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相機(jī)光斑分析儀優(yōu)勢

來源: 發(fā)布時間:2025-04-08

Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測中的組成部分,高效的測量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準(zhǔn)直等場景進(jìn)行檢驗評估,并提供符ISO11146標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測試模塊,實(shí)現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置、光東發(fā)散角與M2因子的測量。BeamHere把對于激光光束的評價進(jìn)行量化,并由軟件一鍵輸出測試報告,且高效的完成光束分析。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?相機(jī)光斑分析儀優(yōu)勢

光斑分析儀

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像,可測大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配)實(shí)現(xiàn) 1W 功率測量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測,通過面陣實(shí)時反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測,但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復(fù)雜光斑會因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機(jī))、功率等級(高功率選狹縫,微瓦級選相機(jī))及光斑類型(復(fù)雜形態(tài)選相機(jī),高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實(shí)現(xiàn)光斑檢測全場景覆蓋。Dimension光斑分析儀怎么用發(fā)散較大,怎么測量光束質(zhì)量?

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維度光電致力于激光領(lǐng)域的應(yīng)用,將展示一系列針對千瓦級高功率、微米級小光斑以及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。在此次展示中,我們將拆解光斑分析儀的全系列產(chǎn)品,深度剖析其技術(shù),從光學(xué)原理到智能算法,為您層層揭秘。通過實(shí)際操作演示,直觀展現(xiàn)產(chǎn)品在復(fù)雜工況下的良好的穩(wěn)定性和超高測量精度。 我們將詳細(xì)介紹光斑分析儀的工作原理,包括其光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計、信號處理技術(shù)以及數(shù)據(jù)處理算法等環(huán)節(jié)。同時,我們還將展示光斑分析儀在不同應(yīng)用場景中的表現(xiàn),例如在工業(yè)生產(chǎn)、科研探索以及質(zhì)量檢測等方面的實(shí)際應(yīng)用案例。通過這些案例,您可以了解到光斑分析儀如何在各種復(fù)雜環(huán)境下保持高穩(wěn)定性和高測量精度。 此外,針對工業(yè)生產(chǎn)和科研探索的不同需求,我們還將分享一系列精心打造的一站式完備方案。這些方案不僅包括光斑分析儀,還涵蓋了其他相關(guān)設(shè)備和軟件,旨在為您提供專業(yè)的技術(shù)支持和服務(wù)。我們的目標(biāo)是幫助您突破技術(shù)瓶頸,在激光領(lǐng)域取得新的突破,從而推動整個行業(yè)的發(fā)展。

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時檢測。其優(yōu)勢包括: 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實(shí)時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示,高幀率(100fps)連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化,3D 視圖支持任意角度旋轉(zhuǎn)分析,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器技術(shù),可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片(0.1%-100%),通過轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)一鍵切換,可測功率達(dá) 10W/cm2,滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴(kuò)展性 采用模塊化設(shè)計,相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗室的一機(jī)多用。國產(chǎn)光斑分析儀哪個好?維度光電光斑分析儀全系列。

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維度光電Dimension-Labs BeamHere 系列作為全光譜光束分析解決方案,致力于為激光技術(shù)應(yīng)用提供 "一站式" 質(zhì)量管控工具。產(chǎn)品矩陣覆蓋 190-2700nm 超寬光譜,融合掃描狹縫式(2.5μm-10mm 光斑)與相機(jī)式(400-1700nm 成像)兩大技術(shù)平臺,形成從亞微米級高功率檢測到毫米級動態(tài)監(jiān)測的立體覆蓋。通過 ISO 11146 認(rèn)證的 M2 因子測試模塊,結(jié)合 AI 算法,實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量的量化評估與預(yù)測。模塊化設(shè)計支持設(shè)備功能動態(tài)擴(kuò)展,適配激光加工、醫(yī)療、科研等多場景需求,助力客戶構(gòu)建智能化光束檢測體系。光束質(zhì)量M2怎么測量?光斑大小光斑分析儀怎么選型

激光光斑的光斑尺寸、形狀、強(qiáng)度分布、M2因子、空間位置與穩(wěn)定性測試。相機(jī)光斑分析儀優(yōu)勢

維度光電國產(chǎn)光束質(zhì)量分析解決方案破局之路 國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析市場長期被歐美品牌壟斷,存在三大痛點(diǎn):產(chǎn)品型號單一(無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測)、定制周期漫長(3-6 個月周期)、服務(wù)響應(yīng)滯后(返廠維修影響生產(chǎn) 35 天 / 次)。 全場景產(chǎn)品矩陣 狹縫式:0.1μm 分辨率,直接測 10W 激光,支持 ±90° 任意角度掃描,滿足半導(dǎo)體加工等亞微米級需求 相機(jī)式:5.5μm 像元精度,6 片濾光片轉(zhuǎn)輪實(shí)現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測,擅長復(fù)雜光斑分析 定制化服務(wù):12 項定制選項(波長擴(kuò)展、自動化接口等),短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷,為智能制造、醫(yī)療科技等提供技術(shù)支撐。相機(jī)光斑分析儀優(yōu)勢

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