目前市場上常見的合金靶材有哪些？ 鈦鋁靶材,TiAl靶材，鈦硅靶材,TiSi靶材，鈦鎢靶材,TiW靶材，鎢鈦靶材WTi靶材，鈦鋁硅靶材,TiAlSi靶材，鉻鋁靶材,CrAl靶材，鉻硅靶材,CrSi靶材，硅鋁靶材,SiAl靶材，鋅錫靶材,ZnSn靶材，鋅鋁靶材,ZnAl靶材，鋁銅靶材,AlCu靶材，鎳鉻靶材,NiCr靶材，鎳釩靶材,NiV靶材，鎳鐵靶材,NiFe靶材，鎳銅靶材,NiCu靶材，鐵鈷靶材,FeCo靶材，鈦鈮靶材,TiNb靶材，鈦鋯靶材,TiZr靶材，銦錫靶材,InSn靶材，銅鋯靶材,CuZr靶材，鎂鋅鈣靶材,MgZnCa靶材，鎳鉻銅靶材,NiCrCu靶材，鉬鈮靶材,MoNb靶材，鋁釹靶材,AlNd靶材，鋁鈧靶材,AlSc靶材，銀鋁靶材,AgAl靶材， 鉻鋁硅靶材,CrAlSi靶材，鏑鋁靶材,DyAl靶材，鈮鋯靶材,NbZr靶材等等。射靶材應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域。杭州鈦鎢靶型號

陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱，根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃，在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機鍍上一層或多層薄膜，在這里我們簡稱反射玻璃。         反射玻璃相對于普通透明玻璃而言，在太陽能的反射性能上，反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍，第二次的反射高出3.1倍，總的反射就高出3.6倍了；在遮蔽系數(shù)上，反射玻璃比普通玻璃減少0.18，系數(shù)越少，遮光效果就會越好的，減少太陽輻射和熱能的透射；在可見光的反射和透射上，反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%～38%，透射減少了55%～70%，具有良好的遮光性能；在傳熱系數(shù)上，反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W（m2.K），具有良好的隔熱性能。         利用其良好的遮光和隔熱性能，可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費，是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品，而且可以通過不同的金屬或金屬化合物為靶材，鍍制出不同顏色的反射膜，常見的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色，通過不同的配搭，達到裝飾的效果，即美觀又節(jié)能。杭州鈦鎢靶型號靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面。

6. 起輝濺射真空度與前次的差別？

---------更換不同的靶材，起輝壓強不盡相同。

換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 五．磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？磁控濺射過程中，等離子體的離子撞擊靶材，濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。

濺射發(fā)生在靶材表面，靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒有關系，濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。

等離子預處理工藝在真空鍍鋁膜中的應用。 等離子體是電離了的氣體。它由電子、離子和中性粒子3種成分組成，其中電子和離子的電荷總數(shù)基本相等，故整體是電中性的。在基材薄膜鍍鋁前，通過等離子處理裝置將電離的等離子體中的電子或離子打到基材薄膜表面，一方面，可以打開材料的長分子鏈，出現(xiàn)高能基團；另一方面，經(jīng)打擊使薄膜表面出現(xiàn)細小的凹陷，同時還可使表面雜質(zhì)離解、重解。電離時放出的臭氧有強氧化性，附著的雜質(zhì)被氧化而除去，使鍍鋁基材薄膜的表面自由能提高，達到提高鍍鋁層附著牢度的目的。 等離子預處理技術在不同公司其稱呼不同，如英國Bobst公司、德國Leybold Optic萊寶光電等稱之為等離子預處理，美國Applied Material公司稱之為輝光放電，英國Rexam公司為其注冊商標為Camplus技術。另外，不同公司其使用的工藝氣體的組分也有所不同，多數(shù)公司使用氧氣和氬氣的組合，也有少數(shù)公司使用氮氣或氧氣與氮氣的組合。實踐證明經(jīng)過等離子處理后的薄膜其鍍鋁層附著牢度可以提高30-50%，且表現(xiàn)為非極性材料提高幅度高于極性材料。靶材安裝及注意事項有哪些？

什么是靶材綁定

主要從靶材綁定的定義，適用范圍和背靶的選擇三個方面來為大家介紹一下靶材綁定。

一.靶材綁定的定義

靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來。主要由三種方式：壓接、釬焊和導電膠。

1.壓接：采用壓條，一般為了提高接觸的良好性，會增加石墨紙、Pb或In皮；

2.釬焊：一般使用軟釬料的情況下，要求濺射功率小于20W/cm2，釬料常用In、Sn、In-Sn；

3.導電膠：采用的導電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。

二.綁定的適用范圍

建議綁定的靶材：

ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；錫、銦等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴的情況等。 此外，提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應力。密度也是靶材的關鍵性能指標之一。杭州鈦鎢靶型號

在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力。杭州鈦鎢靶型號

  磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍   (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。   (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實際承載功率   磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。   考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時的承載功率，直接水冷卻靶實際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。   磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。杭州鈦鎢靶型號

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內(nèi)外知名研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列高品質(zhì)濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供高品質(zhì)的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。