多功能吞吐量性能自動化測試系統(tǒng)— TS6關鍵技術指標：測試環(huán)境：小型化或標準電波暗室在實驗室環(huán)境下模擬：典型場景信號、標準場景信號、復雜場景信號覆蓋測試項包括：傳導吞吐量測試，輻射吞吐量測試，方向性吞吐量測試，同頻和鄰頻干擾測試高精細電磁干擾發(fā)射強度控制監(jiān)控方式：吞吐量、丟包率、時延、速率、音頻質量、靈敏度等；應用領用：■機場、地鐵、高鐵、商場、集市、居民區(qū)、停車場、工業(yè)區(qū)等多個復雜電磁場景模擬；■研發(fā)階段電磁抗干擾性能評估；■產品上市階段電磁抗干擾性能評估；■吞吐量、丟包率、時延、速率、音頻質量等性能評估。電子、電器產品的電磁兼容性（EMC）是一項非常重要的質量指標。浙江家電燈具無線性能掃描儀

可視化EMC(電磁兼容)近場掃描診斷分析系統(tǒng)根據(jù)用戶的需求進行配置，可選配一個或多個功能，也可以后續(xù)逐步升級功能，主要功能如下：輻射(RE)近場電磁掃描診斷分析，可視化EMC(電磁兼容)近場掃描診斷分析系統(tǒng)支持頻率范圍9kHz-18GHz的輻射(RE)近場分析，包含電場近場探頭(E-Probe)、高低頻磁場近場探頭(H-Probe)，支持0.01mm分辨率步進電磁掃描，支持-90dBm以上電磁輻射信號分析。支持頻率分布、功率分布、頻譜分布、諧波分布等多電磁兼容EMI可視化分析功能，滿足研發(fā)級正向設計、整機、板級、芯片的電磁兼容問題自動診斷分析，普遍用于手機、多媒體設備、無線終端模塊、醫(yī)療、、儀器儀表等行業(yè)的前期電磁兼容正向研發(fā)、電磁可靠性評估、電磁干擾源頭定位、替代物料電磁可靠性評估、器件選型電磁可靠性評估、成本降低電磁性能評估、更新方案設計的電磁性能評估、電磁仿真驗證等方面。福建4GLTE無線性能優(yōu)勢掃描儀和近場探頭系列（從SX到LF）的組合可以測量頻率范圍為100kHz-10GHz的電場或磁場。

可視化輻射抗擾度診斷分析系統(tǒng)—IS32整體介紹：帶無線射頻功能的電子產品，除了要解決常規(guī)EMC干擾問題外， 射頻電路和天線與產品中各電路走線、功能組件、關鍵IC和元器件等 部件之間，也會發(fā)生電磁干擾問題。主要表現(xiàn)為射頻相關信號干擾其 他部件，導致性能功能的下降或喪失。另外，由于產品布局布線、器 件選型不佳等原因，產品內一些器件在工作時產生的無意發(fā)射電磁噪 聲也會干擾到射頻電路和天線，導致射頻靈敏度指標的下降，從而影 響產品的無線性能。以上兩類問題的解決，必須要能夠基于實際場景 評估干擾風險，準確分析關聯(lián)器件和部件的輻射特性及射頻抗擾度特 性?？梢暬椛淇箶_度診斷分析系統(tǒng)可用于對芯片、元器件、模組 件、FPC、PCBA等部件和整機進行近場輻射抗擾度故障模擬、自動化 測量、可視化呈現(xiàn)、是解決復雜電磁輻射抗擾度問題的有效工具。

隨著電氣電子技術的發(fā)展，家用電器產品日益普及和電子化，廣播電視、郵電通訊和計算機網絡的日益發(fā)達，電磁環(huán)境日益復雜和惡化，使得電氣電子產品的電磁兼容性（EMC電磁干擾EMI與電磁抗EMS）問題也受到各國有關部門和生產企業(yè)的日益重視。電子、電器產品的電磁兼容性（EMC）是一項非常重要的質量指標，它不只關系到產品本身的工作可靠性和使用安全性，而且還可能影響到其他設備和系統(tǒng)的正常工作，關系到電磁環(huán)境的保護問題。電磁兼容性（ElectromagneticCompatibility，簡稱EMC）是指設備或系統(tǒng)在其電磁環(huán)境中符合要求運行并不對其環(huán)境中的任何設備產生無法忍受的電磁干擾的能力。只要是本身溫度大于一定零度的物體，都可以發(fā)射電磁輻射，而世界上并不存在溫度等于或低于一定零度的物體。

EMC、RF診斷分析系統(tǒng)：用較少的資金達到我們想要的目標，研發(fā)實驗室能力整體規(guī)劃步驟如下：1.確定研發(fā)產品類型，了解產品電氣參數(shù)及所需的測試項目；2.選擇合適的診斷分析方法；3.選擇診斷分析工具的類型、儀器設備、測試環(huán)境以及對策器件4.實驗室日常運營及資料庫建立；診斷分析系統(tǒng)具有如下優(yōu)勢：1.適用于EMC、RF問題診斷分析、更換物料、風險評估、降成本方案驗證；2.投入產出比高；3.數(shù)據(jù)可視化、定位精細、分析診斷問題效率高；4.診斷分析系統(tǒng)與標準測試系統(tǒng)互補，更適合產品研發(fā)；5.操作簡單，降低人員技術門檻。一般來說我們把菲涅耳衍射稱為近場衍射。浙江家電燈具無線性能掃描儀

EMI輻射近場探頭是用于配合頻譜分析儀查找干擾源的設備。浙江家電燈具無線性能掃描儀

從90年代末至今，近場微波成像已經引起了學者們的濃厚興趣，但由于常規(guī)目標散射近場的復雜性，致使近場微波成像遠遠滯后于遠場成像。近場微波成像中，著眼于潛在的應用，目標函數(shù)既可以是理想導體目標的輪廓函數(shù)，也可以是目標介電常數(shù)的分布函數(shù)。從照射天線與成像目標的相對運動方式來看，近場微波成像有兩種模式：即直線掃描模式和轉臺模式，研究方法可分為電磁逆散射法和球背向投影法（SphericalBackProjection，簡寫為SBP）。其中電磁逆散射法散射機理清晰，但數(shù)學公式復雜且有很大的局限性，因而，實際中使用較少；而球背向投影法在實際中使用較多。利用球背向投影法在直線掃描模式和轉臺模式情況下的目標函數(shù)解析公式已經給出。浙江家電燈具無線性能掃描儀

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