?520IS晶圓鍵合系統(tǒng)■擁有EVG?501和EVG?510鍵合機(jī)的所有功能■200mm的單個或者雙腔自動化系統(tǒng)■自動晶圓鍵合流程和晶圓替代轉(zhuǎn)移■集成冷卻站，實現(xiàn)高產(chǎn)量EVG?540自動鍵合系統(tǒng)■300mm單腔鍵合室■自動處理多達(dá)4個鍵合卡盤■模塊化鍵合...
2020-09-24 -
山東鍵合機(jī)推薦產(chǎn)品
EV Group開發(fā)了MLE?（無掩模曝光）技術(shù)，通過消 除與掩模相關(guān)的困難和成本，滿足了HVM世界中設(shè)計靈活性和蕞小開發(fā)周期的關(guān)鍵要求。 MLE?解決了多功能（但緩慢）的開發(fā)設(shè)備與快 速（但不靈活）的生產(chǎn)之間的干擾。它提供了可擴(kuò)展的解決方案，可同時進(jìn)行裸...
2020-09-24 -
浙江EVG301鍵合機(jī)
EVG鍵合機(jī)加工結(jié)果 除支持晶圓級和先進(jìn)封裝，3D互連和MEMS制造外，EVG500系列晶圓鍵合機(jī)（系統(tǒng)）還可用于研發(fā)，中試或批量生產(chǎn)。它們通過在高真空，精確控制的準(zhǔn)確的真空，溫度或高壓條件下鍵合來滿足各種苛刻的應(yīng)用。該系列擁有多種鍵合方法，包括陽極，熱壓縮，...
2020-09-23 -
晶圓光刻機(jī)摩擦學(xué)應(yīng)用
EVG6200 NT附加功能： 鍵對準(zhǔn) 紅外對準(zhǔn) 納米壓印光刻（NIL） EVG6200 NT技術(shù)數(shù)據(jù)： 曝光源 汞光源/紫外線LED光源 先進(jìn)的對準(zhǔn)功能 手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗證 自動對準(zhǔn) ...
2020-09-23