真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能：1.2內建內存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計，有助于內部記錄追蹤并可支持數據庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng)：2.1可設定啟動警報的濕度值及條件，內配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內建校正功能，確保顯示準確度。合肥真萍科技的網帶爐是否耐用？上海生產網帶爐批發(fā)

下面為大家介紹一下全自動HMDS真空烤箱的技術指標。1.機外殼采用冷扎鋼板噴塑處理，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、防彈雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。2.箱門閉合松緊能調節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度。3.微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。4.智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。整個系統(tǒng)采用優(yōu)良材料制造，無發(fā)塵材料，適用100級光刻間凈化環(huán)境。杭州燒結網帶爐批發(fā)網帶爐運用再哪些領域？

連續(xù)爐即是連續(xù)作業(yè)爐，是一種連續(xù)地或間歇地裝料，工件在爐內不斷移動，完成加熱、保溫，甚至包括冷卻在內全過程的熱處理爐。連續(xù)作業(yè)爐可借助某些機械部件連續(xù)地或間歇地進行裝料和出料，連續(xù)順序地通過按零件處理工藝要求的不同溫度區(qū)完成加熱過程。使用連續(xù)作業(yè)爐可提高產品質量，提高勞動生產率和改善勞動條件。下面為大家介紹一下連續(xù)爐的產品特性。1.采用智能型溫度控制模塊，PID自動演算，LED顯示，配合SSR大功率可控硅輸出，能控制溫度之精細度；2.分段控制（當到達設定溫度時可任意關掉其中幾段發(fā)熱管，降低加熱功率，其達到省電效果）3.內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼(清潔無塵，防生銹、耐腐蝕)，外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板(強度、塑性和焊接綜合性能相當好)；4.整機控制系統(tǒng)采用觸摸屏加PLC程序控制，設備加熱、運風、傳動、自動門開關均采用智能控制，防止失誤動作；5.當實際檢測溫度超過超溫保護溫控器設定值時，自動切斷加熱電源，起到雙重保護功能。

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產品的高溫燒結、熱處理，下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、熱工系統(tǒng)1.額定溫度800℃2.較高溫度850℃3.加熱元件陶瓷外絲加熱管4.加熱功率18kw5.空爐保溫功率約9kw6.溫區(qū)個數1個7.控溫點數2點8.熱偶K分度9.控溫穩(wěn)定度±1℃(恒溫平臺)10.爐膛溫度均勻度±6℃（恒溫800℃,1h）二、氣氛系統(tǒng)1.爐膛氣氛2路氮氣，流量計量程為2～20L/min；每路流量可調節(jié)2.排氣系統(tǒng)在爐膛頂部設置一個排氣囪，用于廢氣排放，廢氣3.經過水封清洗后進入大氣中，減少對環(huán)境污染4.氧含量配氧含量分析儀分析氧含量：5.高溫狀態(tài)氧含量≤10ppm+氣源氧含量6.低溫狀態(tài)氧含量≤50ppm+氣源氧含量有哪些領域需要使用網帶爐呢？

電熱鼓風烤箱適用于各種產品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的控制系統(tǒng)。一、控制系統(tǒng)1.采用數顯微電腦溫度控制器，控制精確可靠。2.具有定時功能、控溫保護功能，設有風機停轉開關。二、電氣控制系統(tǒng)1.電氣控制元件均采用國內品牌。2.電氣線路設計新穎，合理布線，安全性可靠。3.箱體頂部為電器控制柜，方便于集中檢查維修。網帶爐的功能具體介紹。馬鞍山復合網帶爐

網帶爐的制作方法難嗎？合肥真萍科技告訴您。上海生產網帶爐批發(fā)

本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。上海生產網帶爐批發(fā)