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北京BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

來源: 發(fā)布時間:2025-07-06

某材料科學(xué)研究中心在探索新型納米復(fù)合材料的性能時,需要在材料表面構(gòu)建特殊的納米圖案。德國 Polos 光刻機成為實現(xiàn)這一目標(biāo)的得力工具。研究人員利用其無掩模激光光刻技術(shù),在不同的納米材料表面制作出各種周期性和非周期性的圖案結(jié)構(gòu)。經(jīng)過測試發(fā)現(xiàn),帶有特定圖案的納米復(fù)合材料,其電學(xué)、光學(xué)和力學(xué)性能發(fā)生了remarkable改變。例如,一種原本光學(xué)性能普通的納米材料,在經(jīng)過 Polos 光刻機處理后,對特定波長光的吸收率提高了 30%,為開發(fā)新型光電器件和光學(xué)傳感器提供了新的材料選擇和設(shè)計思路 。6英寸晶圓兼容:Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,工業(yè)級重復(fù)精度0.1 μm。北京BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。浙江德國桌面無掩模光刻機MAX層厚可達到10微米Polos-BESM XL:130mm×130mm 曝光幅面,STL 模型直接導(dǎo)入,微流控芯片制備周期縮短 40%。

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某分析化學(xué)實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,傳感器的檢測限達 1nM,較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案,可在 24 小時內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測(POCT)設(shè)備,使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘,相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團共推光通信芯片封裝技術(shù)。

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某生物力學(xué)實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現(xiàn)了力 - 電信號的同步采集,發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動作電位時程的相關(guān)性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。光刻膠broad兼容:支持AZ5214E、SU-8等材料,優(yōu)化參數(shù)降低側(cè)壁粗糙度。河南德國BEAM光刻機可以自動聚焦波長

成本效益:單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,小批量研發(fā)更經(jīng)濟。北京BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

在微流體研究領(lǐng)域,德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),打破傳統(tǒng)光刻的局限,無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計,快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機,能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,模擬人體環(huán)境,讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性。同時,在細胞培養(yǎng)實驗中,該光刻機制作的微流體芯片,為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,助力細胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,正推動微流體研究不斷向前。北京BEAM-XL光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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