光刻膠的特性及對過濾器的要求:光刻膠溶液的基本特性。高粘度:光刻膠溶液通常為液體或半流體狀態(tài),具有較高的粘度。這種特性使得其在流動過程中更容易附著顆粒雜質(zhì),并可能導(dǎo)致濾芯堵塞。低顆粒容忍度:半導(dǎo)體芯片的制備對光刻膠溶液中的顆粒含量有嚴(yán)格的限制,通常要求雜質(zhì)顆粒直徑小于0.1 μm。這意味著過濾器需要具備極高的分離效率和潔凈度。過濾器的設(shè)計要求高精度分離能力:光刻膠過濾器必須能夠有效去除0.1 μm以下的顆粒雜質(zhì),以滿足芯片制造的嚴(yán)苛要求。耐腐蝕性與化學(xué)穩(wěn)定性:光刻膠溶液中可能含有多種溶劑和化學(xué)添加劑(如顯影液、脫氣劑等),這些物質(zhì)可能對濾芯材料造成腐蝕或溶解。因此,選擇具有強耐腐蝕性的濾材是設(shè)...
輔助部件:壓力表:1. 作用:監(jiān)測過濾器進(jìn)出口之間的壓差,確保過濾器的正常運行。2. 安裝位置:通常安裝在過濾器的進(jìn)出口處。3. 類型:常見的壓力表有機械壓力表和數(shù)字壓力表。溫度傳感器:1. 作用:監(jiān)測光刻膠的溫度,確保過濾器在適當(dāng)?shù)臏囟确秶鷥?nèi)工作。2. 安裝位置:通常安裝在過濾器內(nèi)部或進(jìn)出口處。3. 類型:常見的溫度傳感器有熱電偶和熱電阻。反洗裝置:1. 作用:用于反向沖洗過濾介質(zhì),去除附著的雜質(zhì)。2. 設(shè)計:反洗裝置通常包括反洗泵、反洗管道和反洗閥。3. 操作:定期進(jìn)行反洗操作,保持過濾介質(zhì)的清潔度。定期檢查和測試過濾器的效率可有效識別問題。江西油墨光刻膠過濾器價位先后順序的問題:對于泵和...
基底材料影響1. 基底類型:金屬(Al/Cu):易被酸腐蝕,需改用中性溶劑。 聚合物(PI/PDMS):有機溶劑易致溶脹變形。 解決方案:金屬基底使用乙醇胺基剝離液;聚合物基底采用低溫氧等離子體剝離。2. 表面處理狀態(tài):HMDS涂層:增強膠層附著力,但增加剝離難度。粗糙表面:膠液滲入微孔導(dǎo)致殘留。解決方案:剝離前用氧等離子體清潔表面,降低粗糙度。環(huán)境與操作因素:1. 溫濕度控制:低溫(
明確過濾精度需求:過濾精度是選擇光刻膠過濾器的首要考量因素。不同工藝節(jié)點對顆粒控制的要求差異明顯,必須嚴(yán)格匹配。傳統(tǒng)微米級工藝通常使用1-5微米精度的過濾器即可滿足需求。而現(xiàn)代納米級制程往往需要0.05微米甚至更高精度的過濾方案。特別需要注意的是,EUV光刻工藝要求過濾器能有效攔截0.02微米級別的顆粒污染物。過濾器的標(biāo)稱精度與實際攔截效率存在重要區(qū)別。行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,標(biāo)稱精度只表示對特定尺寸顆粒的90%攔截率。對于關(guān)鍵制程,必須選擇一定精度認(rèn)證的過濾器產(chǎn)品。優(yōu)良供應(yīng)商會提供完整的攔截效率曲線,展示對不同粒徑顆粒的捕獲能力。實際選擇時,建議預(yù)留20%的安全余量,確保工藝可靠性。光刻膠過濾器攔截氣...
