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來源: 發(fā)布時間:2024-08-16

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光子封裝領域。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。Nanoscribe的3D微納打印設備速度很快,在短時間內(nèi)即可以實現(xiàn)在樣品上打印數(shù)百個微透鏡。湖南TPPNanoscribe多少錢

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多年來,Nanoscribe在微觀和納米領域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術、微光學等工業(yè)微加工相關項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學和帕德博恩大學在內(nèi)的其他行業(yè)帶領機構一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術創(chuàng)新,并可以應用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。廣東超高速Nanoscribe上海Nanoscribe的打印設備具有高度3D設計自由度的特點且具備人性化的操作系統(tǒng)。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL ®)系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。   

   全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度。快速、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,實現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展(LASERWorldofPhotonics2019)榮獲創(chuàng)新獎。


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售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經(jīng)驗,我們的技術支持團隊努力在短的時間內(nèi)為客戶提供好的支持。在德國總部,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認證的經(jīng)銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝機、維護和維修現(xiàn)場和線上的培訓課程通過NanoGuide綜合自助服務平臺自助查詢電話、電子郵件和設備自帶遠程支持功能基礎操作技巧之外的高階技術和應用支持延長維修保修合同、升級服務、移機服務Quantum X新型超高速無掩模光刻技術的重點是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術。四川德國Nanoscribe上海

科學家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術開創(chuàng)了一種全新的微流控微納加工方法。湖南TPPNanoscribe多少錢

   對于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們設計了一個定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn),特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產(chǎn)量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎。


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