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浙江專業(yè)BOE蝕刻液私人定做

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-14

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來(lái)改善磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中,一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來(lái)蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展,器件的特征尺寸越來(lái)越小,集成度越來(lái)越高,對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來(lái)越高,如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí),晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測(cè)量時(shí),檢測(cè)點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問(wèn)題,通過(guò)在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸、%的醇醚類、%的表面活性劑。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液。

    形成氣液混合體,從擴(kuò)散管22排出又進(jìn)入到再生液調(diào)配缸3。電解再生某線路板生產(chǎn)線蝕刻廢液,蝕刻廢液量1000m3/d,相比沒(méi)有使用本實(shí)用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng),能耗節(jié)約40%,節(jié)約使用藥品100kg/d,經(jīng)濟(jì)效益提高30%。作為本實(shí)施例的一個(gè)示例,電解槽1的陽(yáng)極可選用石墨電極,陰極可選用鈦或鈦合金板狀電極,電解槽1中陰極與陽(yáng)極之間的距離為55mm,電解槽1的電流密度為300a/m2。與實(shí)施例相結(jié)合,圖2示出了本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu),在實(shí)施例的基礎(chǔ)上,第二實(shí)施例進(jìn)一步包括曝氣裝置5,曝氣裝置5通過(guò)管道深入到再生液調(diào)配缸3的液體中,用于向再生液調(diào)配缸3中的電解后液輸送氣體以進(jìn)行攪拌,以提高整個(gè)系統(tǒng)的工作效率。進(jìn)一步地,與上述、第二實(shí)施例相結(jié)合,酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還可以包括一后續(xù)處理系統(tǒng),用于向經(jīng)過(guò)再生液調(diào)配缸3處理過(guò)的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻,然后再打入到子液桶,實(shí)現(xiàn)再生液循環(huán)利用。以上所述為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。BOE蝕刻液生產(chǎn)廠家就找蘇州博洋化學(xué)股份。

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