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內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-23

    雙光子聚合技術(shù)是一種高精度、高效率的微納加工技術(shù),具有以下優(yōu)勢(shì)特點(diǎn):高精度和高分辨率:雙光子聚合技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米甚至納米級(jí)的分辨率,使得制造出的微納結(jié)構(gòu)更加精細(xì)。這是因?yàn)樗秒p光子吸收過程,將激光束聚焦到非常小的體積內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)了高精度的加工。三維加工能力:由于雙光子聚合技術(shù)可以在聚合物體積內(nèi)部進(jìn)行光刻,因此可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)制造,如微型光學(xué)元件、微流體芯片等。這一特點(diǎn)使得它在微納制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。無(wú)需光掩膜:傳統(tǒng)的光刻技術(shù)需要使用光掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移,而雙光子聚合技術(shù)可以直接通過計(jì)算機(jī)控制激光束的位置和強(qiáng)度來(lái)實(shí)現(xiàn)圖案的制造,無(wú)需光掩膜。這不僅降低了制造成本,還縮短了制造周期。材料多樣性:雙光子聚合技術(shù)可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料,從而可以制造出各種不同性質(zhì)和功能的微納結(jié)構(gòu)。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度:雙光子聚合技術(shù)具有較高的加工速度,可以在短時(shí)間內(nèi)制造出復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。這使得它在工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的效率和競(jìng)爭(zhēng)力。易于控制和修改:雙光子聚合的加工環(huán)境和參數(shù)易于控制,可以輕松修改得到所需的結(jié)構(gòu)。 了解更多雙光子聚合微納3D打印技術(shù),請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

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Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微納加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體?;?PP微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),Nanoscribe為頂端科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展北京新型雙光子聚合激光直寫Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維邀您一起探討什么是雙光子聚合微納加工系統(tǒng)。

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QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。


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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?,可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。三維加工能力:這種技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)三維加工,能夠制造出具有復(fù)雜形狀的納米結(jié)構(gòu)。超高精度雙光子聚合

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起探討國(guó)內(nèi)在雙光子聚合技術(shù)領(lǐng)域的未來(lái)發(fā)展。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。內(nèi)蒙古納米雙光子聚合3D光刻

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