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四川美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-01-12

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng),進(jìn)EDI氧化劑超量,導(dǎo)致EDI樹脂破碎,堵塞產(chǎn)水通道,水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖荆苯訉?dǎo)致EDI樹脂破碎,進(jìn)出水壓差增大,造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動(dòng)運(yùn)行時(shí),在缺水狀態(tài)下加電,直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化,清洗無效,無法使用。

  6、IONPUREEDI模塊進(jìn)水前無保安濾器,或安裝時(shí)沒有徹底清洗管道和水箱,導(dǎo)致異物堵塞EDI通道,進(jìn)出水壓差增大,造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降,清洗無效。

  7、出廠時(shí)產(chǎn)品不合格,使用一段時(shí)間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 購買美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保是不二之選。四川美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件﹐DC電源供應(yīng)器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設(shè)備之后并提供下列優(yōu)勢(shì)。 *最穩(wěn)定及符合工業(yè)級(jí)需求之比較好原件 *百分百避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) *機(jī)簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求 *提供完整之電源供應(yīng)原件 *可提供單一膜塊獨(dú)立電源供應(yīng) *可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫專用膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機(jī)再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無廢水排放 江蘇專業(yè)美國IONPURE EDI模塊哪家好美國IONPURE EDI模塊請(qǐng)使用正規(guī)產(chǎn)品。

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美國IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設(shè)備進(jìn)水指標(biāo)要求

◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計(jì)):<25ppm。

◎電導(dǎo)率:<40μS/cm

◎PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí),EDI最 佳工作的pH范圍為8.0~9.0。

◎溫度: 5~35℃。

◎進(jìn)水壓力:<4bar(60psi)。

◎硬度:(以CaCO3計(jì)):<1.0ppm。

◎有機(jī)物(TOC):<0.5ppm。

◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。

◎變價(jià)金屬: Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。

◎H2S:<0.01ppm。

◎二氧化硅:<0.5ppm。

◎色度:<5APHA。

◎二氧化碳的總量:<10ppm

◎ SDI15min:<1.0。

清洗

隨著工作時(shí)間的累積,需要對(duì)美國IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?

-硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi);

-在離子交換樹脂或膜形成無機(jī)物污垢(例如,硅);

-在離子交換樹脂或膜形成有機(jī)物污垢;

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢;

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說明將同時(shí)提供給用戶。

例行的消毒最 好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。 上海純超環(huán)保出售正 品美國IONPURE EDI模塊。

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離子進(jìn)入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時(shí)候,其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過程,這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室,從頂部出來;淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊,則從模塊底部出來;極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流,只是分別進(jìn)入不同的室(極水室和濃水室),并從模塊頂部排出。


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(5) TOC(總有機(jī)碳)的影響。

  進(jìn)水中如果有機(jī)物含量過高,會(huì)造成樹脂和選擇透過性膜的有機(jī)污染,導(dǎo)致系統(tǒng)運(yùn)行電壓上升,產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時(shí)也容易在濃縮水通道形成有機(jī)膠體,堵塞通道。


(6)進(jìn)水中CO2的影響。

  進(jìn)水中CO2生成的HCO3-是弱電解質(zhì),容易穿透離子交換樹脂層而造成產(chǎn)水水質(zhì)下降。


(7)總陰離子含量(TEA)的影響。

  高的TEA將會(huì)降EDI模塊產(chǎn)水電阻率,或需要提EDI模塊運(yùn)行電流,而過高的運(yùn)行電流會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)電流增大,極水余氯濃度增大,對(duì)極膜壽命不利。

  另外,進(jìn)水溫度、pH值、SiO2以及氧化物亦對(duì)IONPUREEDI模塊系統(tǒng)運(yùn)行有影響 四川美國IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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