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浙江應(yīng)用BOE蝕刻液推薦貨源

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-01-22

    本實(shí)用新型屬于廢液處理領(lǐng)域,尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù):酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液,隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,產(chǎn)生的廢液量越來越大,發(fā)掘的污染物種類也越來越多,對環(huán)境造成巨大的危害,此類問題也成為社會(huì)的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,我們需要對酸性蝕刻液進(jìn)行回收循環(huán)利用。目前對于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法,但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大,比重增加,必須排掉一部分廢液或者補(bǔ)加子液和水來控制參數(shù),這樣污染大,影響環(huán)境,而且還會(huì)造成銅和酸的浪費(fèi)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題為如何通過簡單、低成本的技術(shù)實(shí)現(xiàn)種酸性蝕刻液電解后廢液的再生利用。為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),包括:電解槽,具有一出液口和出氣口,且內(nèi)置有酸性蝕刻液,用于對所述酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅,產(chǎn)生氯氣,得到電解后液;再生液調(diào)配缸,具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口,所述進(jìn)液口通過管道與所述電解槽的出液口連接以接收電解后液;射流器,其進(jìn)氣口通過導(dǎo)氣管與所述電解槽的出氣口連接以接收所述氯氣。BOE蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場合?浙江應(yīng)用BOE蝕刻液推薦貨源

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中,一般是采用熱磷酸對氮化硅進(jìn)行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展,器件的特征尺寸越來越小,集成度越來越高,對制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來越高,如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí),晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測量時(shí),檢測點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸、%的醇醚類、%的表面活性劑。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液。湖北一種BOE蝕刻液廠家現(xiàn)貨好的BOE蝕刻液的標(biāo)準(zhǔn)是什么。

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