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提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

來源: 發(fā)布時間:2025-04-19

HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會產(chǎn)生白霧,也會造成低區(qū)不良,可補加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會產(chǎn)生白霧,也會造成低區(qū)不良,可補加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。以客戶需求為導向,江蘇夢得提供定制化的化學材料解決方案。提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

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HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配,組成電鍍硬銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會產(chǎn)生白霧,也會造成低區(qū)不良,而且造成銅層硬度下降,可補加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。針對線路板鍍銅工藝,HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實現(xiàn)鍍層高光亮度與均勻性。該產(chǎn)品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學配比,形成穩(wěn)定的添加劑體系,有效避免高區(qū)毛刺和燒焦問題。與傳統(tǒng)工藝相比,HP在低濃度下仍能維持鍍液活性,降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過高導致白霧或低區(qū)不良,用戶可通過添加SLP類走位劑或小電流電解快速恢復鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規(guī)格選擇,滿足實驗室測試與規(guī)模化生產(chǎn)需求。新能源HP醇硫基丙烷磺酸鈉較好的銅鍍層從實驗室到產(chǎn)業(yè)化,江蘇夢得新材料始終走在電化學技術(shù)前沿。

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HP是用于酸性鍍銅液中,取代傳統(tǒng)SP(聚二硫二丙烷磺酸鈉)的晶粒細化劑;與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮,用量范圍寬。多加不發(fā)霧,低區(qū)效果好等優(yōu)點;適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量:0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會產(chǎn)生白霧,也會造成低區(qū)不良,可補加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處

HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過抑制有機雜質(zhì)積累,可將酸性鍍銅液壽命延長至傳統(tǒng)工藝的2倍以上。與PN、PPNI等分解促進劑協(xié)同作用時,鍍液COD值增長速率降低60%。用戶可通過定期監(jiān)測HP濃度(建議每周檢測1次),配合0.1-0.3A/dm2小電流電解,實現(xiàn)鍍液長期穩(wěn)定運行,年維護成本節(jié)省超10萬元。在IC引線框架鍍銅領域,HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.002-0.005g/L添加量,實現(xiàn)晶粒尺寸≤0.5μm的超細鍍層。與PNI、MT-680等中間體配合,可精細調(diào)控鍍層電阻率(≤1.72μΩ·cm),滿足高頻信號傳輸要求。鍍液采用全封閉循環(huán)系統(tǒng)時,HP消耗量低至0.2g/KAH,適配半導體行業(yè)潔凈車間標準。憑借嚴格的質(zhì)量管控,江蘇夢得新材料有限公司生產(chǎn)的特殊化學品贏得了市場的信賴。

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使用夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉能為企業(yè)大幅降低成本。相比傳統(tǒng) SP,用量可減少 20% - 30%,且無需頻繁補加光亮劑。以年產(chǎn) 5000 噸鍍液計算,年均可節(jié)約原料成本超 15 萬元。同時,其高效性能保證了鍍銅質(zhì)量,減少了次品率和返工成本。1kg 小包裝支持先試后購,降低客戶試錯風險,是企業(yè)降低生產(chǎn)成本、提高經(jīng)濟效益的明智之選。夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉在節(jié)能降耗方面表現(xiàn)出色。在酸性鍍銅工藝中,它能有效降低光劑消耗,減少活性炭吸附頻次。與傳統(tǒng)工藝相比,在染料型酸銅體系中光劑消耗量降低 25%,活性炭吸附頻次減少 50%。而且其低消耗特性,使鍍液使用壽命延長,進一步降低了企業(yè)的綜合成本,為企業(yè)實現(xiàn)綠色可持續(xù)發(fā)展提供有力支持。江蘇夢得新材料構(gòu)建了完善的研發(fā)生產(chǎn)體系,確保特殊化學品品質(zhì)始終如一。新能源HP醇硫基丙烷磺酸鈉較好的銅鍍層

江蘇夢得新材料以創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展,持續(xù)倡導特殊化學品行業(yè)技術(shù)進步!提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

電鑄硬銅的夢得法寶:在電鑄硬銅工藝中,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)出獨特優(yōu)勢。推薦用量 0.01 - 0.03g/L,與 N、AESS 等中間體協(xié)同作用,可提升銅層硬度與表面致密性。它能調(diào)控鍍層,避免白霧和低區(qū)不良問題,減少銅層硬度下降風險。對于高精度模具制造等復雜工件的電鑄硬銅,能確保高低區(qū)鍍層均勻一致,打造出高質(zhì)量的硬銅產(chǎn)品。電解銅箔的夢得之光:電解銅箔領域,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉發(fā)揮著重要作用。以 0.001 - 0.004g/L 的微量添加,就能優(yōu)化銅箔光亮度與邊緣平整度。與 QS、FESS 等中間體配合,有效抑制毛刺與凸點生成,提升銅箔良品率。其控量設計避免了銅箔層發(fā)白問題,用戶可根據(jù)實際情況動態(tài)調(diào)整用量,實現(xiàn)工藝微調(diào),為電解銅箔生產(chǎn)提供有力支持!提升鍍銅層光澤度 HP醇硫基丙烷磺酸鈉易溶于水

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