電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢：閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。電池濕法制絨清洗設(shè)備能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。廣州專業(yè)濕法哪家好

濕法設(shè)備HJT工藝功能是去除切割損傷層和表面臟污l使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收，降低反射率l增加硅片表面積，進(jìn)而PN結(jié)面積也相應(yīng)增加。設(shè)備優(yōu)勢是進(jìn)口PLC控制，兼容MES，UPS和RFID功能。機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時。工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。所有與液體接觸的材料均采用進(jìn)口材質(zhì)，避免材料雜質(zhì)析出；引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。斜拉式慢提拉結(jié)構(gòu)，有效提升脫水能力，匹配高效電池發(fā)展趨勢。采用低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)的潔凈度和溫度均勻性。蘇州專業(yè)濕法堿拋制絨濕法制絨設(shè)備（Topcon工藝）采用進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。

電池濕法設(shè)備是一種用于電池制造的設(shè)備，其性能評估主要包括以下幾個方面：1.生產(chǎn)效率：電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)效率是評估其性能的重要指標(biāo)之一。生產(chǎn)效率包括設(shè)備的生產(chǎn)速度、生產(chǎn)能力、設(shè)備的穩(wěn)定性和可靠性等因素。2.能耗：電池濕法設(shè)備的能耗是評估其性能的另一個重要指標(biāo)。能耗包括設(shè)備的能源消耗、設(shè)備的能源利用率等因素。3.產(chǎn)品質(zhì)量：電池濕法設(shè)備的產(chǎn)品質(zhì)量是評估其性能的關(guān)鍵指標(biāo)之一。產(chǎn)品質(zhì)量包括電池的性能、電池的壽命、電池的穩(wěn)定性等因素。4.維護(hù)成本：電池濕法設(shè)備的維護(hù)成本是評估其性能的另一個重要指標(biāo)。維護(hù)成本包括設(shè)備的維護(hù)費用、設(shè)備的維修費用、設(shè)備的更換費用等因素。綜上所述，評估電池濕法設(shè)備的性能需要綜合考慮生產(chǎn)效率、能耗、產(chǎn)品質(zhì)量和維護(hù)成本等多個因素，以確定設(shè)備的性價比和適用性。

電池濕法設(shè)備Topcon工藝RCA槽式清洗設(shè)備主要功能去除多晶硅沉積的正面(LPCVD)PECVD繞鍍層，去除表面剩余的BSG。優(yōu)勢：閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃l引進(jìn)半導(dǎo)體清洗工藝，保證硅片表面的潔凈度。光伏電池濕法制絨設(shè)備，與多種主流工藝如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在設(shè)備結(jié)構(gòu)、功能、產(chǎn)能和安全性等方面進(jìn)行了升級。電池濕法設(shè)備的生產(chǎn)過程中，需要使用一些特殊的材料和化學(xué)試劑，需要注意安全。

濕法設(shè)備Topcon工藝，拋清洗設(shè)備，功能是去除背面BSG和拋光處理。l閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，l鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆?，槽?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。太陽能光伏電池濕法制絨設(shè)備使用強(qiáng)堿腐蝕晶體硅表面形成規(guī)則金字塔狀絨面，增加硅片對太陽光的吸收。廣州專業(yè)濕法哪家好

電池濕法背拋清洗設(shè)備（Topcon工藝）可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。廣州專業(yè)濕法哪家好

電池濕法設(shè)備Perc工藝，濕濕法刻蝕設(shè)備功能是去除背面PSG和拋光處理。設(shè)備優(yōu)勢l閉環(huán)運動控制系統(tǒng)，保證輸送機(jī)構(gòu)運動平穩(wěn)性。l拋光槽：上表面采用水膜保護(hù)及輥輪帶液方式，完整的保護(hù)正面的同時，對背面作拋光處理。l烘干槽：采用高壓風(fēng)機(jī)+高效過濾器的方式，堿拋設(shè)備：鏈?zhǔn)饺SG+槽式堿拋設(shè)備，設(shè)備產(chǎn)能大，穩(wěn)定性好。l進(jìn)口PLC控制，穩(wěn)步提升設(shè)備的產(chǎn)能。l慢提拉采用機(jī)械臂慢提方式，設(shè)備滿足干濕分離，匹配高效電池發(fā)展趨勢。l可配套無金屬化制程設(shè)備，提高設(shè)備潔凈度。l工藝槽采用經(jīng)典的內(nèi)外槽的循環(huán)模式，能快速有效的將新添加藥水以及添加劑充分?jǐn)嚢杈鶆颍蹆?nèi)控溫精度誤差＜±1℃。廣州專業(yè)濕法哪家好