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TIO去膜藥劑哪家性價比高

來源: 發(fā)布時間:2021-10-11

ITO蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機(jī)理是:酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量的特性;同時,它的溶銅量大;酸性蝕刻液也較容易再生與回收,從而減少污染。有研究表明,酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,以硝酸為基礎(chǔ)的蝕刻系統(tǒng)可以做到幾乎沒有側(cè)蝕,達(dá)到蝕刻的線條側(cè)壁接近垂直,其蝕刻效果非常好。結(jié)合以上特性,酸性蝕刻液一般用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作。ITO顯影液是銀鹽膠片顯影用的藥液。TIO去膜藥劑哪家性價比高

影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時,蝕刻時間長;在82~120g/L時,蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時,蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時,溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。2、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。蘇州觸摸屏銅網(wǎng)格黑化廠家地址ITO顯影液是一種重要的濕電子化學(xué)品。

ITO蝕刻液蝕刻過程中應(yīng)注意的問題:減少側(cè)蝕和突沿,提高蝕刻系數(shù)側(cè)蝕產(chǎn)生突沿。通常印制板在蝕刻液中的時間越長,側(cè)蝕越嚴(yán)重。側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度,嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能。當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時,蝕刻系數(shù)就升高,高的蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力,使蝕刻后的導(dǎo)線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫-鉛合金,錫,錫-鎳合金或鎳,突沿過度都會造成導(dǎo)線短路。因?yàn)橥谎厝菀讛嗔严聛恚趯?dǎo)線的兩點(diǎn)之間形成電的橋接。

ITO導(dǎo)電玻璃制造工藝:(1)電化學(xué)擴(kuò)散工藝:在玻璃上用電化學(xué)擴(kuò)散方法可獲得摻雜超導(dǎo)薄膜。玻璃在電化學(xué)處理裝置中與熔融金屬或化合物接觸,在一定的電場作用下,熔融金屬或化合物中的離子會擴(kuò)散到玻璃表面,玻璃中的一價堿金屬離子離解處來,等量地擴(kuò)散至陰極表面,使玻璃表面的化學(xué)組成發(fā)生變化。性能隨之改變。(2)高溫噴涂和等離子體噴涂工藝:這種技術(shù)是將粉末狀金屬或非金屬、無機(jī)材料加熱至熔化或未熔化狀態(tài),并進(jìn)一步加溫使其霧化,形成高溫高速焰流噴向需噴涂的玻璃基體。采用這種方式可以先在基體上制備YBaGUOx等涂層,在經(jīng)過熱處理可成為超導(dǎo)性材料。ITO顯影液的濃度偏低時,堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。

ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。Cl-含量的影響。溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關(guān)系,當(dāng)鹽酸濃度升高時,蝕刻時間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對設(shè)備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時,生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來,從而提高了蝕刻速率。ITO顯影劑氧化物與乳劑層的成色劑作用生成有機(jī)染料。觸摸屏生產(chǎn)藥水庫存充足

ITO酸性蝕刻液一般用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作。TIO去膜藥劑哪家性價比高

ITO顯影劑的兩液顯液:兩液顯影主要作用是用于加強(qiáng)陰影部分的影紋,減低高影調(diào)部分的密度。曝光時,陰影部分須比正常提高一個區(qū)。如果膠片容易發(fā)灰,在溶液B中加入少量的10%溴化鉀溶液。底片上的高密度部分的厚度,主要依靠A溶液顯影時間的控制,底片進(jìn)入溶液B以后,高密度部分的顯影作用已經(jīng)停止了,但低密度的部分仍然繼續(xù)進(jìn)行,溶液B可以調(diào)制的比較強(qiáng),但是B溶液越強(qiáng),顆粒就會越粗,所以這種沖洗法需要事前進(jìn)行比較大量的試驗(yàn)。TIO去膜藥劑哪家性價比高

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