包括以下步驟：①對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行預(yù)處理；②對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理；③對(duì)連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行電鍍化學(xué)鎳處理。本實(shí)施例中，對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理的具體過(guò)程為：②-1搭建對(duì)預(yù)處理后的釹鐵硼磁體進(jìn)行連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理過(guò)程中所需的處理室，處理室包括從前往后依次設(shè)置的五個(gè)工作室，每相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置封閉門，當(dāng)相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置的封閉門打開(kāi)時(shí)，該相鄰兩個(gè)工作室連通，當(dāng)相鄰兩個(gè)工作室之間設(shè)置的封閉門封閉時(shí)，該相鄰兩個(gè)工作室隔離；在初始狀態(tài)，所有的封閉門均處于封閉狀態(tài)；設(shè)置一自動(dòng)傳送設(shè)備貫穿五個(gè)工作室，將五個(gè)工作室從前往后依次稱為進(jìn)料室、預(yù)熱室、磁控濺射室、冷卻室和出料室，②-2將釹鐵硼磁體間隔擺放至網(wǎng)板上，每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度；②-3將擺放好釹鐵硼磁體的網(wǎng)板采用自動(dòng)傳送設(shè)備送入進(jìn)料室，然后將進(jìn)料室密封后抽真空至×10-3pa；②-4將進(jìn)料室和預(yù)熱室之間的封閉門打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將進(jìn)料室中的釹鐵硼磁體送入預(yù)熱室中，將進(jìn)料室和預(yù)熱室之間的封閉門再次封閉，在預(yù)熱室中采用預(yù)烘設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行預(yù)烘。釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異，能夠滿足磁力計(jì)的需求。方形釹鐵硼價(jià)格
為后續(xù)的浸滲工藝和表面處理工藝打下良好的基礎(chǔ)，保證后續(xù)浸滲工藝和表面處理工藝的效果。所述的浸滲處理的具體過(guò)程為：②-1將浸滲膠水倒入真空浸滲罐中，浸滲膠水溫度保持在20℃以下；②-2將前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體，裝入網(wǎng)袋或者網(wǎng)籃中后放入真空浸滲罐中，浸滲膠水的液面高度高于粘結(jié)釹鐵硼磁體至少15mm；②-3采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對(duì)真空浸滲罐抽真空，在抽真空過(guò)程中實(shí)時(shí)觀察真空浸滲罐中泡沫的高度，若泡沫超過(guò)抽真空口，此時(shí)關(guān)閉真空泵，待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開(kāi)啟真空泵抽真空，周而復(fù)始，直至真空浸滲罐內(nèi)壓力到，保壓10分鐘；②-4對(duì)真空浸滲罐卸壓，使其內(nèi)壓力常壓后打開(kāi)蓋子，將粘結(jié)釹鐵硼磁體從真空浸滲罐中取出。該方法中，采用溫度在20℃以下的浸滲膠水進(jìn)行浸滲，且浸滲膠水的液面高度高于粘結(jié)釹鐵硼磁體至少15mm，先采用蓋子將真空浸滲罐封閉后采用真空泵對(duì)真空浸滲罐抽真空，在抽真空過(guò)程中實(shí)時(shí)觀察真空浸滲罐中泡沫的高度，若泡沫超過(guò)抽真空口，此時(shí)關(guān)閉真空泵，待泡沫下降至真空浸滲罐的抽真空口以下后再開(kāi)啟真空泵抽真空，周而復(fù)始，直至真空浸滲罐內(nèi)壓力到，保壓10分鐘，然后對(duì)真空浸滲罐卸壓。桐廬國(guó)產(chǎn)釹鐵硼釹鐵硼的磁性能力可以通過(guò)改變其化學(xué)成分和熱處理方式來(lái)調(diào)節(jié)。
所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有若干進(jìn)氣口；所述進(jìn)氣口連接有乒乓球柱；所述乒乓球柱頂端相切放置有用于排氣的乒乓球；所述密封排氣裝置的頂部通過(guò)第二法蘭連接有用于排氣的排氣管；當(dāng)機(jī)臺(tái)內(nèi)的氣體通過(guò)所述密封排氣裝置向上排放時(shí)，氣體向上流動(dòng)對(duì)乒乓球產(chǎn)生向上的推力，乒乓球離開(kāi)所述乒乓球柱，在所述密封排氣裝置內(nèi)進(jìn)行上下跳動(dòng)運(yùn)動(dòng)，氣體從所述排氣管排出。進(jìn)一步地，所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有三個(gè)所述進(jìn)氣口，三個(gè)所述進(jìn)氣口對(duì)應(yīng)連接有三個(gè)所述乒乓球柱，三個(gè)所述乒乓球柱頂端相切放置有三個(gè)乒乓球。進(jìn)一步地，所述透明觀察窗采用透明硬質(zhì)材料制作而成；所述透明觀察窗為圓柱形。進(jìn)一步地，所述法蘭與所述第二法蘭之間連接有固定支柱。本實(shí)用新型的有益效果：本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置密封排氣裝置；密封排氣裝置設(shè)有透明觀察窗；所述密封排氣裝置的底部設(shè)置有進(jìn)氣口；所述進(jìn)氣口連接有乒乓球柱；所述乒乓球柱頂端相切放置有用于排氣的乒乓球；所述密封排氣裝置的頂部通過(guò)第二法蘭連接有用于排氣的排氣管；當(dāng)機(jī)臺(tái)內(nèi)的氣體通過(guò)所述密封排氣裝置向上排放時(shí)，氣體向上流動(dòng)對(duì)乒乓球產(chǎn)生向上的推力，推力帶動(dòng)乒乓球離開(kāi)所述乒乓球柱。
