陽光控制鍍膜玻璃的優(yōu)點 陽光控制鍍膜玻璃主要就是為了遮光隔熱，根據(jù)它的物理特性也叫做熱反射鍍膜玻璃，在普通的透明玻璃上通過磁控濺射真空鍍膜機鍍上一層或多層薄膜，在這里我們簡稱反射玻璃。         反射玻璃相對于普通透明玻璃而言，在太陽能的反射性能上，反射玻璃一次的反射比普通玻璃高出4.3倍，第二次的反射高出3.1倍，總的反射就高出3.6倍了；在遮蔽系數(shù)上，反射玻璃比普通玻璃減少0.18，系數(shù)越少，遮光效果就會越好的，減少太陽輻射和熱能的透射；在可見光的反射和透射上，反射玻璃比普通玻璃反射增加了20%～38%，透射減少了55%～70%，具有良好的遮光性能；在傳熱系數(shù)上，反射玻璃比普通玻璃降低了0.4W（m2.K），具有良好的隔熱性能。         利用其良好的遮光和隔熱性能，可以大降低在室內(nèi)制冷和保暖的花費，是一種非常好的節(jié)能產(chǎn)品，而且可以通過不同的金屬或金屬化合物為靶材，鍍制出不同顏色的反射膜，常見的顏色有茶色、灰色、金黃色、古銅色、褐色、珊瑚黃色，通過不同的配搭，達到裝飾的效果，即美觀又節(jié)能。濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類。合肥鉻銅鎳靶材價錢

鋁鈧合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含鈧比較高能做到AlSc45wt%，質(zhì)量優(yōu)異，雜質(zhì)含量低，歡迎新老客戶來電咨詢洽談。江陰典譽新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧，品質(zhì)優(yōu)異，暢銷全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久，擁有豐富的經(jīng)驗，目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關靶材清單如下：稀土合金靶材：鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe；鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;釔鋁YAl;釔銅YCu;釔鐵YFe;釔鎂YMg;釔鎳YNi;釔鋯ZrY武漢AlCr靶材型號一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。

其他服務:打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工服務?；厥樟鞒倘缦?稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品江陰典譽新材料科技有限公司，是專業(yè)從事鍍膜材料、合金制備等相關材料研發(fā)、銷售、服務為一體的全球化高科技綜合性公司。以業(yè)內(nèi) 企業(yè)為支撐，整合技術(shù)資源，擁有自主進出口經(jīng)營權(quán)和成熟的運營管理團隊，科學化管理運營，為公司向化、高新化發(fā)展奠定了基礎。典譽新材料在光電器件、芯片半導體、太陽能電池、光學鍍膜、航空航天、 、冶金、功能材料、新能源等行業(yè)產(chǎn)品開發(fā)、創(chuàng)新方面，有著得天獨厚的優(yōu)勢。以客戶需求為導向，以前沿技術(shù)為基礎，開發(fā)了多個產(chǎn)品系列，涵蓋濺射靶材、蒸鍍膜料、高純合金、金屬粉末、耗材配件等千余種產(chǎn)品，質(zhì)量穩(wěn)定、工藝完善，得到廣大客戶好評。典譽新材料堅持“誠信為本、高質(zhì)的經(jīng)營理念，關注客戶需求，追求客戶滿意，以服務求生存，以質(zhì)量求發(fā)展，不斷優(yōu)化產(chǎn)品線，為廣大用戶提供一站式服務，力爭做全球 的金屬材料供應商。

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實驗采用石英玻璃為襯底，實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法，研究非晶硅薄膜的晶化過程。采用閉環(huán)控制反應氣體的通入量。

作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材的比較大厚度為28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材包括用于濺射的濺射面。 地，所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述斜面與水平面的夾角≤10°，例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。 地，所述平面為圓形。 地，所述第二平面為環(huán)形。由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？武漢AlCr靶材型號

有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮。合肥鉻銅鎳靶材價錢

  磁控靶材面積與承載功率范圍 1、靶材面積與承載功率范圍   (1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。   (2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。   (3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。 2、磁控靶實際承載功率   磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。   考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的使用時的承載功率，直接水冷卻靶實際的承載大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實際承載大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。   磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。合肥鉻銅鎳靶材價錢

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術(shù)，并通過與國內(nèi)外知名研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列高品質(zhì)濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供高品質(zhì)的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。