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安徽桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-08

德國(guó)Polos-BESM系列光刻機(jī)采用無掩模激光直寫技術(shù),突破傳統(tǒng)光刻對(duì)物理掩膜的依賴,支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進(jìn)行快速曝光。其亞微米分辨率(most小線寬0.8 μm)和405 nm紫外光源,可在5英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18。系統(tǒng)體積緊湊,only占桌面空間,搭配閉環(huán)自動(dòng)對(duì)焦(1秒完成)和半自動(dòng)多層對(duì)準(zhǔn)功能,大幅提升實(shí)驗(yàn)室原型開發(fā)效率,適用于微流體芯片設(shè)計(jì)、電子元件制造等領(lǐng)域。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)。POLOS μ 光刻機(jī):桌面級(jí)設(shè)計(jì),2-23μm 可調(diào)分辨率,兼容 4 英寸晶圓,微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm。安徽桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

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無掩模激光光刻技術(shù)為研究實(shí)驗(yàn)室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,可用于創(chuàng)建亞微米級(jí)特征,并促進(jìn)電路和器件的快速原型設(shè)計(jì)。經(jīng)濟(jì)高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴(kuò)展至微機(jī)電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計(jì)和制造,例如以下領(lǐng)域:醫(yī)療(包括微流體)、半導(dǎo)體、電子、生物技術(shù)和生命科學(xué)、先進(jìn)材料研究。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)在 2022 年達(dá)到 3.3606 億美元,預(yù)計(jì)到 2028 年將增長(zhǎng)至 5.0143 億美元,復(fù)合年增長(zhǎng)率為 6.90%。由于對(duì) 5G、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長(zhǎng),預(yù)計(jì)未來幾十年光刻市場(chǎng)將持續(xù)增長(zhǎng)。安徽桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化高頻元件驗(yàn)證:成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,加速國(guó)產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。

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德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對(duì)于研究實(shí)驗(yàn)室,尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來說,設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn),使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。? 盡管體積小巧,但它的性能卻毫不遜色。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,低成本的優(yōu)勢(shì)降低了科研投入門檻。在小型實(shí)驗(yàn)室中,科研人員使用 Polos 光刻機(jī),在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開展研究,成功取得多項(xiàng)成果。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,為科研創(chuàng)新提供有力支持。

在微流控芯片集成領(lǐng)域,某微機(jī)電系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)的多材料同步曝光技術(shù),在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅(qū)動(dòng)的氣動(dòng)泵閥結(jié)構(gòu)。其微泵通道寬度可控制在 20μm,流量調(diào)節(jié)精度達(dá) ±1%,響應(yīng)時(shí)間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,可在 10 分鐘內(nèi)完成從連續(xù)流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細(xì)胞代謝分析,實(shí)現(xiàn)了單個(gè)tumor細(xì)胞葡萄糖攝取率的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),檢測(cè)靈敏度較傳統(tǒng)方法提升 3 倍,相關(guān)設(shè)備已進(jìn)入臨床前驗(yàn)證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。軟件高效兼容:BEAM Xplorer支持GDS文件導(dǎo)入,簡(jiǎn)化復(fù)雜圖案設(shè)計(jì)流程。

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在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時(shí),Polos 光刻機(jī)的亞微米級(jí)定位精度(±50nm)確保了圖案的均勻復(fù)制。某光電實(shí)驗(yàn)室使用該設(shè)備,在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列,模板的圖案保真度達(dá) 99.8%,邊緣缺陷率低于 0.1%。基于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組,亮度均勻性提升至 98%,厚度減至 50μm,成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機(jī),相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。雙光子聚合擴(kuò)展:結(jié)合Nanoscribe技術(shù)實(shí)現(xiàn)3D微納打印,拓展微型機(jī)器人制造。黑龍江POLOSBEAM光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)

Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品,推動(dòng)無掩模光刻技術(shù)普及。安徽桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

某能源研究團(tuán)隊(duì)采用 Polos 光刻機(jī)制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術(shù)在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉(zhuǎn)換效率達(dá) 35%,在 10Hz 振動(dòng)下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動(dòng),在智能穿戴設(shè)備中實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動(dòng)能量的實(shí)時(shí)采集與存儲(chǔ)。其輕量化設(shè)計(jì)(體積 < 1mm3)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點(diǎn),使傳感器續(xù)航時(shí)間從 3 個(gè)月延長(zhǎng)至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。安徽桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化

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