Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。文章中介紹了高精度3D打印，并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復雜結(jié)構(gòu)微納光學元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)的發(fā)展。超高速無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。天津高分辨率無掩膜光刻3D微納加工無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術(shù)的便利，很大程度提高了無掩膜影印和新產(chǎn)品研發(fā)的效率。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術(shù)強大的設(shè)計和制造能力特別好的證明。

Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術(shù)，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學領(lǐng)域的應(yīng)用，如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù)，您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應(yīng)用（lab-on-a-chip）。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外，3D微納加工技術(shù)還可以應(yīng)用在微創(chuàng)手術(shù)的生物醫(yī)學儀器，包括植入物，微針和微孔膜等制作。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)？請咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質(zhì)量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學質(zhì)量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。天津雙光子聚合無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻技術(shù)。超高速無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設(shè)計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質(zhì)量表面和形狀精度。超高速無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

納糯三維科技（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家生產(chǎn)型公司。納糯三維致力于為客戶提供良好的PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計、強大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。納糯三維秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。