國內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)化現(xiàn)狀:近年來,隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,光刻膠作為關(guān)鍵材料,其標(biāo)準(zhǔn)化工作也在逐步推進(jìn),但整體仍處于起步階段。目前,我國光刻膠相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)量較少,且主要集中在中低端產(chǎn)品領(lǐng)域,高級光刻膠標(biāo)準(zhǔn)仍存在較大缺口。我國光刻膠標(biāo)準(zhǔn)化工作正在逐步完善,相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會和企業(yè)積極參與標(biāo)準(zhǔn)制定。例如,全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC203)主導(dǎo)了多項光刻膠標(biāo)準(zhǔn)的起草和發(fā)布。此外,國內(nèi)一些企業(yè)也在積極參與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定,推動光刻膠產(chǎn)業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)化發(fā)展。整個制造過程中,光刻膠過濾器扮演著不可缺少的角色。廣東膠囊光刻膠過濾器市場價格光刻膠剝離效果受多方面因素影響,主要涵蓋光刻膠自身特性、剝...
光刻膠的特性及對過濾器的要求:光刻膠溶液的基本特性。高粘度:光刻膠溶液通常為液體或半流體狀態(tài),具有較高的粘度。這種特性使得其在流動過程中更容易附著顆粒雜質(zhì),并可能導(dǎo)致濾芯堵塞。低顆粒容忍度:半導(dǎo)體芯片的制備對光刻膠溶液中的顆粒含量有嚴(yán)格的限制,通常要求雜質(zhì)顆粒直徑小于0.1 μm。這意味著過濾器需要具備極高的分離效率和潔凈度。過濾器的設(shè)計要求高精度分離能力:光刻膠過濾器必須能夠有效去除0.1 μm以下的顆粒雜質(zhì),以滿足芯片制造的嚴(yán)苛要求。耐腐蝕性與化學(xué)穩(wěn)定性:光刻膠溶液中可能含有多種溶劑和化學(xué)添加劑(如顯影液、脫氣劑等),這些物質(zhì)可能對濾芯材料造成腐蝕或溶解。因此,選擇具有強耐腐蝕性的濾材是設(shè)...
光刻膠過濾器在半導(dǎo)體制造過程中發(fā)揮著重要作用,通過過濾雜質(zhì)、降低顆粒度、延長使用壽命等方面對提高芯片生產(chǎn)的精度和質(zhì)量起著至關(guān)重要的作用,使用時需要注意以上事項。光刻工藝是微圖形轉(zhuǎn)移工藝,隨著半導(dǎo)體加工的線寬越來越小,光刻工藝對極小污染物的控制苛刻到極好,不光對顆粒嚴(yán)格控制,嚴(yán)控過濾產(chǎn)品的金屬離子析出,這對濾芯生產(chǎn)制造提出了特別高的要求。我們給半導(dǎo)體客戶提供半導(dǎo)體級別的全氟濾芯,極低的金屬析出溶出確保了產(chǎn)品的潔凈。過濾器的外殼多為不銹鋼或聚丙烯,具有良好的耐腐蝕性。海南緊湊型光刻膠過濾器規(guī)格光刻膠過濾器的工作原理?:光刻膠過濾器主要通過物理過濾的方式去除光刻膠中的雜質(zhì)。其主要過濾部件通常采用具有...
光刻膠過濾器作為半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備,在提高生產(chǎn)良率和保障產(chǎn)品性能方面發(fā)揮著不可替代的作用。其主要工作原理基于顆粒物質(zhì)的物理截留和深層吸附機制,同時結(jié)合靜電吸引等附加作用,能夠在復(fù)雜的工藝條件下保持高效的分離能力。通過理解光刻膠溶液的基本特性和實際應(yīng)用需求,我們可以更好地選擇和優(yōu)化光刻膠過濾器的設(shè)計與參數(shù)設(shè)置,從而為高精度制造提供更可靠的技術(shù)支持。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展和技術(shù)的不斷進(jìn)步,未來光刻膠過濾器將在更高的純度要求和更復(fù)雜的工藝環(huán)境中繼續(xù)發(fā)揮重要作用,助力微電子技術(shù)向更高水平邁進(jìn)。某些過濾器采用納米技術(shù)以提高細(xì)微顆粒的捕獲率。湖北濾芯光刻膠過濾器批發(fā)價格工作流程:光刻膠過濾器的基...