electrophoresisprocessingorpaintingprocessingandtheelectrophoresisprocessingorpaintprocessingafterthefirstbondedNdFeBmagnetsatthetemperatureof30minutesat7090Cunder10,againatthetemperatureof100under200DEGCbaking1040minutes;advantageisthroughinfiltrationprocesssothatthesealinggluefromthebondedNdFeBmagnetsintotheporesofbondedNdFeBmagnetwithinthebondedNdFeBmagnetporesealing,thenbyelectrophoresisorpaintinginthebondedNdFeBmagnetstoformaprotectivelayerofbondedNdFeBmagnethashighcorrosionresistanceandsolventresistancetest,theSolventresistancecapacityofmorethan30days,neutralsaltspraytestcanreachmorethan24hours,hightemperatureandhumidity(85degreesC,85%RH)morethan240hours.全部詳細(xì)技術(shù)資料下載【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法本技術(shù)涉及一種粘結(jié)釹鐵硼磁體表面處理技術(shù)，尤其是涉及一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法。技術(shù)介紹粘結(jié)釹鐵硼磁體具有優(yōu)異的磁性能和很高的性價(jià)比，被廣泛應(yīng)用于電子、汽車、電機(jī)和通信等但是，粘結(jié)釹鐵硼磁體具有以下缺陷：一、粘結(jié)釹鐵硼磁體的性質(zhì)非?；顫姟ｂS鐵硼可以用于制造各種電子元件，如傳感器、電機(jī)、發(fā)電機(jī)等。
⑦烘干：將吹干或甩干的粘結(jié)釹鐵硼磁體平放在鋪設(shè)有脫脂紗布的網(wǎng)板上放入烘干機(jī)中，在溫度為100℃?130℃條件下烘烤30?60分鐘；⑧將烘干的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次前處理；⑨將再次前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行電泳處理或涂漆處理，粘結(jié)釹鐵硼磁體表面形成防護(hù)層，防護(hù)層的厚度為10?35um；⑩將電泳處理或涂漆處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體先在溫度為70℃?90℃條件平10?30分鐘，再在溫度為100?200℃條件下烘烤10?40分鐘?！炯夹g(shù)特征摘要】1.一種提高粘結(jié)釹鐵硼磁體性能的方法，其特征在于包括以下步驟：①將待處理的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行前處理；②對(duì)前處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行浸滲處理；③甩膠：將浸滲處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體平鋪在甩膠機(jī)底部，啟動(dòng)甩膠機(jī)進(jìn)行甩膠處理，時(shí)間為1-5分鐘；④清洗：將甩膠處理后的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行至少兩次清洗；⑤將清洗后的粘結(jié)釹鐵硼磁體放入溫度為50-80℃的水中浸泡1-5分鐘；⑥將浸泡后的粘結(jié)釹鐵硼磁體吹干或甩干；⑦烘干：將吹干或甩干的粘結(jié)釹鐵硼磁體平放在鋪設(shè)有脫脂紗布的網(wǎng)板上放入烘干機(jī)中，在溫度為100℃-130℃條件下烘烤30-60分鐘；⑧將烘干的粘結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次前處理。釹鐵硼可以用于制造各種磁性輔助設(shè)備，如磁性燈、磁性鐘表等。慈溪高性能釹鐵硼
釹鐵硼磁體的磁性能優(yōu)異，能夠滿足風(fēng)力發(fā)電機(jī)的需求。方形釹鐵硼價(jià)格
預(yù)烘溫度為120℃，預(yù)烘時(shí)間為20分鐘；②-5將預(yù)熱室和磁控濺射室之間的封閉門打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將預(yù)熱后的釹鐵硼磁體送入磁控濺射室中，然后將磁控濺射室和預(yù)熱室之間的封閉門再次封閉，在磁控濺射室中采用磁控濺射設(shè)備對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行磁控濺射處理，其中，磁控濺射處理靶材采用鎳，靶功率為400w，氣壓為，在釹鐵硼磁體表面形成的濺射膜層的厚度為3-8μm，處理時(shí)間為20分鐘；②-6將磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將磁控濺射處理后的釹鐵硼磁體送入冷卻室中，磁控濺射室和冷卻室之間的封閉門封閉，在冷卻室中采用冷卻設(shè)備將釹鐵硼磁體冷卻至80℃以下；②-7將冷卻室和出料室之間的封閉門打開(kāi)，自動(dòng)傳送設(shè)備將冷卻后的釹鐵硼磁體送入出料室中，將冷卻室和出料室之間的封閉門封閉，從出料室內(nèi)取出網(wǎng)板；②-8將網(wǎng)板上的釹鐵硼磁體翻面后間隔擺放至網(wǎng)板上，每相鄰兩塊釹鐵硼磁體之間的間隔距離大于釹鐵硼磁體的厚度；②-9按照步驟②-3～②-7的方法對(duì)釹鐵硼磁體進(jìn)行再次處理，得到連續(xù)磁控濺射鍍鎳處理后的釹鐵硼磁體。本實(shí)施例中。方形釹鐵硼價(jià)格