定影是使用定影液與未感光的AgBr反應(yīng)，將其溶解后除去，由此固定影像，使其不再受外界光源影響的過程。常用定影劑的主要成分包括Na2S2O3、(NH4)2S2O3，以Na2S2O3（俗稱大蘇打、海波）為例，AgBr與Na2S2O3發(fā)生復(fù)分解反應(yīng)首先形成更為難溶的NaAgS2O3，NaAgS2O3進(jìn)一步與Na2S2O3反應(yīng)得到可溶性的Na5Ag3(S2O3)4，從而達(dá)到除去AgBr的目的?！ㄓ皠┡c未感光的AgBr發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)定影液中也包含保護(hù)劑、中和劑、堅(jiān)膜劑等成分。定影液中保護(hù)劑的作用與顯影液中類似，同樣使用Na2SO3，不僅可避免定劑Na2S2O3氧化，還可優(yōu)先與體系中的H3O+反應(yīng)，避免Na2S2O3歧化分解析出單質(zhì)硫污染膠中和劑發(fā)揮的作用與停顯液相似，一般使用CH3COOH、H3BO3，此外還具有收縮乳劑層的作用。堅(jiān)膜劑則可以進(jìn)一步固化和收斂乳劑層，常用的包括鋁礬（K2SO4·Al2(SO4)3·24H2O）、鉻礬（K2SO4·Cr2(SO4)3·24H2O）。自此，膠片的乳劑層只剩下黑色Ag單質(zhì)構(gòu)成的影像。人們不必再擔(dān)心外界光源對膠片的影響，隨后再經(jīng)水洗除去殘留的定影液，晾干便完成膠片的沖洗。 依爾福特：主要要用于高濃度廢水催化降解和水中有機(jī)物降解。上海定影液需要避光嗎
D－23顯影液配方
盆顯罐顯膠卷、干片用
溫水（攝氏30－45度）………………750毫升
米吐爾…………………………………7.5克
無水亞***鈉…………………………100克
加冷水至………………………………1000毫升
不用促進(jìn)劑，只有兩種成分，是簡單的軟性微粒配方。顯影人像軟片對強(qiáng)光部分有良好作用。顯影時間略為延長不致顯影過度。
原液使用不必沖淡。效果是反差柔和，顆粒較細(xì)。
攝氏20度時，罐顯約18分鐘，盆顯約15分鐘。
溫度變化時，可按下表調(diào)整顯影時間。
顯影溫度（攝氏度） 21 22 23 24 25 26
時間（分） 17 15.5 14 12.5 11.5 10.5
使用定額：保存性極好。
上海定影液需要避光嗎ATDC是通過磁橋電路檢測顯影劑中的墨粉的比率。
5 D－76顯影液配方
盆顯罐顯膠片用
溫水（攝氏52度＝華氏125.6度）…750毫升
米吐爾…………………………………2克
無水亞***鈉…………………………100克
幾奴尼…………………………………5克
硼砂……………………………………2克
加冷水至………………………………1000毫升
原液使用，攝氏20度時，罐顯時間：上海牌膠卷10－16分鐘，保定膠卷8－12分鐘，“依爾?！迸颇z卷6－8分鐘。盆顯時間可略為縮短。
保存期限：密閉滿裝6個月，密閉半裝2個月，盆中24小時，每沖洗一卷膠卷后，應(yīng)增加補(bǔ)充液30毫升。
定影液疲勞衰退與補(bǔ)充定影過程中，定影液會隨著定影進(jìn)行消耗定影劑而逐漸疲勞衰退，定影性能變差、定影能力減弱。一般來說印版定影時，可與在相同曝光條件下曬出的灰梯尺空白級數(shù)來觀察定影效果，如定影效果不好，需及時更換定影液。沖片機(jī)定影輥維護(hù)定期維護(hù)沖片機(jī)，以保證已曝光的膠片定影能正常進(jìn)行。②在定影之前必須保持各傳動輥清潔，若牽引輥不干凈，定影時膠片易粘上臟點(diǎn)。③一定注意保持定影機(jī)膠輥清潔，否則要弄臟膠片。在印刷過程中定影液起什么作用?定影液應(yīng)用在輸出菲林和制版過程中，在目前的傳統(tǒng)印刷來說定影液是必須的，但是現(xiàn)在有很多新的制版技術(shù)在出現(xiàn),如無水直接制版,免處理直接制版是不需要定影液的,但是這些技術(shù)尚不成熟，而且沒有形成規(guī)模生產(chǎn)所以價格高，在很長一段時間內(nèi)不會推廣開來，定影液也就不會立即消失。 曬版時還需要注意曬版機(jī)玻璃的干凈程度與真空泵的吸氣情況。
顯影液濃度在制版中影響印版質(zhì)量的因素多，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞衰退程度等。顯影液的濃度是指顯影劑的相對含量，即NaOH、Na2SiO3總含量。市場上銷售的顯影液多是濃縮型液體，使用時需要按比例稀釋，顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來表示。在其他條件不變的前提下，顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系，即顯影液濃度越大，顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃，顯影時間為60秒時，PD型顯影液濃度對PS版性能的影響見表1（略）。從表中數(shù)據(jù)可看出，以3級干凈為準(zhǔn)的曝光量，PD型顯影液濃度以1∶6為比較好。當(dāng)顯影液濃度過大時，往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制；特別是它對圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng)，容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層，從而造成耐印力下降等弊病；同時空白部位的氧化膜和封孔層也會受到腐蝕和破壞，版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象，使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大，還易有結(jié)晶析出。 當(dāng)有圖像區(qū)域被曝光后，白色背景區(qū)未被曝光而保留-440V的負(fù)電荷。上海定影液需要避光嗎
一般情況下是細(xì)針狀晶體，在20℃時每100毫升水中可溶解6克。上海定影液需要避光嗎
底片的沖片或顯影過程其中所使用的有沒有哪個(定影液、顯影液) 會有含矽成分？
一般含矽的化學(xué)品在液體中容易產(chǎn)生結(jié)膠現(xiàn)象， 這種作用會導(dǎo)致工件表面殘留膠體的問題， 因此電路板相關(guān)的濕制程幾乎都不會讓這類配方在制程中出現(xiàn)。
定影液與顯影液是類同功能系列的不同名稱，在底片制作中比較常聽到的名稱是「定影液」，就是將感光與不感光區(qū)域做出保留與功能的，它的功能性與電路板影像轉(zhuǎn)移用的顯影液功能大致類似。
否需要用到消泡劑的問題，這部分必須要問供貨商，依據(jù)經(jīng)驗(yàn)所知似乎并沒有聽說需要特別外加消泡劑，不過終究不是用過所有廠牌的產(chǎn)品無法確實(shí)回答，還是必須要實(shí)際的廠商回答。 上海定影液需要避光嗎