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二氧化鈦粒度分析儀哪家好

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-12

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CPS納米粒度分析儀操作權(quán)限和文件存取安全設(shè)置;屏顯離心轉(zhuǎn)速控制;高級(jí)數(shù)據(jù)分析功能,包括噪聲過(guò)濾和分辨率加強(qiáng)。樣品應(yīng)用:地質(zhì)學(xué),土壤、粘土、沙、高嶺土;環(huán)境;制藥/生化;化學(xué),殺蟲(chóng)劑、分散劑、催化劑、樹(shù)脂、乳液、防腐劑、顏料、涂料、;陶瓷和金屬,鋁、硅、磁粉、鎢、燒結(jié)制品、不銹鋼、鈷;能源,煤、燃料、漿液、頁(yè)巖油乳劑;粉煤灰;食品;重工業(yè),聚合物、油滴、磨損顆粒、白堊、填料、調(diào)色劑、紙漿/紙、PVC、水泥;生命科學(xué)。二氧化鈦粒度分析儀哪家好馳光機(jī)電科技深受各界客戶(hù)好評(píng)及厚愛(ài)。

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CPS納米粒度儀測(cè)量金剛石的粒徑:金剛石微粉是指顆粒度細(xì)于36/54微米的金剛石顆粒,金剛石微粉硬度高、耐磨性好。大量用于機(jī)械、航天、光學(xué)儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質(zhì)、工業(yè)部門(mén),用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復(fù)合片)、陶瓷結(jié)合劑、金屬結(jié)合劑、電鍍產(chǎn)品;制作拉絲模、電鍍磨具,陶瓷、金屬結(jié)合劑磨具等;制造金剛石樹(shù)脂結(jié)合劑彈性磨塊等;用于精密機(jī)械、光學(xué)玻璃、精細(xì)陶瓷、寶石及半導(dǎo)體等產(chǎn)品的研磨拋光。CPS納米粒度分析儀測(cè)量金剛石微粉的粒徑。

激光檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)顆粒對(duì)光的散射程度,根據(jù)米氏散射理論,得出不同尺寸顆粒的相對(duì)含量,從而得到顆粒粒徑的分布曲線(xiàn)。主要參數(shù):測(cè)量范圍:0.005-75μm,光源:405nmLED,旋轉(zhuǎn)速度:12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM,標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤(pán):CR-39聚合物(耐有機(jī)溶劑和水溶液),可選 配:低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤(pán);自動(dòng)密度梯度液生成器(型號(hào)AG300);自動(dòng)進(jìn)樣器(型號(hào)AS200);標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。半導(dǎo)體CMP用拋光墊、清洗液、修整盤(pán)、拋光液、納米研磨粒子以及OLED顯示光敏聚酰亞胺、封裝墨水、低溫光阻材料等20余款“卡脖子”材料。馳光機(jī)電科技有限公司獲得市場(chǎng)的一致認(rèn)可。

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CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分,其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過(guò)程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm,其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸,因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用!歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問(wèn)題!二氧化鈦粒度分析儀哪家好

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