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江蘇電鑄硬銅N乙撐硫脲銅箔工藝

來源: 發(fā)布時間:2025-04-18

N乙撐硫脲在高溫(45-60℃)酸性鍍銅工藝中展現(xiàn)良好穩(wěn)定性,適配熱帶地區(qū)或連續(xù)生產(chǎn)場景。其與耐高溫中間體H1、AESS協(xié)同作用,確保鍍層光亮度(反射率≥90%)與韌性(延伸率≥12%)在極端條件下無衰減。通過動態(tài)濃度監(jiān)測系統(tǒng),0.0002-0.0004g/L用量可實時調(diào)整,避免高溫導(dǎo)致的鍍液分解(有機雜質(zhì)生成量降低50%)。江蘇夢得提供定制化冷卻循環(huán)方案,結(jié)合活性炭吸附技術(shù),解決高溫鍍層樹枝狀條紋問題,良率穩(wěn)定在95%以上,助力企業(yè)應(yīng)對嚴(yán)苛生產(chǎn)環(huán)境。在電化學(xué)催化領(lǐng)域,我們的創(chuàng)新產(chǎn)品明顯提高工業(yè)生產(chǎn)效率。江蘇電鑄硬銅N乙撐硫脲銅箔工藝

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線路板鍍銅工藝配方注意點:N與SH110、SPS、M、P、SLP、SLH等中間體合理搭配,組成性能優(yōu)良的線路板酸銅添加劑,N建議工作液中的用量為0.0001-0.0003g/L,N含量過低時鍍層的光亮度整平性均會下降,鍍層發(fā)白;N含量過高時鍍層會產(chǎn)生樹枝狀光亮條紋,一般可加入SP或活性炭吸附電解處理。電鑄硬銅工藝配方注意點:N與SPS、SH110、PN、M、H1、AESS等中間體合理搭配,組成雙劑型硬銅電鍍添加劑,N通常放入在硬度劑中,建議工作液中的用量為0.01-0.03g/L,N含量過低時銅層硬度下降,鍍層發(fā)白;N含量過高時鍍層會產(chǎn)生樹枝狀光亮條紋,銅層產(chǎn)生脆性,一般可加入SP或活性炭吸附,電解處理。

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