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湖北國產CeYAP晶體品牌

來源: 發(fā)布時間:2021-12-24

生長CeYAP晶體批發(fā)價過渡金屬摻雜對YAP晶體透過邊有哪些影響?Ce: YAP晶體自吸收機制分析,從以上實驗可以看出,存在自吸收的累積效應,隨著厚度和濃度的增加而增加。在氧氣氛中退火后,自吸收增加,而在還原氣氛中,自吸收減少。自吸收隨ce離子濃度的增加而增加,與Ce離子有明顯的相關性,說明雜質離子引起自吸收有兩種可能:一種可能是Ce原料附帶的;另一種可能是其他原料中的雜質可以與Ce離子相互作用形成吸收中心。如果Ce原料上有雜質附著,CeO2原料純度為5N,Ce離子的熔體濃度小于0.6%,兩者之間的倍增為0.1ppm數(shù)量級,那么這種雜質的可能性很小。我們生長的Ce: YAP 在350nm到500nm范圍內不存在額外吸收峰。湖北國產CeYAP晶體品牌

鈰離子摻雜的高溫閃爍晶體具有高光輸出和快速衰減等閃爍特性,是無機閃爍晶體的重要發(fā)展方向。Ce:YAP和Ce:YAG高溫閃爍晶體具有良好的物理化學性質,在無機閃爍晶體中占有優(yōu)勢,在探測中低能粒子射線方面有很大的潛在應用。隨著應用要求的變化,閃爍晶體的尺寸越來越大,生長大尺寸的閃爍晶體變得越來越重要。同時,國內生長的Ce:YAP晶體的自吸收問題長期存在,導致無法有效提高光產額。因此,解決自吸收問題,生長大尺寸Ce:YAP晶體對閃爍材料的研究和應用具有重要意義。河北雙摻CeYAP晶體廠家直銷YAP基體中Mn離子和Ce離子之間存在明顯的能量轉移過程。

從Ce3+ 離子2F7/2和2F5/2 態(tài)能級在YAP 晶體中的能級分裂看,2F7/2能級在晶體場中分裂的子能級寬度對應波數(shù)范圍為3250 cm-1到2085cm-1, 2F5/2 態(tài)能級分裂的子能級寬度范圍為500 cm-1左右, 5d比較低能級的對應波數(shù)為33000 cm-1??梢缘玫紺e3+ 在YAP基質中激發(fā)譜(d-f 躍遷)的比較低能級躍遷的波長為336.1nm(29750 cm-1),因此316nm的激發(fā)峰成分雖然發(fā)光波長比較偏紅光方向,但仍在允許范圍內。當激發(fā)波長從294nm(34013cm-1)到316nm(31645 cm-1)變化時,各子能級都有可能被激發(fā),且不同能量激發(fā)時各子能級之間的躍遷強度比可能會有所差別。

過渡金屬離子摻雜對YAP晶體透射邊緣的影響,由于過渡金屬離子D層具有更多的電子能級,容易受到晶場的影響,因此YAP晶體中可能存在更多的吸收帶。為了了解過渡金屬摻雜對Ce: YAP自吸收的可能影響,我們比較了摻雜過渡金屬如銅(0.5%)、鐵(0.5%)和錳(0.5%)的純YAP晶體的透射光譜。從圖4-11可以看出,Mn摻雜的yap在480nm處有明顯的吸收峰,而Cu摻雜的YAP在370nm左右有吸收峰,F(xiàn)e摻雜的YAP將在下一節(jié)討論。我們生長的Ce: YAP在350nm ~ 500nm范圍內沒有額外的吸收峰,少量過渡金屬離子的存在只會對吸收產生線性疊加效應,低濃度吸收不足以引起Ce: YAP晶體的自吸收,因此過渡金屬離子污染不太可能引起Ce3360Yap吸收帶紅移。同時,GDMS分析結果還表明,我們生長的Ce: YAP晶體中過渡金屬的含量小于10ppm,對晶體發(fā)光的影響可以忽略不計。不同溫度退火的Fe: YAP樣品的吸收光譜和差分吸收光譜。

上式(1.10)中的Wi是構成晶體的原子I的重量百分比,Zi是構成晶體的原子I的原子序數(shù)。入射到晶體中的光子和電子(或正電子)在晶體中經過一定距離后能量下降到1/e。這個距離稱為晶體的輻射長度(通常表示為X0)。它袋表閃爍體對輻射的截止能力。從上面的定義可以得出結論:X0=1/ (1.11)可以看出,輻射長度(X0)與吸收系數(shù)()成反比,所以吸收系數(shù)越大。輻射長度越短。輻射長度可由以下公式近似表示:X0=180A/(Z2) (1.12)其中a為原子量,z為有效原子數(shù),為密度。從這個公式可以看出,有效原子序數(shù)和密度越高,晶體的輻射長度越短。由于電磁量熱儀用閃爍晶體的長度一般為20 X0,因此使用輻射長度較小的晶體有利于減小探測器的尺寸。另一方面,輻射長度越長,所需的材料越長,很難保證材料的均勻性。晶體生長過程中大的溫度梯度以及快的降溫速率等是CeYAP晶體產生開裂的主要原因。河北雙摻CeYAP晶體廠家直銷

結果發(fā)現(xiàn)兩價離子對Ce:YAP晶體閃爍性能有很強的負面影響,四價離子則有于助提高晶體的部分閃爍性能。湖北國產CeYAP晶體品牌

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