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淮安生產(chǎn)工業(yè)烤箱

來源: 發(fā)布時間:2021-09-18

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。工業(yè)烤箱怎樣挑選比較好?淮安生產(chǎn)工業(yè)烤箱

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一、本產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項或同時作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗.二、主要技術(shù)指標:1、工作室溫度范圍:常溫~+300℃用戶使用溫度260℃2、溫度波動度:1.0℃(空載);3、溫度偏差:常壓溫度試驗:常溫~200℃時2℃200~300℃時5.0℃低氣壓高溫綜合試驗:≤100℃時2.0℃,100℃~200℃時5.0℃200℃~300℃時7.0℃4、升降溫速率:升溫時間:①常壓時:90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時:180min(常溫~+260℃)降溫時間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)降溫方式:水冷降溫5、試驗箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式6、壓力范圍:常壓~0.0001Pa淮安生產(chǎn)工業(yè)烤箱

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