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來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-23

EyeTec濃度測量:除了顆粒大小,激光和顆粒交互產(chǎn)生的信號(hào)可以提供非常有用的顆粒濃度信息。EyeTech記錄全部的交互信號(hào)。因?yàn)樾D(zhuǎn)的激光的檢測范圍是一定的,所以顆粒濃度可以計(jì)算出來。了解顆粒數(shù)據(jù)庫系統(tǒng):可通過鼠標(biāo)點(diǎn)擊調(diào)出每個(gè)已檢測顆粒的詳細(xì)數(shù)據(jù)信息,包括圖像、圖形和參數(shù);顆粒數(shù)量無限制;顆粒信息易于輸出至Excel進(jìn)行進(jìn)一步處理;提供顆粒信息數(shù)據(jù)庫,數(shù)據(jù)挖掘便于分析對(duì)比和統(tǒng)計(jì)。動(dòng)態(tài)粒形分析的形狀和粒徑相關(guān)數(shù)據(jù)可提供關(guān)于單個(gè)顆粒豐富的信息。馳光機(jī)電科技一切從實(shí)際出發(fā)、注重實(shí)質(zhì)內(nèi)容。寧夏CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

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符合多項(xiàng)油品S元素分析國際和國家標(biāo)準(zhǔn),例如ASTM D4294,ASTM D7212,GB/T 17040,GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W,使用壽命長達(dá)數(shù)十年。低背景硅“漂移”檢測器保證高分辨率,檢測限高達(dá)0.1ppm。除了標(biāo)配的Windows操作系統(tǒng),還提供了備選的Linux操作系統(tǒng),保證儀器的安全性(中美貿(mào)易戰(zhàn)下的新形勢要求)。中國PTA行業(yè)競爭格局分析,從我國PTA產(chǎn)能分布來看,產(chǎn)能占比較大的廠家是恒力石化,2020年占比20%;產(chǎn)能占比排第二的是逸盛大化,產(chǎn)能占比為10%,其次是逸盛石化,產(chǎn)能占比9%;國內(nèi)前面十PTA廠家產(chǎn)能合計(jì)占比77%。全球PTA計(jì)劃投產(chǎn)產(chǎn)能趨勢。廣西CPS高精度納米粒度分析儀價(jià)格馳光機(jī)電科技有限公司交通便利,地理位置優(yōu)越。

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這個(gè)關(guān)系可以用散點(diǎn)圖顯示,用以觀察樣品粒徑和形狀之間的關(guān)系。形狀過濾功能可以根據(jù)粒徑或形狀特性放大觀察樣品的特定部分。可以根據(jù)數(shù)據(jù)挖掘,對(duì)比分析粒度粒型數(shù)據(jù)分析,給除對(duì)比圖與表格。圖像分析軟件的特征:測量過程中可觀察顆粒;對(duì)已存圖片或錄像可重新分析;可根據(jù)粒徑或形狀對(duì)顆粒分類和過濾;對(duì)非球形顆??梢蕴峁┒喾N形狀參數(shù);可提供纖維測量模塊;驗(yàn)證工具-較大程度減少樣品預(yù)處理對(duì)測量結(jié)果的影響,顆粒形狀信息是很重要的。

CMP(化學(xué)機(jī)械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征隨著半導(dǎo)體工業(yè)飛速發(fā)展,電子器件尺寸縮小,要求晶片表面平整度達(dá)到納米級(jí)。CMP工藝作為芯片制造業(yè)不可或缺的一個(gè)部分,其對(duì)于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm,其顆粒表征要求精確地確定納米級(jí)顆粒的尺寸,因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。磨料對(duì)CMP工藝起著至關(guān)重要的作用!歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題!馳光機(jī)電科技周邊生態(tài)環(huán)境狀況好。

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應(yīng)用實(shí)例:測量高純氧化鋁粉。一般來說,含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁,其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃,短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級(jí)陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料;99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級(jí)涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo),CPS納米粒度分析儀能給您帶來確切穩(wěn)定的測量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。山東馳光機(jī)電科技有限公司始終以適應(yīng)和促進(jìn)工業(yè)發(fā)展為宗旨。海南激光粒度分析儀廠家

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如果能夠?qū)Υ呋瘎┰睾浚ㄢ?、錳和溴Br)進(jìn)行連續(xù)在線分析,可以更好地控制工藝,提高產(chǎn)品質(zhì)量和增加產(chǎn)量。C-Quand在線EDXRF分析儀:利用 C-Quand在線EDXRF分析儀對(duì)鈷、錳、溴三種催化劑進(jìn)行了同時(shí)和連續(xù)的分析。所使用的技術(shù)是由X射線管激發(fā)的能量分散X射線熒光,不需要放射源。在分析過程中,連續(xù)流動(dòng)過程樣品中的催化劑被X射線激發(fā),并發(fā)出其特征輻射。使用技術(shù)氣體比例計(jì)數(shù)器(GPC)檢測和分析這些放射X射線,并使用存儲(chǔ)的校準(zhǔn)曲線將其轉(zhuǎn)換為結(jié)果。寧夏CPS高精度納米粒度分析儀哪家好

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