可視化EMC(電磁兼容)近場掃描診斷分析系統(tǒng)根據(jù)用戶的需求進(jìn)行配置，可選配一個(gè)或多個(gè)功能，也可以后續(xù)逐步升級功能，主要功能如下：輻射(RE)近場電磁掃描診斷分析，可視化EMC(電磁兼容)近場掃描診斷分析系統(tǒng)支持頻率范圍9kHz-18GHz的輻射(RE)近場分析，包含電場近場探頭(E-Probe)、高低頻磁場近場探頭(H-Probe)，支持0.01mm分辨率步進(jìn)電磁掃描，支持-90dBm以上電磁輻射信號分析。支持頻率分布、功率分布、頻譜分布、諧波分布等多電磁兼容EMI可視化分析功能，滿足研發(fā)級正向設(shè)計(jì)、整機(jī)、板級、芯片的電磁兼容問題自動(dòng)診斷分析，普遍用于手機(jī)、多媒體設(shè)備、無線終端模塊、醫(yī)療、、儀器儀表等行業(yè)的前期電磁兼容正向研發(fā)、電磁可靠性評估、電磁干擾源頭定位、替代物料電磁可靠性評估、器件選型電磁可靠性評估、成本降低電磁性能評估、更新方案設(shè)計(jì)的電磁性能評估、電磁仿真驗(yàn)證等方面。輻射近場測量的研究是很有意義的，歡迎來電咨詢。深圳藍(lán)牙耳機(jī)無線性能系統(tǒng)價(jià)格

EMC包括兩個(gè)方面的要求：一方面是指設(shè)備在正常運(yùn)行過程中對所在環(huán)境產(chǎn)生的電磁干擾不能超過一定的限值，即電磁干擾(ElectromagneticInterference簡稱EMI)；另一方面是指器件對所在環(huán)境中存在的電磁干擾具有一定程度的抗擾度，即電磁敏感性（ElectroMagneticSusceptibility，簡稱EMS）。電磁干擾(ElectromagneticInterference簡稱EMI)又分為傳導(dǎo)干擾和輻射干擾兩種。傳導(dǎo)干擾是指通過導(dǎo)電介質(zhì)把一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)上的信號耦合(干擾)到另一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)。輻射干擾是指干擾源通過空間把其信號耦合(干擾)到另一個(gè)電網(wǎng)絡(luò)，在高速PCB及系統(tǒng)設(shè)計(jì)中，高頻信號線、集成電路的引腳、各類接插件等都可能成為具有天線特性的輻射干擾源，能發(fā)射電磁波并影響其他系統(tǒng)或本系統(tǒng)內(nèi)其他子系統(tǒng)的正常工作。山東4GLTE無線性能配置近場存在于距電磁輻射源（例如發(fā)射天線）一個(gè)波長范圍內(nèi)的電磁場，一個(gè)聲源（如揚(yáng)聲器）附近的聲輻射場。

集成電路電磁兼容測試解決方案：小型化無線終端產(chǎn)品（如手機(jī)、平板智能穿戴產(chǎn)品）的 快速發(fā)展，集成電路(IC)體積逐漸向更小更密集的規(guī)格演進(jìn)， 且加上IC運(yùn)行速率的提升和成本的下降，使得IC EMC問題日 益受到重視，其中包含IC電磁輻射、輻射抗擾、脈沖抗擾以 及EOS失效模擬等測量解決方案已得到行業(yè)廣泛應(yīng)用，揚(yáng)芯 科技立足電磁兼容軟硬件自動(dòng)化測量方案開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，現(xiàn)已具 備完整的IC EMC測量解決方案，符合歐洲、美國及日本等標(biāo) 準(zhǔn)測試要求，可提供針對手機(jī)、電腦、家電、汽車電子等IC 的EMC測量解決方案。

