信息存儲:在信息存儲領(lǐng)域,真空鍍膜技術(shù)可用于制備磁信息存儲、磁光信息存儲等存儲介質(zhì)。磁控濺射鍍膜設(shè)備是這類應(yīng)用的常用設(shè)備。裝飾飾品:手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等產(chǎn)品的裝飾性鍍膜處理,也可以采用真空鍍膜技術(shù)。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備是這類應(yīng)用的常用設(shè)備。光電子...
信息存儲:在信息存儲領(lǐng)域,真空鍍膜技術(shù)可用于制備磁信息存儲、磁光信息存儲等存儲介質(zhì)。磁控濺射鍍膜設(shè)備是這類應(yīng)用的常用設(shè)備。裝飾飾品:手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等產(chǎn)品的裝飾性鍍膜處理,也可以采用真空鍍膜技術(shù)。蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備是這類應(yīng)用的常用設(shè)備。光電子...
化學(xué)氣相沉積鍍膜機: 原理與構(gòu)造:化學(xué)氣相沉積鍍膜機通過氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在高溫、低壓環(huán)境下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在工件表面生成固態(tài)薄膜。設(shè)備由反應(yīng)氣體供應(yīng)系統(tǒng)、真空室、加熱系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng)構(gòu)成。根據(jù)反應(yīng)條件和工藝特點,可分為常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積...
適用范圍廣材料選擇多樣: 可用于多種類型的基底材料,包括金屬、玻璃、陶瓷、塑料、半導(dǎo)體等,幾乎涵蓋了所有常見的工業(yè)材料。同時,膜材的選擇也非常豐富,如各種金屬、合金、化合物等,能夠滿足不同應(yīng)用場景對薄膜性能的多樣化需求。 可鍍復(fù)雜形狀工件:能夠...
購買真空鍍膜機時,需要綜合考慮技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用需求、品牌與售后等多個方面的因素: 膜厚均勻性:膜厚均勻性影響產(chǎn)品性能一致性。好的設(shè)備在基片上的膜厚均勻度可達 ±5% 以內(nèi)。對于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體制造等對膜厚均勻性要求高的應(yīng)用,需關(guān)注設(shè)備的膜厚均勻性指標(biāo)及...
真空室清潔: 定期清掃:真空室內(nèi)部應(yīng)該要定期進行清潔,以清掃鍍膜過程中殘留的膜材顆粒、灰塵等雜質(zhì)。每次鍍膜任務(wù)完成之后,在真空室冷卻完以后,需要使用干凈的、不掉纖維的擦拭工具,如無塵布,對真空室內(nèi)部進行擦拭。 深度清潔:每隔一段時間(例如半年左...
真空系統(tǒng)維護: 真空泵保養(yǎng): 定期換油:真空泵油是真空泵正常運行的關(guān)鍵。一般根據(jù)使用頻率和泵的型號,每 3 - 6 個月更換一次真空泵油。因為長時間使用后,泵油會受到污染,含有雜質(zhì),這會影響泵的抽氣性能。例如,在頻繁使用真空鍍膜機的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境...
品牌與口碑:品牌通常在技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)工藝和質(zhì)量控制方面有優(yōu)勢,產(chǎn)品質(zhì)量和性能更可靠??赏ㄟ^行業(yè)調(diào)研、客戶評價、展會等了解不同品牌的聲譽和市場地位。售后服務(wù):良好的售后服務(wù)能保障設(shè)備的正常運行。供應(yīng)商應(yīng)能提供及時的安裝調(diào)試、操作培訓(xùn)、技術(shù)支持和維修服務(wù),響應(yīng)時間...
環(huán)保與節(jié)能環(huán)保無污染:真空鍍膜過程中不產(chǎn)生有害廢氣和廢水,對環(huán)境無污染,符合現(xiàn)代綠色生產(chǎn)的要求。節(jié)能高效:設(shè)備在工作過程中能有效利用能源,降低能耗,提高生產(chǎn)效率。 操作簡便與自動化操作簡單:真空鍍膜機通常配備有先進的控制系統(tǒng),操作簡單易學(xué),降低了對操...
真空系統(tǒng)維護: 真空泵保養(yǎng): 定期換油:真空泵油是真空泵正常運行的關(guān)鍵。一般根據(jù)使用頻率和泵的型號,每 3 - 6 個月更換一次真空泵油。因為長時間使用后,泵油會受到污染,含有雜質(zhì),這會影響泵的抽氣性能。例如,在頻繁使用真空鍍膜機的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境...