使用點(POU)分配過濾器?:POU 分配過濾器則安裝在光刻設(shè)備的使用點附近,對即將用于光刻的光刻膠進(jìn)行然后一道精細(xì)過濾。其過濾精度通??蛇_(dá)亞納米級別,能夠有效去除光刻膠中殘留的微小顆粒、凝膠微橋缺陷、微孔缺陷以及金屬污染等,確保涂覆在晶圓表面的光刻膠達(dá)到極高的純凈度。POU 分配過濾器的設(shè)計注重減少死體積和微氣泡的產(chǎn)生,以避免對光刻膠的質(zhì)量造成二次影響。例如,一些 POU 分配過濾器采用了優(yōu)化的流路設(shè)計和快速通風(fēng)結(jié)構(gòu),能夠在保證過濾效果的同時,較大限度地減少光刻膠在過濾器內(nèi)部的滯留時間,降低微氣泡形成的可能性。?亞納米精度過濾器,是實現(xiàn) 3 納米及以下先進(jìn)制程的重要保障。廣州油墨光刻膠過濾器...
光刻膠過濾器在光刻工藝中的應(yīng)用?:傳統(tǒng)光刻工藝中的應(yīng)用?:在傳統(tǒng)的紫外光刻工藝中,光刻膠過濾器對于保障光刻質(zhì)量起著關(guān)鍵作用。通過去除光刻膠中的雜質(zhì),過濾器能夠有效減少光刻圖案的缺陷,提高光刻的分辨率和重復(fù)性。例如,在芯片制造的光刻工序中,經(jīng)過高質(zhì)量光刻膠過濾器過濾后的光刻膠,能夠在晶圓表面形成更加清晰、精確的電路圖案,從而提高芯片的良品率。同時,光刻膠過濾器還可以延長光刻設(shè)備的使用壽命,減少因雜質(zhì)對設(shè)備噴頭、管道等部件的磨損和堵塞,降低設(shè)備維護(hù)成本。?亞納米級精度的 POU 過濾器,可去除光刻膠中殘留的極微小顆粒。深圳直排光刻膠過濾器定制價格驗證方法與性能評估:選擇了合適的過濾器后,必須建立科...
光刻膠過濾器的作用:什么是光刻膠過濾器?光刻膠過濾器,也被稱為光刻膠濾網(wǎng),是一種用于半導(dǎo)體光刻生產(chǎn)線中的過濾器設(shè)備。它通過過濾光刻膠中的雜質(zhì)、顆粒等,確保光刻液中的純凈度,從而提高芯片制造的質(zhì)量和穩(wěn)定性。使用注意事項:1.及時更換過濾器:使用過程中需要定期檢查過濾器的狀態(tài),及時更換已經(jīng)使用過的過濾器。2.保養(yǎng)過濾器:過濾器需要定期清洗和維護(hù),以保證過濾器的過濾能力及性能穩(wěn)定。3.使用合適的過濾器:選擇合適的過濾器、保證過濾器的質(zhì)量,可以提高光刻膠過濾器的使用效果和壽命。EUV 光刻對光刻膠純凈度要求極高,高性能過濾器是工藝關(guān)鍵保障。福建膠囊光刻膠過濾器光刻膠的過濾方法通常包括以下幾種:1.機械...
先進(jìn)光刻工藝中的應(yīng)用?:在先進(jìn)的 EUV 光刻工藝中,由于其對光刻膠的純凈度要求極高,光刻膠過濾器的作用更加凸顯。EUV 光刻技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)更小的芯片制程,但同時也對光刻膠中的雜質(zhì)更加敏感。光刻膠過濾器需要具備更高的過濾精度和更低的析出物,以滿足 EUV 光刻膠的特殊需求。例如,采用亞 1 納米精度的光刻膠過濾器,可以有效去除光刻膠中的極微小顆粒和金屬離子,確保 EUV 光刻過程中圖案轉(zhuǎn)移的準(zhǔn)確性和完整性,為實現(xiàn) 3 納米及以下先進(jìn)制程工藝提供有力保障。?尼龍過濾膜親水性佳,適合對化學(xué)兼容性要求高的光刻膠過濾。半導(dǎo)體光刻膠過濾器規(guī)格光刻膠過濾器的主要工作原理:顆粒過濾機制:表面截留(Surfac...
