北京高溫光刻膠國產廠商

來源：發(fā)布時間：2025-06-23

吉田半導體獲評 "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術標準，以技術創(chuàng)新與標準化生產為，吉田半導體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號，樹立行業(yè)。
憑借在光刻膠領域的表現(xiàn)，吉田半導體獲評 "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔多項國家 02 專項課題。公司主導制定《半導體光刻膠用樹脂技術規(guī)范》等行業(yè)標準，推動國產材料標準化進程。未來，吉田半導體將繼續(xù)以" 中國半導體材料方案提供商 "為愿景，深化技術研發(fā)與市場拓展，為全球半導體產業(yè)發(fā)展貢獻" 中國力量 "。光刻膠技術突破加速，對芯片制造行業(yè)有哪些影響？北京高溫光刻膠國產廠商

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產品已通過中芯國際量產驗證，良率達 98% 以上，生產過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求，為國產芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。

寧波負性光刻膠廠家光刻膠國產替代的主要難點有哪些？

廣東吉田半導體材料有限公司成立于松山湖經濟技術開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導體材料研發(fā)、生產與銷售的技術企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經驗，產品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、半導體錫膏、焊片及靶材等，服務全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關系。

作為國家技術企業(yè)，吉田半導體以科技創(chuàng)新為驅動力，擁有多項技術，并通過 ISO9001:2008 質量體系認證。生產過程嚴格遵循 8S 現(xiàn)場管理標準，原材料均采用美、德、日等國進口的材料，確保產品質量穩(wěn)定可靠。公司配備全自動化生產設備，具備行業(yè)大型的規(guī)?；a能力，致力于成為 “半導體材料方案提供商”。

其明星產品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能；3 微米負性光刻膠 SU-3，適用于厚膜工藝；耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000，可滿足高精度微納加工需求。所有產品均符合要求，部分型號通過歐盟 ROHS 認證。

技術趨勢與挑戰(zhàn)

半導體先進制程：

? EUV光刻膠需降低缺陷率（目前每平方厘米缺陷數(shù)＜10個），開發(fā)低粗糙度（≤5nm）材料；

? 極紫外吸收問題：膠膜對13.5nm光吸收率高，需厚度控制在50-100nm，挑戰(zhàn)化學增幅體系的靈敏度。

環(huán)保與低成本：

? 水性負性膠替代溶劑型膠（如PCB阻焊膠），減少VOC排放；

? 單層膠工藝替代多層膠，簡化流程（如MEMS厚膠的一次性涂布）。

新興領域拓展：

? 柔性電子：開發(fā)耐彎曲（曲率半徑＜5mm）、低模量感光膠，用于可穿戴設備電路；

? 光子芯片：高折射率膠（n＞1.8）制作光波導，需低傳輸損耗（＜0.1dB/cm）。

典型產品與廠商

? 半導體正性膠：

? 日本信越（Shin-Etsu）的ArF膠（分辨率22nm，用于12nm制程）；

? 美國陶氏（Dow）的EUV膠（靈敏度10mJ/cm2，缺陷密度＜5個/cm2）。

? PCB負性膠：

? 中國容大感光（LP系列）：耐堿性蝕刻，厚度20-50μm，國產化率超60%；

? 日本東京應化（TOK）的THMR-V：全球PCB膠市占率30%，適用于高可靠性汽車板。

? MEMS厚膠：

? 美國陶氏的SU-8：實驗室常用，厚度5-200μm，分辨率1μm（需優(yōu)化交聯(lián)均勻性）；

? 德國Microresist的MR膠：耐深硅蝕刻，線寬精度±2%，用于工業(yè)級MEMS制造。

光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發(fā)經驗，全自動化生產保障品質!

產品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸

全品類覆蓋

吉田產品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整產品線。例如：

? 芯片光刻膠：覆蓋i線、g線光刻膠，適用于6英寸、8英寸晶圓制造。

? 納米壓印光刻膠：用于MEMS、光學器件等領域，替代傳統(tǒng)光刻工藝。

專業(yè)化延伸

公司布局半導體用KrF光刻膠，計劃2025年啟動研發(fā)，目標進入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應鏈。

質量與生產優(yōu)勢：嚴格品控與自動化生產

ISO認證與全流程管控

公司通過ISO9001:2008質量體系認證，生產環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進口高質量材料，確保產品批次穩(wěn)定性。

質量指標：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。

自動化生產能力

擁有行業(yè)前列的全自動化生產線，年產能達2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。

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光刻膠的技術挑戰(zhàn)現(xiàn)在就是需要突破難關！北京高溫光刻膠國產廠商

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術資料。適用于厚板的光刻加工，在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學儀器、太陽能電池等領域的光刻工藝。品質保障、性能穩(wěn)定的特點，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。北京高溫光刻膠國產廠商

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