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來源: 發(fā)布時間:2025-06-30

制藥行業(yè) 在制藥行業(yè),對于注射用水和純化水,TOC 含量要求極為嚴(yán)格。因為有機碳雜質(zhì)可能會影響藥品質(zhì)量和安全性。例如,在注射劑的生產(chǎn)中,水中過高的 TOC 含量可能會與藥物成分發(fā)生反應(yīng),或者作為微生物生長的營養(yǎng)源,引發(fā)藥品污染。所以,制藥行業(yè)通常要求注射用水的 TOC 含量不超過 500μg/L,純化水的 TOC 含量不超過 5mg/L。這些嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)是為了確保藥品的純度和穩(wěn)定性,符合藥品生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范(GMP)的要求。 電子工業(yè)(半導(dǎo)體制造等) 半導(dǎo)體制造過程對純度要求極高,水是半導(dǎo)體制造過程中清洗和蝕刻等步驟的關(guān)鍵材料。即使微量的有機碳雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片缺陷。例如,在光刻過程中,水中的有機碳可能會吸附在硅片表面,影響光刻精度。因此,電子工業(yè)中使用的超純水要求 TOC 含量一般低于 1 - 10μg/L,以滿足高精度芯片制造的需要。其在制藥包裝材料清洗中,可確保無離子殘留污染藥品。內(nèi)蒙古復(fù)配去離子水

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TOC 的測量方法 燃燒氧化 - 非色散紅外吸收法(NDIR) 原理:將水樣注入高溫燃燒爐(通常溫度在 680 - 950℃之間),水中的有機碳在高溫和催化劑(如鉑、二氧化鈷等)的作用下被完全氧化為二氧化碳。然后,通過非色散紅外吸收分析儀來檢測生成的二氧化碳的量,從而根據(jù)碳的守恒定律計算出水中 TOC 的含量。因為二氧化碳在特定波長(一般為 4.26μm 左右)的紅外光區(qū)域有強烈的吸收,通過檢測紅外光的吸收程度就能確定二氧化碳的量。 操作要點:在測量前,需要對儀器進行校準(zhǔn),通常使用已知 TOC 濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液(如鄰苯二甲酸氫鉀溶液)來校準(zhǔn)儀器的靈敏度和準(zhǔn)確性。水樣的注入量要準(zhǔn)確控制,因為這會直接影響測量結(jié)果。同時,要確保燃燒爐的溫度和催化劑的活性處于良好狀態(tài),以保證有機碳的完全氧化。 紫外線氧化 - 非色散紅外吸收法 原理:利用紫外線(UV)的能量使水中的有機碳發(fā)生氧化反應(yīng)。在紫外線的照射下,水中的有機碳被氧化為二氧化碳,然后再用非色散紅外吸收分析儀檢測二氧化碳的量來計算 TOC。這種方法相對溫和,對于一些對溫度敏感的水樣或者含有易揮發(fā)有機物質(zhì)的水樣比較適用。內(nèi)蒙古復(fù)配去離子水去離子水在化妝品的防腐體系中,可降低微生物滋生風(fēng)險。

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反滲透過濾器 原理:反滲透膜的孔徑更小,通常在 0.0001 - 0.001μm 之間,在壓力作用下,只有水分子能夠通過反滲透膜,而幾乎所有的有機碳化合物、鹽類、細(xì)菌等雜質(zhì)都被截留。這是一種非常有效的降低 TOC 含量的方法。 操作要點:反滲透系統(tǒng)需要一定的進水壓力,一般為 1 - 10MPa,因此要確保進水壓力穩(wěn)定。同時,要定期檢查和更換反滲透膜,通常每 1 - 2 年更換一次,具體更換時間還需根據(jù)水質(zhì)和使用情況確定。另外,要注意對反滲透系統(tǒng)進行適當(dāng)?shù)木S護,如清洗前置過濾器、檢查壓力泵等。 水源選擇與保護 選擇好的水源:如果有條件,可以選擇水源作為飲用水。例如,一些山區(qū)的天然泉水或經(jīng)過嚴(yán)格保護的深層地下水,其 TOC 含量通常較低。在選擇瓶裝水時,查看產(chǎn)品標(biāo)簽,了解水源和水質(zhì)檢測情況,優(yōu)先選擇 TOC 含量較低的品牌。 水源保護:對于家庭自備井等水源,要注意保護水源周邊環(huán)境。避免在水源附近傾倒垃圾、使用農(nóng)藥化肥等可能污染水源的行為??梢栽谒粗車N植植被,起到一定的過濾和保護作用,減少地面徑流中的有機污染物進入水源。

