德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和 Nanoscribe 專有的雙光子灰度光刻 (2GL) 技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何 2.5D 或 3D 形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達 25 cm2 的區(qū)域上都具有亞微米級精度、增材制造技術具有高的堅固性，穩(wěn)定性.天津微納米增材制造設備

   傳統(tǒng)上，調(diào)節(jié)板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創(chuàng)建單個組件。增材制造在此提供的優(yōu)勢在于，可以設計結(jié)構(gòu)一體化的零件，從而減少零件的數(shù)量，并替代釬焊。單一的結(jié)構(gòu)對設計迭代也帶來了直觀的好處，我們可以想象，要通過傳統(tǒng)的供應鏈，訂購多個零件可能需要一兩個月才能得到，因為必須通過訂購系統(tǒng)，有人必須加工，有人必須組裝，有人可能需要測試進行質(zhì)量檢查。然后才進入到供貨物流系統(tǒng)中，而將這些不同的零件組裝在一起后，才可以對其進行后續(xù)的一個測試。這使得每一次設計迭代都變得緩慢而昂貴。但是，通過3D打印-增材制造技術，就可以省去所有這些步驟。湖北微流道增材制造微納加工系統(tǒng)高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。

Nanoscribe是非常獨特的納米和微米級3D打印技術。該公司成立于2007年，目前已經(jīng)在激光光刻行業(yè)處于領頭的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系統(tǒng)主要通過在微尺度上運用激光來固化感光材料。3D打印材料主要包括液態(tài)的光敏材料和固態(tài)的旋涂光刻材料。憑著其獨特的微尺度3D 打印技術與人性化的軟件，Nanoscribe毫無疑問是增材制造領域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來構(gòu)建世界上特別小的指尖陀螺， 該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類頭發(fā)的寬度相當） 

Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組（B-PHOT）的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術（2PP）將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場，以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司為您解析增材制造的技術。

  Nanoscribe設備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料，逐層固化。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍。此外，使用GT2，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡，基板，材料和自動化流程。 增材制造在生活中應用。湖北微流道增材制造微納加工系統(tǒng)

增材制造方法是什么，歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。天津微納米增材制造設備

  Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作?！癙hotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款產(chǎn)品，在科學研究中得到了較廣的應用，并在哈佛大學納米系統(tǒng)中心，加州理工學院，倫敦帝國理工學院，蘇黎世聯(lián)邦理工大學和慶應義塾大學使用。 天津微納米增材制造設備