Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術(shù)信息。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應用有著重大意義。總而言之，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）。衢州生物微納3D打印材料微納米3D打印公司Nanoscribe，納米精度的樹脂新材料，打印微創(chuàng)手術(shù)用的微型針頭，微透鏡精密器件。

微納3D打印技術(shù)的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個方面：高精度和復雜性：微納3D打印技術(shù)可以在微米和納米尺度上實現(xiàn)高精度的打印，能夠制造出具有復雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件。這種能力使得微納3D打印在生物醫(yī)學、電子、光學和航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應用前景。特別是在需要高精度和復雜結(jié)構(gòu)的器件制造中，微納3D打印技術(shù)展現(xiàn)出了獨特的優(yōu)勢。定制化設計：微納3D打印技術(shù)可以根據(jù)用戶需求進行定制化設計，滿足個性化需求。設計師可以根據(jù)實際應用場景，靈活調(diào)整打印參數(shù)和材料，實現(xiàn)創(chuàng)新設計。這種定制化設計的能力使得微納3D打印在特殊材料和復雜結(jié)構(gòu)的制造中具有很高的靈活性。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比，微納3D打印技術(shù)的材料利用率更高。在打印過程中，只有需要的材料才會被使用，從而避免了不必要的浪費。這不僅有助于降低生產(chǎn)成本，還能提高生產(chǎn)效率，減少對環(huán)境的影響。廣泛的應用范圍：微納3D打印技術(shù)適用于多種材料和結(jié)構(gòu)類型，可以制造金屬、塑料、陶瓷等多種材料的微納結(jié)構(gòu)。這使得它在微機電系統(tǒng)、微納光學器件、微流體器件、生物醫(yī)療和組織工程、新材料等領(lǐng)域具有巨大的應用潛力。此外。

Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān)，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質(zhì)量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。微納尺度3D打印能批量復制微小結(jié)構(gòu)，制造出真正處于微觀級別的器件，實現(xiàn)了一般3D打印無法企及的精度。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設計而成，能實現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術(shù)，可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度，適用于微光學制造和光子封裝領(lǐng)域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。普陀區(qū)灰度光刻微納3D打印保養(yǎng)