《中國國家實驗室用水規(guī)格 GB6682-92》:規(guī)定了實驗室用水的級別、技術(shù)要求、試驗方法等,將實驗室用水分為三個級別,其中一級水的電阻率、TOC 等指標(biāo)與質(zhì)譜儀使用的純水標(biāo)準(zhǔn)較為接近,是國內(nèi)實驗室制備和使用純水的重要參考標(biāo)準(zhǔn)之一2.《中國國家電子級超純水規(guī)格 GB/T11446-1997》:針對電子行業(yè)對超純水的高要求制定的標(biāo)準(zhǔn),該標(biāo)準(zhǔn)對超純水的電阻率、顆粒物質(zhì)、有機物、微生物等多項指標(biāo)做出了嚴(yán)格規(guī)定,其電阻率要求與質(zhì)譜儀使用的高純度純水相當(dāng),對電子行業(yè)中使用質(zhì)譜儀進行痕量分析等應(yīng)用具有重要的指導(dǎo)意義?!朵撗屑{克 PlasmaMS 300 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀操作手冊》:在儀器的使用說明中,通常會提及對使用純水的要求,如電阻率應(yīng)在 18.2MΩ/cm 左右等,幫助用戶正確選擇和使用符合要求的純水,以確保儀器的正常運行和分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。去離子水的硬度幾乎為零,不會對金屬表面產(chǎn)生侵蝕作用。

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化學(xué)氧化 - 滴定法(經(jīng)典化學(xué)分析方法) 試劑準(zhǔn)備 需要準(zhǔn)備化學(xué)氧化劑,如重鉻酸鉀(K?Cr?O?)溶液、硫酸(H?SO?)溶液、硫酸亞鐵銨 [(NH?)?Fe(SO?)?] 標(biāo)準(zhǔn)溶液等。同時,要準(zhǔn)備合適的指示劑,如鄰菲啰啉指示劑。重鉻酸鉀是強氧化劑,用于氧化水樣中的有機碳,硫酸提供酸性環(huán)境,硫酸亞鐵銨用于滴定剩余的重鉻酸鉀。 實驗步驟 取一定量(如 50 - 100mL)的水樣置于錐形瓶中,加入適量的重鉻酸鉀溶液和濃硫酸,加熱回流一定時間(如 2 - 3 小時),使水樣中的有機碳被氧化為二氧化碳。冷卻后,加入鄰菲啰啉指示劑,用硫酸亞鐵銨標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定剩余的重鉻酸鉀。根據(jù)重鉻酸鉀的加入量和滴定消耗的硫酸亞鐵銨的量,按照化學(xué)計量關(guān)系計算出水樣中的 TOC 含量。不過,這種方法操作相對復(fù)雜,且可能受到水樣中其他還原性物質(zhì)的干擾,需要進行空白實驗和干擾物質(zhì)校正。其密度因離子去除有所改變,接近理論上的純水密度值。內(nèi)蒙古復(fù)配去離子水

離子交換樹脂的中毒現(xiàn)象會導(dǎo)致去離子水離子超標(biāo),需處理。內(nèi)蒙古復(fù)配去離子水

定期維護:定期檢查反滲透膜的性能,包括脫鹽率、產(chǎn)水量等指標(biāo),根據(jù)廠家建議和實際運行情況,適時更換反滲透膜。同時,對設(shè)備的其他部件如密封圈、管道等進行檢查和更換,確保設(shè)備的密封性和正常運行。 清洗:當(dāng)反滲透膜的通量下降到初始通量的 70%-80% 左右,或產(chǎn)水水質(zhì)明顯下降時,需要對反滲透膜進行清洗。清洗方法包括物理清洗和化學(xué)清洗兩種。物理清洗可采用低壓沖洗、反沖洗等方式,去除膜表面的污垢和雜質(zhì);化學(xué)清洗則需根據(jù)膜污染的類型選擇合適的清洗劑,如酸液、堿液、氧化劑等,對膜進行浸泡或循環(huán)清洗,以恢復(fù)膜的性能 。內(nèi)蒙古復(fù)配去離子水

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