囊式過濾器也稱為一體式過濾器,采用折疊式濾膜,過濾表面積大,適合較大體積溶液的過濾。這種濾器的外表聚丙烯材料,不含粘合劑和其它化學(xué)物質(zhì),保證不污染樣品。濾器有不同孔徑可供選擇,并且可以進(jìn)行高壓滅菌。產(chǎn)品特性:1. 1/4外螺紋接口,并備有各種轉(zhuǎn)換接頭可供轉(zhuǎn)換。2. 囊式過濾器 適用于過濾1-20升實驗室及各種機臺終端過濾。3. 可拋棄式的囊式過濾器濾芯結(jié)構(gòu)不需要濾筒裝置,比傳統(tǒng)過濾方法減低了噴濺和泄漏的危險,安裝方便。4. 不同孔徑的囊式過濾器可以搭配起來作為預(yù)濾和終端過濾,滿足極其苛刻的過濾要求。在傳統(tǒng)紫外光刻中,光刻膠過濾器減少圖案缺陷,提高芯片光刻良品率。深圳三口式光刻膠過濾器添加劑兼容...
當(dāng)光刻膠通過過濾器時,雜質(zhì)被過濾膜截留,而純凈的光刻膠則透過過濾膜流出,從而實現(xiàn)光刻膠的凈化。光刻膠過濾器的類型?:主體過濾器?:主體過濾器通常安裝在光刻膠供應(yīng)系統(tǒng)的前端,用于對大量光刻膠進(jìn)行初步過濾。其過濾精度一般在幾微米到幾十納米之間,能夠去除光刻膠中的較大顆粒雜質(zhì)和部分金屬離子等。主體過濾器的過濾面積較大,通量高,能夠滿足光刻膠大規(guī)模供應(yīng)的過濾需求。例如,在一些芯片制造工廠中,主體過濾器可以每小時處理數(shù)千升的光刻膠,為后續(xù)的光刻工藝提供相對純凈的光刻膠原料。主體過濾器位于光刻膠供應(yīng)前端,可每小時處理大量光刻膠,初步過濾大顆粒雜質(zhì)。深圳半導(dǎo)體光刻膠過濾器現(xiàn)貨直發(fā)先后順序的問題:對于泵和過濾...
半導(dǎo)體行業(yè)光刻膠用過濾濾芯的材質(zhì)一般有PP、PTFE、PVDF等,不同材質(zhì)的過濾濾芯具有不同的優(yōu)缺點,選擇過濾濾芯需要根據(jù)具體使用情況進(jìn)行判斷。如何正確選擇過濾濾芯:1. 根據(jù)光刻膠的特性選擇過濾濾芯的材質(zhì)和孔徑。2. 根據(jù)過濾濾芯的使用壽命選擇合適的更換周期。3. 定期維護(hù)過濾濾芯,清洗或更換過濾濾芯。選擇合適的過濾濾芯材質(zhì)及孔徑對于光刻膠的過濾效率和光刻工藝的成功率具有重要意義。在選擇過濾濾芯時,需要根據(jù)光刻膠的特性和使用情況進(jìn)行判斷,并定期維護(hù)更換過濾濾芯,以保證光刻工藝的穩(wěn)定性和成功率。高密度聚乙烯過濾膜機械性能良好,能滿足多種光刻膠的過濾需求。廣西三開口光刻膠過濾器怎么樣其他關(guān)鍵因素...
囊式過濾器也稱為一體式過濾器,采用折疊式濾膜,過濾表面積大,適合較大體積溶液的過濾。這種濾器的外表聚丙烯材料,不含粘合劑和其它化學(xué)物質(zhì),保證不污染樣品。濾器有不同孔徑可供選擇,并且可以進(jìn)行高壓滅菌。產(chǎn)品特性:1. 1/4外螺紋接口,并備有各種轉(zhuǎn)換接頭可供轉(zhuǎn)換。2. 囊式過濾器 適用于過濾1-20升實驗室及各種機臺終端過濾。3. 可拋棄式的囊式過濾器濾芯結(jié)構(gòu)不需要濾筒裝置,比傳統(tǒng)過濾方法減低了噴濺和泄漏的危險,安裝方便。4. 不同孔徑的囊式過濾器可以搭配起來作為預(yù)濾和終端過濾,滿足極其苛刻的過濾要求。定期檢查和測試過濾器的效率可有效識別問題。深圳濾芯光刻膠過濾器供應(yīng)隨著技術(shù)節(jié)點的發(fā)展,光刻曝光源...
