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安徽如何分類BOE蝕刻液

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-05-14

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    odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanproducirarcosotemperaturaselevadas,cuandoseempleentubosdeacero,sedeberáevitarelpasodegasesovaporesinflamables,paraelloserealizaráelselladodeestospasosmediantelautilizacióóndelmaterialeléctricoserárealizadadeacuerdoconelartíéctricos,serealizarádeacuerdoconelmododeproteccióéctrico,paraentradasdecablesnoutilizados,deberáncerrarsemediantepiezasacordes,alobjetodemantenerelmododeproteccióóndefuerzaserealizarádesdeuncuadrodedistribución,compuestoporuninterruptorautomáticodeproteccióngeneral,undiferencialmásunaseriedesalidasseparadasporcadareceptor,cadaunaconproteccióóngeneralseinstalaráóngeneraldelasinstalacionessellevaráacaboconlamáximaintensidadyamplitudqueseaposible,suplementadosporaparatoslocalesenlospuntosqueserequieraobservacióónseestablecerádemaneraqueprocurelamayorseguridaddelpersonalquetrabajedenoche。福建工業(yè)級(jí)BOE蝕刻液產(chǎn)品介紹BOE蝕刻液公司的聯(lián)系方式。

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    這是除去固體顆粒、電子流、水、或者或多或少具有極性的油脂污染的要求。在精細(xì)清洗中,經(jīng)常存在裝有凹槽、肋條或盲孔的非常復(fù)雜的部件,必須用溶劑對(duì)其進(jìn)行潤濕,以使溶劑在這些難洗位置發(fā)揮作用。氟化溶劑來自提供表面的可能性的潤濕的溶劑類型,其中,所述表面的可能性的潤濕以非常低的表面張力表示(例如,相對(duì)于,HCFC141b為)。高潤濕的另一優(yōu)點(diǎn)是得到基底的較快干燥。在幾乎相同的分子量下,氟化溶劑具有較低的沸點(diǎn)和較高的蒸氣壓。因此,HCFC141b在32°C下沸騰而氯仿在61°C下沸騰。這兩種性質(zhì)(低沸點(diǎn)和高蒸氣壓)有利于這些溶劑在利用蒸氣相操作的常規(guī)工業(yè)機(jī)器中的應(yīng)用,使得能夠進(jìn)行部件的漂洗和干燥,而且使得被連續(xù)蒸餾的溶劑能夠再生。這些機(jī)器裝有用于通過冷凝而使蒸氣在盤管上冷卻的大功率(heavy-duty)系統(tǒng),這些機(jī)器的操作方法使得所用高蒸氣壓的缺點(diǎn)小化。工業(yè)家們期望可用于他們的現(xiàn)有機(jī)器存貨的替代解決方案。此外,氫氟烴地用于制冷和傳熱過程。本發(fā)明提供具有低GWP且具有可生物降解的優(yōu)點(diǎn)的組合物。根據(jù)本發(fā)明的組合物含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F90R的九氟丁基烷基醚,其中R具有14個(gè)碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。有利地。

    P101WX7-300BP101WX1-206BP101WX4-206BP101WX1-207BP101WX4-300BP101WX1-204BA101WS2-101BP101WX1-400BP101WX1-210BP101WX1-201BP101WX1-209BP101WX7-100TT101WSB-NW0M097SNX1BP096WX7-100BA090WV2-100HT089WSA-100BP082WX1-100BP080WX7-100BP080WX1-100BP080WX2-200TV080WUM-NL0BP080WX1-200BP080WU1-100BP080WX7-101BP080WX7-200AV080WSM-NW0TT080WXG-N11BP080WX3-200RearviewMirrorTV079X0S-NA0TV079X0Q-N50BP073WX1-100BP070WX2-100HV070WSA-100BP070WX1-100BA070WS1-200BP070WS6-100BA070WV4-200BA070WS1-100BA070WV4-300BA070WS2-101BP070WS1-500BA070WV2-300BP070WS1-400BA070WV4-100BP070WS1-102BP070WS1-200BA070WS1-400BA070WS1-401BP070WSA-400BP070WX1-300TV070WSU-N40BP070WS1-401TT070WSQ-N10BP070HD1-100TT070WSB-NW0TT070WSB-NW1BP070WS1-600TV070WVE-N10BP070WS7-500TV070WSU-N10TT070WSQ-N80BA070WV2-100TV070WSG-N80BP070WX6-400BA060WV3-100BA060WV2-100BA060WV1-100BF060SQQ-100BP060HD4-100BF057HDM-100BF055QHQ-100BF055HDQ-100BS055FHG-N41-6900BV055FHM-N00BF053HDMU401BS053HDG-N50-6200BA050WQ2-200BF050QHQ-100BTL505496-W619LBTL507212-W575LB。BOE蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場合?

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    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑,來改善磷酸的浸潤性和表面張力,使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù):氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料,氫氟酸和熱磷酸能對(duì)氮化硅進(jìn)行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中,一般是采用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻,一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展,器件的特征尺寸越來越小,集成度越來越高,對(duì)制造工藝中的各工藝節(jié)點(diǎn)要求也越來越高,如蝕刻工藝中對(duì)蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對(duì)氮化硅進(jìn)行蝕刻時(shí),晶圓表面會(huì)出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象,體現(xiàn)于在蝕刻前后進(jìn)行相同位置取點(diǎn)的厚度測量時(shí),檢測點(diǎn)之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題,通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實(shí)現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液,所述蝕刻液的組成包括:占蝕刻液總重量≥88%的磷酸、%的醇醚類、%的表面活性劑。進(jìn)一步地,本發(fā)明涉及上述蝕刻液。安徽如何分類BOE蝕刻液

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