化學(xué)氣相沉積鍍膜機: 原理與構(gòu)造:化學(xué)氣相沉積鍍膜機通過氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在高溫、低壓環(huán)境下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),在工件表面生成固態(tài)薄膜。設(shè)備由反應(yīng)氣體供應(yīng)系統(tǒng)、真空室、加熱系統(tǒng)和尾氣處理系統(tǒng)構(gòu)成。根據(jù)反應(yīng)條件和工藝特點,可分為常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積...
濺射鍍膜原理(也是氣相沉積 - PVD 的一種)濺射鍍膜在真空鍍膜機中是另一種重要的鍍膜方式。在濺射鍍膜系統(tǒng)中,首先在真空室內(nèi)通入惰性氣體(如氬氣),然后利用高壓電場使氬氣電離,產(chǎn)生氬離子。氬離子在電場的加速下,以很高的速度轟擊靶材(即鍍膜材料)。例如,當(dāng)靶材...
高效性與高質(zhì)量沉積效率高:真空鍍膜機能夠在短時間內(nèi)迅速在基材表面形成均勻且致密的薄膜,有效提高了生產(chǎn)效率。鍍層質(zhì)量優(yōu):鍍層組織致密、無氣泡,厚度均勻,具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕、耐高溫性能,以及良好的附著力,使得鍍件在使用過程中更加穩(wěn)定可靠。 多樣的適用...
機械系統(tǒng)維護: 傳動部件保養(yǎng)潤滑處理:對于真空鍍膜機中的傳動部件,如電機的軸承、絲桿等,要定期(每 3 - 4 個月)進行潤滑。使用合適的潤滑劑,如高溫潤滑脂,確保傳動部件的順暢運行。缺乏潤滑可能導(dǎo)致部件磨損加劇,影響設(shè)備的正常工作。 檢查傳動...
購買真空鍍膜機時,需要綜合考慮技術(shù)參數(shù)、應(yīng)用需求、品牌與售后等多個方面的因素: 膜厚均勻性:膜厚均勻性影響產(chǎn)品性能一致性。好的設(shè)備在基片上的膜厚均勻度可達 ±5% 以內(nèi)。對于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體制造等對膜厚均勻性要求高的應(yīng)用,需關(guān)注設(shè)備的膜厚均勻性指標(biāo)及...
開機前的準(zhǔn)備工作: 檢查設(shè)備外觀:在開機前,仔細檢查真空鍍膜機的外觀,查看設(shè)備各部分是否有明顯的損壞、變形或異物。重點檢查真空室門是否密封良好,管道連接是否牢固,防止開機后出現(xiàn)真空泄漏等問題。 檢查工作環(huán)境:確保設(shè)備放置在清潔、干燥、通風(fēng)良好的...
品牌與口碑:品牌通常在技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)工藝和質(zhì)量控制方面有優(yōu)勢,產(chǎn)品質(zhì)量和性能更可靠。可通過行業(yè)調(diào)研、客戶評價、展會等了解不同品牌的聲譽和市場地位。售后服務(wù):良好的售后服務(wù)能保障設(shè)備的正常運行。供應(yīng)商應(yīng)能提供及時的安裝調(diào)試、操作培訓(xùn)、技術(shù)支持和維修服務(wù),響應(yīng)時間...
關(guān)機后的維護操作: 按照正確順序關(guān)機:鍍膜完成后,按照設(shè)備制造商提供的關(guān)機流程進行關(guān)機。一般先關(guān)閉鍍膜相關(guān)的功能部件,如蒸發(fā)源或濺射靶的電源,然后關(guān)閉真空系統(tǒng),等待真空室壓力恢復(fù)到正常大氣壓后,再關(guān)閉冷卻系統(tǒng)和總電源。這樣可以避免設(shè)備在高溫、高真空等...
主要分類:真空鍍膜機根據(jù)鍍膜方式的不同,可以分為蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜兩大類: 蒸發(fā)沉積鍍膜:包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)等。這類方法可以通過加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并沉降在基片表面,然后形成薄膜。 濺射沉積...
適用范圍廣材料選擇多樣: 可用于多種類型的基底材料,包括金屬、玻璃、陶瓷、塑料、半導(dǎo)體等,幾乎涵蓋了所有常見的工業(yè)材料。同時,膜材的選擇也非常豐富,如各種金屬、合金、化合物等,能夠滿足不同應(yīng)用場景對薄膜性能的多樣化需求。 可鍍復(fù)雜形狀工件:能夠...