光刻膠是半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵材料,其質(zhì)量直接影響芯片性能和良率。近年來,國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,光刻膠行業(yè)迎來發(fā)展機遇,但也面臨諸多挑戰(zhàn),尤其是在高級光刻膠領(lǐng)域與國際先進(jìn)水平差距較大。我國光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈呈現(xiàn)“上游高度集中、中游技術(shù)分化、下游需求倒逼”的特征,上游原材料70%依賴進(jìn)口,中游企業(yè)如彤程新材、南大光電已實現(xiàn)KrF光刻膠量產(chǎn),但ArF光刻膠仍處于客戶驗證階段,下游晶圓廠擴產(chǎn)潮推動需求激增,認(rèn)證周期長,形成“技術(shù)-市場”雙向壁壘。光刻膠中的原材料雜質(zhì),可通過主體過濾器在供應(yīng)前端初步過濾。湖南油墨光刻膠過濾器價格層流狀態(tài)下,光刻膠能更均勻地通過過濾介質(zhì)。設(shè)備會控制光刻膠的流速,防止過快流速影響過...
光刻膠過濾濾芯的作用及使用方法:光刻膠過濾濾芯的作用:光刻工藝中,光刻膠過濾濾芯是非常重要的一個環(huán)節(jié)。光刻膠經(jīng)過過濾濾芯的過濾,可以去除雜質(zhì)和微粒,保證光刻膠的純度和穩(wěn)定性,從而提高光刻膠的質(zhì)量。同時,過濾濾芯還可以保護(hù)設(shè)備不受污染,減少光刻膠的使用量,降低生產(chǎn)成本。光刻膠過濾濾芯的選擇:選擇合適的過濾濾芯是非常重要的。首先要根據(jù)光刻膠的種類和使用要求來選擇相應(yīng)的過濾濾芯。其次要考慮過濾濾芯的型號和過濾精度。光刻膠過濾器的維護(hù)方案應(yīng)定期更新,以確保性能。江西膠囊光刻膠過濾器批發(fā)深度過濾器則采用纖維材料(如聚丙烯纖維)的立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),通過多重機制捕獲顆粒。與膜式過濾器相比,深度過濾器具有更高的容...
在半導(dǎo)體制造的復(fù)雜工藝體系中,光刻技術(shù)無疑占據(jù)著主要地位。光刻的精度和質(zhì)量直接決定了芯片的性能與集成度,而光刻膠作為光刻過程中的關(guān)鍵材料,其純凈度對光刻效果起著至關(guān)重要的作用。在保障光刻膠純凈度的眾多因素中,光刻膠過濾器扮演著不可或缺的角色,堪稱半導(dǎo)體制造中的隱形守護(hù)者。?大多數(shù)的光刻膠生產(chǎn)商用旋轉(zhuǎn)式粘度計在光刻膠中轉(zhuǎn)動風(fēng)向標(biāo)的方法測量黏度。轉(zhuǎn)動風(fēng)向標(biāo)法是一種相對簡單的測量方法,其基本原理是利用旋轉(zhuǎn)器件(通常是一個旋轉(zhuǎn)的圓柱體)在流體中產(chǎn)生阻力,根據(jù)阻力的大小來推測流體的黏度。光刻膠過濾器能夠極大地減少后續(xù)加工中的故障。福建緊湊型光刻膠過濾器供應(yīng)商光刻膠的特性及對過濾器的要求:光刻膠溶液的基本...
光刻膠過濾器的性能優(yōu)勢?:保護(hù)光刻設(shè)備?:光刻膠中的雜質(zhì)可能會對光刻設(shè)備造成損害,如堵塞噴頭、磨損管道等。光刻膠過濾器能夠攔截這些雜質(zhì),保護(hù)光刻設(shè)備的關(guān)鍵部件,延長設(shè)備的使用壽命,降低設(shè)備維護(hù)和更換成本。例如,在光刻設(shè)備運行過程中,使用光刻膠過濾器可以減少設(shè)備因雜質(zhì)問題而出現(xiàn)故障的次數(shù),提高設(shè)備的正常運行時間。?提升光刻工藝穩(wěn)定性?:光刻膠過濾器能夠確保光刻膠的純凈度始終保持在較高水平,從而提升光刻工藝的穩(wěn)定性和重復(fù)性。這對于大規(guī)模芯片生產(chǎn)中保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性至關(guān)重要。在連續(xù)的光刻工藝中,穩(wěn)定的光刻膠質(zhì)量可以使每一片晶圓上的光刻圖案都具有相同的高質(zhì)量,減少因光刻膠質(zhì)量波動而導(dǎo)致的產(chǎn)品質(zhì)量差異...
