EDI超純水設(shè)備7大性能優(yōu)勢(shì)。全自動(dòng)雙級(jí)反滲透+EDI+拋光混床是當(dāng)今比較多的超純水處理技術(shù)，而EDI是超純水制取設(shè)備中的總要組成部分。到目前為止，還是有少許的廠家還使用混床制取超純水，混床超純水設(shè)備的優(yōu)勢(shì)就是前期投資少，除此之外，無(wú)法與EDI超純水設(shè)備的突出性能優(yōu)勢(shì)相比較。為了讓用戶更簡(jiǎn)單明了的知道EDI超純水設(shè)備系統(tǒng)的好處優(yōu)勢(shì)，碩科環(huán)保為您解析EDI超純水設(shè)備7大性能優(yōu)勢(shì)。一、無(wú)化學(xué)污染持續(xù)的樹(shù)脂電解再生使得無(wú)需腐蝕性很強(qiáng)的化學(xué)品；如果前級(jí)RO系統(tǒng)運(yùn)作正常，則極少需要清洗。如異常E-Cell的內(nèi)部設(shè)計(jì)足以應(yīng)付周期性的化學(xué)清洗；E-Cell消除了對(duì)腐蝕性化學(xué)品再生裝備的資金投入。如：合金伐門(mén)、管道、水泵、化學(xué)藥品儲(chǔ)存設(shè)備等相關(guān)部件，省卻了這些部分的安裝、更新、維護(hù)的費(fèi)用。 石墨烯新材料超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家。邳州超純水設(shè)備供應(yīng)

    電子工業(yè)超純水設(shè)備特點(diǎn)電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域。1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水。2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水。3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水。4、汽車(chē)、家電表面拋光處理。5、光電子產(chǎn)品。6、其他高科技精微產(chǎn)品。 邳州超純水設(shè)備供應(yīng)多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中。

多晶硅超純水設(shè)備主要用在多晶硅片清洗中，多晶硅片,半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于去除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。無(wú)機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電,顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等，會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。針對(duì)多晶硅加工工藝需求和當(dāng)?shù)厮辞闆r，可采用工藝流程:ASS+UF+1RO+2RO+EDI+SMB或MMF+ACF+1RO+2RO+EDI+SMB工藝流程，碩科環(huán)保采用國(guó)內(nèi)先進(jìn)設(shè)計(jì)理念，確保系統(tǒng)設(shè)備產(chǎn)水達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。

    超純水設(shè)備制備工藝1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸程窟^(guò)濾器→精密過(guò)濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)。 太陽(yáng)能硅片超純水設(shè)備咨詢。

    解析超純水設(shè)備的處理步驟。超純水設(shè)備是綜合了各種技術(shù)優(yōu)勢(shì)而組成的設(shè)備，出水穩(wěn)定、水質(zhì)好、同時(shí)無(wú)廢水，化學(xué)污染排放，有利于節(jié)水和環(huán)保，是水處理技術(shù)綠色改變?，F(xiàn)在我們就一起分析一下超純水設(shè)備的處理步驟是怎么的，讓您對(duì)超純水設(shè)備有更全的認(rèn)識(shí)。超純水設(shè)備原水：可用自來(lái)水或普通蒸餾水或普通去離子水作原水。機(jī)械過(guò)濾：通過(guò)砂芯濾板和纖維柱濾除機(jī)械雜質(zhì)，如鐵銹和其他懸浮物等?；钚蕴窟^(guò)濾：活性炭是廣譜吸附劑，可吸附氣體成分，如水中的余氯等，吸附細(xì)菌和某些過(guò)渡金屬等。氯氣能損害反滲透膜，因此應(yīng)力求除盡。反滲透膜過(guò)濾：可濾除95%以上的電解質(zhì)和大分子化合物，包括膠體微粒和病毒等。由于絕大多數(shù)離子的去除，使離子交換柱的使用壽命極大延長(zhǎng)。紫外線消解：借助于短波(180nm-254nm)紫外線照射分解水中的不易被活性炭吸附的小有機(jī)化合物，如甲醇、乙醇等，使其轉(zhuǎn)變成CO2和水，以降低TOC的指標(biāo)。離子交換單元：已知混合離子交換床是除去水中離子的決定性手段。借助于多級(jí)混床獲得超純水也并不困難。但水的TOC指標(biāo)主要來(lái)自樹(shù)脂床。超純水設(shè)備超純水設(shè)備的處理步驟主要就是以上幾種。同時(shí)你可以關(guān)注本網(wǎng)站這篇文章使用超純水設(shè)備應(yīng)該注意什么問(wèn)題。 光學(xué)光電超純水設(shè)備生產(chǎn)廠家。江蘇涂裝行業(yè)超純水設(shè)備

工業(yè)超純水設(shè)備一般需要做什么預(yù)處理呢？邳州超純水設(shè)備供應(yīng)

    太陽(yáng)能電池片超純水設(shè)備。太陽(yáng)能電池片的生產(chǎn)工藝流程分為硅片檢測(cè)--表面制絨及酸洗--擴(kuò)散制結(jié)--去磷硅玻璃--等離子刻蝕及酸洗--鍍減反射膜--絲網(wǎng)印刷--快速燒結(jié)等。在去磷硅玻璃工藝用于太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)制造過(guò)程中，通過(guò)化學(xué)腐蝕法也即把硅片放在氫氟酸溶液中浸泡，使其產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成可溶性的絡(luò)和物六氟硅酸，以去除擴(kuò)散制結(jié)后在硅片表面形成的一層磷硅玻璃。在擴(kuò)散過(guò)程中，POCL3與O2反應(yīng)生成P2O5淀積在硅片表面。P2O5與Si反應(yīng)又生成SiO2和磷原子，這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2，稱之為磷硅玻璃。去磷硅玻璃的設(shè)備一般由本體、清洗槽、伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、機(jī)械臂、電氣控制系統(tǒng)和自動(dòng)配酸系統(tǒng)等部分組成，主要?jiǎng)恿υ从袣浞?、氮?dú)狻嚎s空氣、純水，熱排風(fēng)和廢水。氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因?yàn)闅浞崤c二氧化硅反應(yīng)生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。若氫氟酸過(guò)量，反應(yīng)生成的四氟化硅會(huì)進(jìn)一步與氫氟酸反應(yīng)生成可溶性的絡(luò)和物六氟硅酸。 邳州超純水設(shè)備供應(yīng)