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電池濕法設(shè)備價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-12-09

光伏電池濕法設(shè)備Topcon工藝,使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu),提高硅片對(duì)長(zhǎng)波的吸收2.增加背鈍化膜的膜厚均勻性3.降低了背面的表面積,提升了少子壽命,降低背面復(fù)合速率。進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,槽內(nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法設(shè)備價(jià)格

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電池濕法設(shè)備Topcon工藝,拋清洗設(shè)備,功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),保證輸送機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性。l拋光槽:上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式,完整的保護(hù)正面的同時(shí),對(duì)背面作拋光處理。l烘干槽:采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式,l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備,設(shè)備產(chǎn)能大,穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。蘇州HJT濕法設(shè)備濕法制絨設(shè)備(Topcon工藝)可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。

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電池濕法設(shè)備主要是對(duì)太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗處理,2022年成功研發(fā)雙六道大產(chǎn)能去PSG清洗設(shè)備,并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性、產(chǎn)能、安全性升級(jí)。去PSG工藝首先將繞擴(kuò)層PSG進(jìn)行去除,利用背面PSG保護(hù),在槽式清洗中完成去繞度工藝。為尋求更為穩(wěn)定的硅片傳輸,整機(jī)設(shè)計(jì)為雙五道/雙六道分布結(jié)構(gòu),料臺(tái)歸正寬度可調(diào),兼容更多規(guī)格的硅片,并為后續(xù)18X硅片更大產(chǎn)能改造提供了預(yù)留窗口;去PSG設(shè)備布局前后通透,給設(shè)備使用者提供了便捷性;上料臺(tái)搭配了大流量全新滴液泵;。

電池濕法設(shè)備的成本因設(shè)備規(guī)模、生產(chǎn)能力、設(shè)備品質(zhì)等因素而異。一般來說,電池濕法設(shè)備的成本包括設(shè)備本身的采購(gòu)費(fèi)用、安裝調(diào)試費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等。設(shè)備本身的采購(gòu)費(fèi)用是影響成本的主要因素之一,一般來說,設(shè)備規(guī)模越大,生產(chǎn)能力越高,設(shè)備品質(zhì)越好,成本也就越高。此外,設(shè)備的運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用也是影響成本的重要因素之一,包括能源消耗、人工維護(hù)費(fèi)用、設(shè)備壽命等。因此,在選擇電池濕法設(shè)備時(shí),需要綜合考慮設(shè)備的采購(gòu)費(fèi)用、運(yùn)行維護(hù)費(fèi)用等因素,以確保設(shè)備的成本合理、經(jīng)濟(jì)。電池濕法設(shè)備配合先進(jìn)的清洗技術(shù),可有效去除電池極板上的雜質(zhì)和污染物,提高電池的電化學(xué)性能。

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濕法設(shè)備包括濕法制絨設(shè)備(Perc 工藝)、制絨設(shè)備(Topcon工藝)、濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)、RCA槽式清洗設(shè)備(Topcon工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(Topcon工藝)、濕法制絨設(shè)備(HJT工藝)、電池濕法背拋清洗設(shè)備(XBC工藝)、制絨清洗設(shè)備(XBC工藝)等;釜川生產(chǎn)制造的濕法設(shè)備能與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級(jí)。其作用是對(duì)太陽能電池用硅片進(jìn)行清洗制絨處理,從而提升電池的質(zhì)量和效率。電池濕法設(shè)備擁有多種型號(hào),滿足不同規(guī)格硅片、各種類型電池片制造的需求,靈活性高。河南專業(yè)濕法制絨

濕法刻蝕設(shè)備(Perc 工藝)去硅片除背面PSG和拋光處理。電池濕法設(shè)備價(jià)格

電池濕法設(shè)備Topcon工藝,使用強(qiáng)堿腐蝕在硅片背面拋光形成近似鏡面的絨面結(jié)構(gòu),提高硅片對(duì)長(zhǎng)波的吸收2.增加背鈍化膜的膜厚均勻性3.降低了背面的表面積,提升了少子壽命,降低背面復(fù)合速率。進(jìn)口PLC控制,穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式,設(shè)備滿足干濕分離,匹配高效電池發(fā)展趨勢(shì)。l可配套無金屬化制程設(shè)備,提高設(shè)備潔凈度。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式,能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?,槽?nèi)控溫精度誤差<±1℃。電池濕法設(shè)備價(jià)格

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