對比度:對比度高的光刻膠在曝光后形成的圖形具有陡直的側(cè)壁和較高的深寬比。顯影曲線的斜率越大,光刻膠的對比度越高。對比度直接影響光刻膠的分辨能力,在相同的曝光條件下,對比度高的光刻膠比對比度低的光刻膠具有更陡直的側(cè)壁??箍涛g比:對于干法刻蝕工藝,光刻膠作為刻蝕掩膜時,需要較高的抗刻蝕性??箍涛g性通常用刻蝕膠的速度與刻蝕襯底材料的速度之比來表示,稱為選擇比。選擇比越高,所需的膠層厚度越大,以實現(xiàn)對襯底一定深度的刻蝕。分辨能力:分辨能力是光刻膠的綜合指標(biāo),受曝光系統(tǒng)分辨率、光刻膠的相對分子質(zhì)量、分子平均分布、對比度與膠厚以及顯影條件與烘烤溫度的影響。較薄的膠層通常具有更高的分辨率,但需與選擇比或li...
過濾濾芯的選擇原則:過濾濾芯是光刻膠過濾的關(guān)鍵部件,其選擇需要根據(jù)光刻膠的特性進(jìn)行判斷。對于粘度較高的光刻膠,需要選擇孔徑較大、過濾速度較快的過濾濾芯,以保證過濾效率;而對于粘度較低的光刻膠,則需要選擇孔徑較小、過濾速度較慢的過濾濾芯,以避免光刻膠的流失。過濾濾芯的材質(zhì)及其優(yōu)缺點:1. PP材質(zhì):PP材質(zhì)的過濾濾芯具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性,適用于酸堿性較強的光刻膠過濾。但其過濾精度較低,易被光刻膠堵塞。2. PTFE材質(zhì):PTFE材質(zhì)的過濾濾芯具有良好的耐腐蝕性、耐高溫性和良好的過濾精度,可過濾0.1微米以上的微粒。但其價格相對較高。3. PVDF材質(zhì):PVDF材質(zhì)的過濾濾芯具有良好的耐腐...
光刻膠是一種用于微電子制造過程中的材料,它能夠在光照作用下發(fā)生化學(xué)變化,從而在特定區(qū)域暴露或抑制。使用過濾器的方法:使用過濾器時,首先需要將光刻膠混合液放入瓶子中,將過濾器固定在瓶口上,然后加壓過濾,將雜質(zhì)過濾掉。在操作時要注意以下幾點:1. 過濾器要清潔干凈,避免過濾過程中產(chǎn)生二次污染。2. 過濾器不宜反復(fù)使用,避免精度下降。3. 操作時要輕柔,避免過濾器損壞??傊褂眠^濾器是保證實驗室光刻膠制備質(zhì)量的必要步驟,正確地選擇和使用過濾器,可以有效地提高制備效率和制備質(zhì)量。在設(shè)計過濾器時需考慮流量、工作壓力及溫度參數(shù)。海南膠囊光刻膠過濾器供應(yīng)視窗:1. 作用:用于觀察過濾器內(nèi)部的液體狀態(tài)和過濾...
光刻膠通常由聚合物樹脂、光引發(fā)劑、溶劑等組成,其在半導(dǎo)體制造、平板顯示器制造等領(lǐng)域得到普遍應(yīng)用。光刻膠的去除液及去除方法與流程是一種能夠低襯底和結(jié)構(gòu)腐蝕并快速去除光刻膠的去除液以及利用該去除液除膠的方法。該方法的背景技術(shù)是光刻是半導(dǎo)體制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫圖形,然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在半導(dǎo)體晶圓上。上述步驟完成后,就可以對晶圓進(jìn)行選擇性的刻蝕或離子注入等工藝過程,未被溶解的光刻膠將保護(hù)被覆蓋的晶圓表面在這些過程中不被改變。上述工藝過程結(jié)束后,需要將光刻膠去除、晶圓表面清洗,才能進(jìn)行下一步工藝過程。穩(wěn)定的光刻膠純凈度依賴過濾器,保障光刻工...