可視化EFT抗擾度診斷分析系統(tǒng)—ES26-EFT產(chǎn)品特點(diǎn)■支持標(biāo)準(zhǔn)EFT波形的抗擾度可視化分析；■支持比較低的干擾電壓，可用于芯片等敏感器件的抗擾度分析；■干擾電壓步進(jìn)任意設(shè)置，兼顧測試效率及測試精度；■精確定位PCB板上受擾位置，快速找到敏感源；■自動(dòng)化測試軟件，實(shí)時(shí)記錄干擾等級；■產(chǎn)品需重點(diǎn)關(guān)注的性能指標(biāo)可依照客戶實(shí)際需求進(jìn)行監(jiān)測；■選定測試區(qū)域后，一次性自動(dòng)化完成測量。應(yīng)用領(lǐng)域：■芯片，元器件EFT抗擾度測量與診斷；■電磁場注入脈沖抗擾度測量與診斷分析；■PCB板級走線的EFT抗擾度失效故障模擬，測量與診斷；■模組件、功能模塊及端口EFT抗擾度測量與診斷；■整機(jī)、線纜等EFT抗擾度測量與診斷。只有處于可見光頻域以內(nèi)的電磁波，才是可以被人們看到的。

從90年代末至今，近場微波成像已經(jīng)引起了學(xué)者們的濃厚興趣，但由于常規(guī)目標(biāo)散射近場的復(fù)雜性，致使近場微波成像遠(yuǎn)遠(yuǎn)滯后于遠(yuǎn)場成像。近場微波成像中，著眼于潛在的應(yīng)用，目標(biāo)函數(shù)既可以是理想導(dǎo)體目標(biāo)的輪廓函數(shù)，也可以是目標(biāo)介電常數(shù)的分布函數(shù)。從照射天線與成像目標(biāo)的相對運(yùn)動(dòng)方式來看，近場微波成像有兩種模式：即直線掃描模式和轉(zhuǎn)臺模式，研究方法可分為電磁逆散射法和球背向投影法（SphericalBackProjection，簡寫為SBP）。其中電磁逆散射法散射機(jī)理清晰，但數(shù)學(xué)公式復(fù)雜且有很大的局限性，因而，實(shí)際中使用較少；而球背向投影法在實(shí)際中使用較多。利用球背向投影法在直線掃描模式和轉(zhuǎn)臺模式情況下的目標(biāo)函數(shù)解析公式已經(jīng)給出。信號接收端比較這兩個(gè)電壓的差值來判斷發(fā)送端發(fā)送的邏輯狀態(tài)。福建多天線輻射雜散配置

電磁干擾(ElectromagneticInterference簡稱EMI)又分為傳導(dǎo)干擾和輻射干擾兩種。深圳藍(lán)牙耳機(jī)無線性能系統(tǒng)價(jià)格

輻射近場測量的研究：為了反映脈沖工作狀態(tài)和消除環(huán)境及其他因素對測量數(shù)據(jù)的影響，時(shí)域測量是一個(gè)良好的解決此類問題的途徑，但目前處于研究階段。輻射近場掃頻測量的研究：就一般情況而言，天線都在一個(gè)頻帶內(nèi)工作，因此，各項(xiàng)電指標(biāo)都是頻率的函數(shù)，為了快速獲得各個(gè)頻率點(diǎn)的電指標(biāo)，就需要進(jìn)行掃頻測量。掃頻測量的理論與點(diǎn)頻的理論完全一樣，只是在探頭掃描時(shí)，收發(fā)測量系統(tǒng)作掃頻測量。近場測量對天線口徑場診斷的精度和速度：近場測量對常規(guī)陣列天線口徑場的診斷有較好的診斷精度，但對于很低副瓣天線陣列而言，診斷精度和速度還需要進(jìn)一步研究。深圳藍(lán)牙耳機(jī)無線性能系統(tǒng)價(jià)格

揚(yáng)芯科技（深圳）有限公司致力于儀器儀表，是一家生產(chǎn)型公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié)，公司旗下近場輻射問題解決方案，?輻射抗擾度問題解決方案，輻射雜散預(yù)測試系統(tǒng)，射頻干擾問題解決方案深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。揚(yáng)芯科技秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。