濺射鍍膜原理(也是氣相沉積 - PVD 的一種)濺射鍍膜在真空鍍膜機中是另一種重要的鍍膜方式。在濺射鍍膜系統(tǒng)中,首先在真空室內(nèi)通入惰性氣體(如氬氣),然后利用高壓電場使氬氣電離,產(chǎn)生氬離子。氬離子在電場的加速下,以很高的速度轟擊靶材(即鍍膜材料)。例如,當(dāng)靶材...
主要分類:真空鍍膜機根據(jù)鍍膜方式的不同,可以分為蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜兩大類: 蒸發(fā)沉積鍍膜:包括真空電阻加熱蒸發(fā)、電子槍加熱蒸發(fā)等。這類方法可以通過加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并沉降在基片表面,然后形成薄膜。 濺射沉積...
真空腔體功能:真空腔體是整個設(shè)備的主要部分,用于容納待鍍膜物體和鍍膜材料。材料:腔體通常由不銹鋼材料制作,以確保其不生銹、堅實耐用。規(guī)格:根據(jù)加工產(chǎn)品的要求,真空腔的大小會有所不同,目前應(yīng)用較多的規(guī)格有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。連接閥:...
提高物體的光學(xué)性能:可以在物體表面形成具有特定光學(xué)性能的薄膜,如反射率高、透過率低等,用于改善光學(xué)器件的品質(zhì)和性能。延長使用壽命:真空鍍膜可以在物體表面形成一層保護膜,防止基底材料受到污染或腐蝕,從而延長物體的使用壽命。綜上所述,真空鍍膜機以其高效性、高質(zhì)量、...
膜體材料的釋放:在真空環(huán)境中,膜體材料(如金屬、合金、化合物等)通過加熱蒸發(fā)或濺射的方式被釋放出來。蒸發(fā)過程通常涉及加熱蒸發(fā)源,使膜體材料蒸發(fā)成氣態(tài)分子;濺射過程則利用高能粒子(如離子)轟擊靶材,使靶材原子或分子被濺射出來。 分子的沉積:蒸發(fā)或濺射出的膜體...
真空鍍膜機具有以下優(yōu)點: 環(huán)保性好無污染物排放:真空鍍膜過程在真空環(huán)境中進行,不需要使用大量的化學(xué)溶液,不會像傳統(tǒng)電鍍等工藝那樣產(chǎn)生大量的廢液、廢氣等污染物,對環(huán)境十分友好,符合現(xiàn)代綠色生產(chǎn)的要求。 能源消耗低:相較于一些傳統(tǒng)鍍膜方法,真空鍍膜...
真空室清潔: 定期清掃:真空室內(nèi)部應(yīng)該要定期進行清潔,以清掃鍍膜過程中殘留的膜材顆粒、灰塵等雜質(zhì)。每次鍍膜任務(wù)完成之后,在真空室冷卻完以后,需要使用干凈的、不掉纖維的擦拭工具,如無塵布,對真空室內(nèi)部進行擦拭。 深度清潔:每隔一段時間(例如半年左...
直流磁控濺射:在陽極基片和陰極靶之間加一個直流電壓,陽離子在電場的作用下轟擊靶材。直流磁控濺射的特點是其濺射速率一般都比較大,但一般只能用于金屬靶材。射頻磁控濺射:利用射頻電源產(chǎn)生交變電磁場,使電子在交變電磁場的作用下不斷與氣體分子發(fā)生碰撞并電離出離子來轟擊靶...
蒸發(fā)鍍膜機: 原理與構(gòu)造:蒸發(fā)鍍膜機利用高溫加熱使鍍膜材料蒸發(fā),氣態(tài)原子或分子在工件表面凝結(jié)成膜。它主要由真空室、蒸發(fā)源、工件架和真空系統(tǒng)構(gòu)成。電阻加熱、電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱是常見的蒸發(fā)源加熱方式。電阻加熱通過電流流經(jīng)電阻材料產(chǎn)生熱量;電子束加熱...
開機操作過程中的注意事項: 按照正確順序開機:嚴(yán)格按照設(shè)備制造商提供的開機操作流程進行開機。通常先開啟總電源,然后依次開啟冷卻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等。例如,在開啟真空系統(tǒng)時,要等待真空泵預(yù)熱完成后再啟動抽氣程序,避免真空泵在未預(yù)熱的情況下強行工作...